JPH0417096B2 - - Google Patents

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JPH0417096B2
JPH0417096B2 JP58105680A JP10568083A JPH0417096B2 JP H0417096 B2 JPH0417096 B2 JP H0417096B2 JP 58105680 A JP58105680 A JP 58105680A JP 10568083 A JP10568083 A JP 10568083A JP H0417096 B2 JPH0417096 B2 JP H0417096B2
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JP
Japan
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catalyst
gas
sio
nox
denitrification
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JP58105680A
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Noboru Yamazoe
Tetsuo Seiyama
Kazunari Igawa
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Tosoh Corp
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Tosoh Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス中の窒素酸化物(以下、NOx
と略称する)をアンモニアによつて選択的に還元
する触媒及び該触媒を使用する、NOx含有ガス
の脱硝方法に関するものである。 工業プラント、自動車等から排出される排ガス
中のNOxは光化学スモツグの発生原因ともなり
得るので、その効果的処理手段は望まれている。 従来から多数の脱硝方法が提案されており、中
でもアンモニアを還元剤とするNOxの接触還元
法は、排ガス中に酸素が多量に共存していても、
次式で示されるようにアンモニアが選択的に
NOxと反応し、NOxが無害な窒素ガスと水蒸気
に還元されるので好ましい方法とされている。 6NO+4NH3=5N2+6H2O 6NO2+8NH3=7N2+12H2O この方法で使用される触媒としては種々提案さ
れ、例えば、白金、パラジウム、ロジウム等の貴
金属成分を担体に担持させた触媒、あるいは銅、
鉄、バナジウム、クロム、モリプデン等の卑金属
成分を担体に担持させた触媒がある。しかし、一
般的に前者の場合、排ガス中に存在するイオウ酸
化物(以下、SOxと略称する)によつて被毒され
る欠点を有しており、又、後者の場合は、高い活
性を得るのに反応温度を高くし、かつ接触時間を
長くするという不利な条件で処理を行う必要があ
る。その他の触媒として結晶性アルミノ珪酸塩
(以下、ゼオライトという)を用いる方法が提案
されている。例えば、水素型合成ゼオライト、特
にHX、HY、Hモルデナイトを触媒とする方法
が特開昭57−140628号公報に開示されている。こ
の方法は、500〜700℃と高温でなければ高い脱硝
率が得られない。又、銅イオンで一部陽イオン交
換したNaYゼオライト(以下、Cu()−NaYと
略称する)を触媒とする方法も提案されている。 本発明者らもCu()−NaYに関し幅広い研究
を重ね次の知見を得た。 即ち、Cu()−NaYは200〜300℃という低温
でも高い活性を示す。ところが、排ガスに水分が
含まれていると、低温では水の細孔凝縮が起こり
活性が低下する。更には、SOxが含まれている
と、特に200ppm以上含まれていると不可逆的な
活性劣化を起こすので実用触媒としては不適当で
ある。 本発明者らは、これら知見を背景に低温でも活
性が高く、更にSOx共存系でも活性劣化のない触
媒を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、銅イオン
を含み、かつ特定の結晶構造を有するゼオライト
がアンモニアによるNOxの選択的還元触媒とし
て極めて高い活性を有し、又、その高い活性は
SOxが共存した場合でも不可逆的な劣化をするこ
となく、更には長時間その活性が維持されること
を見い出し、本発明を完成させるに至つた。 以下、本発明を詳細に説明する。 ゼオライトの基本構造は、珪素を中心として形
成される4つの酸素が頂点に配置したSiO4四面
体と、この珪素の代りにアルミニウムが置換した
AlO4四面体とが、O/(Si+Al)の原子比が2
となるように、酸素を共有しながら規則正しく三
次元的に配列している。 AlO4四面体の負電荷はアルカリ金属やアルカ
リ土類金属の陽イオンを含むことによつてバラン
スされている。又、四面体の配列の仕方で種々の
大きさの細孔が形成され、細孔内に通常水分子や
交換可能な陽イオンが存在している。脱水活性化
されたゼオライトは、その細孔形状に応じ、特定
の分子をその細孔に捕捉することができるので、
分子篩として使用されている。又、陽イオンをプ
ロトンや他の金属陽イオンに置換することによつ
て酸性質を示すので、固体酸として炭化水素の転
化反応触媒として使用される。 ゼオライトは、種々の結晶構造、化学組成を持
つものが知られており、X線粉末回折で明瞭に区
別できる。又、その違いにより吸着特性、イオン
交換特性、触媒特性が異なり、夫々異なるゼオラ
イト名が付けられている。これらの内、モルデナ
イト、オフレタイト、エリオナイト、クリノプチ
ロライト、チヤバサイトなどは天然にも産し、
又、水熱合成によつても合成できる。ゼオライト
A、X、Yは天然には産せず、水熱合成によつて
のみ合成できる。 本触媒の基剤となりうるのは、これら多種類に
わたるゼオライトの中でも特定のゼオライトに限
られる。本発明で特定するゼオライトは天然には
存在せず、例えば次のような方法で合成すること
ができる。SiO2源、Al2O3源、Ha2O源及び水と
から、酸化物モル比で表わして下記の組成の反応
混合物を調製する。 SiO2/Al2O3=20〜200 Na2O/SiO2=0.05〜0.3 H2O/SiO2=12〜70 次に、該反応混合物を120〜220℃で10〜200時
間加熱結晶化する。生成物を固液分離、水洗、乾
燥すると、次の組成のゼオライトを得る。 (0.8〜2)Na2O・Al2O3・(15
〜60)SiO2・ZH2O (ただし、Zは0又は正の数で乾燥程度で異な
る。) 本触媒を製造する上で、このようにして得たゼ
オライトを基剤とすることが必須であることか
ら、該ゼオライトを本触媒基剤と呼ぶこととす
る。 本触媒基剤は、X線粉末回折図から判断し、三
次元的に発達、構成された5〜6Åの細孔を有す
る、10員酸素環型ハイシリカゼオライトであると
推定できる。なお、合成に際し、原料反応混合物
には結晶化を促進する適当な有機物あるいは無機
物の鉱化剤を含んでいても良い。ただし、その場
合、前述した生成物のNaイオンの一部は添加し
た陽イオンで一部置換される。そのような例とし
て、テトラプロピルアンモニウムイオンを共存さ
せて合成する、いわゆるZSM−5がある。本触
媒基剤としてZSM−5も使用することができる。 本触媒基剤を、不純物が無く、高品質でかつ経
済的に製造する目的で最も好ましい製造は、珪酸
ソーダ水溶液などのアルカリ金属珪酸塩水溶液
と、硫酸アルミニウム水溶液などの含アルミニウ
ム水溶液とを連続的に反応させることによつて得
た粒状無定形アルミノ珪酸塩均一化合物を、アル
カリ金属水溶液及び/又はアルカリ金属珪酸塩水
溶液中で加熱、結晶化する方法である。この方法
については、本出願人が先にした特許出願(特願
昭57−162123)明細書に詳細に開示されている。
然るに、このようにして得た本触媒基剤をそのま
ま脱硝反応に供しても殆ど活性を示さない。 本発明法の触媒(以下、本触媒と略称する)
は、本触媒基剤を塩化銅などの鉱酸塩、酢酸銅な
どの有機酸塩水溶液などと接触させることによつ
て得られる。銅イオンを含む水溶液との接触によ
つて、銅イオンはCu+、Cu2+、CuOH+として本
触媒基剤のNa+と交換するものと思われる。望ま
しい銅イオンの含有率は、CuO/Al2O3モル比で
表示して0.5〜2である。又、本触媒のSiO2
Al2O3モル比は15〜60であることが必須であり、
好ましくは18〜40である。SiO2/Al2O3モル比が
40を越えるとSOx共存による触媒劣化が無視でき
なくなる。本触媒のSiO2/Al2O3モル比は、使用
する本触媒基剤のそれと実質的に変らない。又、
本触媒の特異的結晶構造は本触媒基剤のそれと基
本的に変わることなく、常法によるX線粉末回折
法で求めた第1表に示す格子面間隔(d−値)で
特徴づけることができる。 本触媒がアンモニアによるNOxの選択的還元
脱硝反応に際して、極めて高い活性を示し、かつ
その高い活性がSOxの存在下でも低下することな
く高く維持される理由は定かではないが、本触媒
基剤デオライトの高純度性、高い疎水性、結晶安
定性及び特異的な結晶構造と銅イオンのRedox触
媒作用とが、複合的に作用し優れた脱硝性能を発
現したものと推察される。 本触媒の工業的使用に際しては、適当な形に成
形して使用するのが望ましい。シリカ、アルミナ
等の無機酸化物又は粘土をバインダーとし、場合
により有機物等の成形助剤を使用し、球状、柱
状、ハニカム等に成形する。銅イオンで交換する
前に成形し、成形体をイオン交換して製造した触
媒も本発明の触媒とみなす。又、成形体の大きさ
は特に制限されない。 次に本触媒を用いる脱硝法について説明する。
【表】
【表】 NOxは燃焼過程で生成するものと、窒素化合
物の反応によつて生成するものとに分類できる。
後者の場合としては硝酸工場の排ガスなどがあげ
られるが、この場合はNOx濃度が高い上SOxや
ダスト分が少なく、その除去は比較的容易であ
る。本触媒がより効果的に使用できるのは前者の
場合、即ち、煙道排ガス、自動車排ガス等の脱硝
である。 煙道排ガスは、石炭又は石油を燃料とした場
合、代表的には次の組成を有する。 NOx 約100〜1000ppm SOx 約100〜3000ppm O2 約5〜7% CO2 約7〜13% H2O 7〜13% 排ガス中のNOx含有量は、燃料中の窒素化合
物の量や空気量、温度等の燃焼条件に依存し、そ
の成分は主にNO、NO2である。又、SOxの含有
量は燃料中のイオウ化合物の量に左右される。脱
硝に際し、排ガスに供給する還元剤としてのアン
モニアの量は、排ガス中に含まれるNOxに対し
容量比で0.5〜1.5倍供給するのが好ましく、少な
ければ脱硝率が低下し、多ければ未反応のアンモ
ニアがそのまま排出される。最も好ましくはほぼ
同量である。 脱硝を行なうガスと触媒との接触方法は、特に
制限されないが、通常は触媒の固定層にガスを流
通させる方式が採用される。又、目的によつては
流動式も勿論採用される。 好ましい排ガスの空間速度は2000〜100000hr-1
であり、更に好ましくは5000〜20000hr-1である。
又、好ましい反応帯域の温度は150〜500℃であ
る。本発明の触媒を用いると後述の実施例からも
わかる通り、200〜250℃でほぼ100%の脱硝率が
得られる。 SOx濃度200ppm以上の高濃度でも、SOxによ
る活性劣化は250〜500℃では殆ど認められず、
200℃では本触媒基剤のSiO2/Al2O3モル比18〜
40であれば活性劣化は僅かである。しかし、40を
越えると低温におけるSOxによる活性劣化の程度
は無視できなくなる。 ところが、驚くべきことにはその活性劣化は
Cu()−NaYの場合と異なり不可逆的ではなく、
SOx濃度が低下することによつて回復する。 本発明な、窒素酸化物を含むガスの脱硝に極め
て効果的であり、道ガス中にイオウ酸化物が共存
する場合でも、その効果は減退しない。 以下、実施例及び比較例をもつて詳細に説明す
る。 実施例 1 (本触媒基剤の製造例) 特願昭57−162123に示す方法に準じて製造し
た。即ち、撹拌状態にある実容積2のオーバー
フロータイプ反応槽に、珪酸ソーダ水溶液
(SiO2 153.4g/、Na2O 49.9g/、Al2O3
0.8g/)と、硫酸添加した硫酸アルミニウム
水溶液(Al2O3 38.4g/、H2SO4 275.4g/
)とをそれぞれ3.2/hr、0.8/hrの速度で
連続供給した。反応温度は30〜32℃、連続して溢
流するスラリーのPHは6.4〜6.6であつた。 排出スラリーを遠心分離機で固液分離し、充分
水洗後、Na2O 1.72wt%、Al2O3 2.58wt%、
SiO2 39.3wt%、H2O 56.4wt%の微粒状無定形
アルミノ珪酸塩均一化合物からなる湿ケーキを得
た。この湿ケーキ2840gと1.39wt%のNaOH水
溶液5160gとを10のオートクレーブに仕込み、
158℃で72時間加熱撹拌し結晶化した。全仕込み
組成は、2.34Na2O・Al2O3・25.9SiO2・518H2O
である。生成物を固液分離後、水洗、乾燥し、本
触媒基剤ゼオライトを得た。これをTSZ−820と
呼ぶ。 TSZ−820のX線粉末回折図を第1図に示す
(X線粉末回折は銅のKα二重線を用いて測定し
た)。 更に、同様に実施してSiO2/Al2O3モル比の異
なる本触媒基剤TSZ−840、TSZ−850を調製し
た。そのX線粉末回折図をそれぞれ第2図、第3
図に示す。 実施例 2 (本触媒の製造例) 本触媒基剤TSZ−820、TSZ−840、TSZ−850
をそれぞれ50g用意し、2の0.05M酢酸銅水溶
液に浸漬することによつて銅イオン含有の触媒
A、B、Cをそれぞれ調製した。 その組成を酸化物モル比で次に示す。 触媒A 0.74CuO・0.28Na2O・Al2O3・21.9
SiO2・11.3H2O 触媒B 1.17CuO・0.23Na2O・Al2O3・38.6
SiO2・17.5H2O 触媒C 1.30CuO・0.24Na2O・Al2O3・44.1
SiO2・21.5H2O 又、触媒A、B、CのX線粉末回折図をそれぞ
れ第4〜6図に示す。何れも第1表の格子面間隔
(d−値)によつて特徴づけられる。 比較例 1 (比較触媒の製造例) 組成0.95Na2O・Al2O3・5.2SiO2・6.5H2Oなる
ゼオライトNaYを実施例2と同様に処理し、比
較触媒Cu()−NaYを調製した。 実施例 3 (脱硝例) 排ガスは次の組成のガスを調製して使用した。 調製排ガス NOppm 250 250 SO2ppm − 500 NH3ppm 250 250 O2% 1 1 N2% バランス バランス H2O% 12 12 常圧固定床流通式反応管に28〜60メツシユに整
粒した触媒A、B、Cをそれぞれ1.0g充填した。
予め空気を流し300℃で1時間加熱処理した。150
℃、200℃、250℃で排ガスをSV=12000hr-1で通
気し脱硝率を求めた。脱硝率は次のように定義す
る。 脱硝率=入口のNO濃度−出口のNO
濃度/入口のNO濃度×(100)〔%〕 未反応のNOxの定量は、自動NOx計測器(柳
本製ECL−77A型)及びガスクロを使用した。 条件とその結果を第2表に示す。 本触媒が比較触媒に比べて高い脱硝率を示して
いることがわかる。又、特に触媒A、触媒Bは
SOx共存系でも高い脱硝率を示している。 比較例 2 比較触媒を使用して、実施例3と同様に行い脱
硝性能を比較した。条件とその結果を第2表に示
す。 実施例 4 (耐久試験) 触媒A及び比較触媒を用いて耐久試験を行つ
た。実施例3と同様の装置及び排ガスを使用
し、SV=48000hr-1、温度300℃で脱硝率の経時
変化を調べたところ、触媒Aは6日後においても
ほぼ100%の脱硝率を維持した。しかしながら比
較触媒は僅か15時間後に41.5%に低下した。
【表】
【表】 【図面の簡単な説明】
第1〜3図は、実施例1によつて得られた本触
媒基剤のX線粉末回折図で、第1図はTSZ−
820、第2図はTSZ−840、第3図はTSZ−850で
ある。又、第4〜6図は実施例2によつて得られ
た本触媒のX線粉末回折図で、第4図は触媒A、
第5図は触媒B、第6図は触媒Cである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 X線粉末回折による格子面間隔(d−値)が
    第1表に示す結晶性アルミノ珪酸塩であつて、そ
    のSiO2/Al2O3モル比が15〜60であり、かつ、銅
    イオンを含む選択的還元脱硝触媒。 2 ガス中の窒素酸化物をアンモニアによつて選
    択的に還元する窒素酸化物を含むガスの脱硝方法
    において、X線粉末回折による格子面間隔(d−
    値)が第1表に示す結晶性アルミノ珪酸塩であつ
    て、そのSiO2/Al2O3モル比が15〜60であり、か
    つ、銅イオンを含む触媒を使用することを特徴と
    する方法。 3 ガス中にイオウ酸化物を含む特許請求の範囲
    第2項記載の方法。
JP58105680A 1983-06-15 1983-06-15 選択的還元脱硝触媒及びそれを使用するガスの脱硝方法 Granted JPS59230642A (ja)

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