JPH04170330A - 光学素子成形用型 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レンズ、プリズム等のガラスよりなる光学素
子を、ガラス素材のプレス成形により製造するのに使用
される型に関するものである。

［従来の技術］ 研摩工程を必要としないでガラス素材のプレス成形によ
ってレンズを製造する技術は従来のレンズの製造におい
て必要とされた複雑な工程をな（し、簡単且つ安価にレ
ンズを製造することを可能とし、近来、レンズのみなら
ずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の製造に使
用されるようになってきた。

このようなガラスの光学素子のプレス成形に使用される
型材に要求される性質としては、硬度、耐熱性、離型性
、鏡面加工性等に優れていることが挙げられる。従来、
この種の型材として金属、セラミックス及びそれらをコ
ーティングした材料等、数多くの提案がされている。い
くつかの例を挙げるならば、特開昭４９−５１１１２に
は１３Ｃｒマルテンサイト鋼が、特開昭５２−４５６１
３にはＳｉＣ及び５ｉｓＮａが、特開昭６０−２４６２
３０には超硬合金に貴金属をコーティングした材料が、
また、特開昭６１−１８３１３４゜特開昭６１−２８１
０３０．特開平１−３０１８６４にはダイヤモンド薄膜
又はダイヤモンド状炭素膜をコーティングした材料が提
案されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、１３Ｃｒマルテンサイト鋼は駿化し易く、更に
高温でＦｅがガラス中に拡散してガラスが着色する欠点
をもつ。ＳｉＣ及び５ｉＪ４は一般的に酸化されにくい
とされているが、高温ではやはり酸化が起り表面にＳｉ
ｎｇの膜が形成されるためガラスと融着を生じる。更に
、高硬度のため型自体の加工性が極めて悪いという欠点
を持つ。貴金属をコーティングした材料は融着は起こし
にくいが、極めて軟かいため傷がつき易（変形し易い欠
点をもつ。

また、ダイヤモンド薄膜をコーティングした材料は表面
の平滑性に欠けるため鏡面加工を行わないと光学素子成
形用型としては使用できない。研磨により鏡面を得る場
合、研磨の過程で膜にクラックが入ったり、膜が剥離し
たりする問題がある。更に、ダイヤモンド膜自体は多結
晶膜であるため、結晶粒が欠落した空隙による表面粗さ
の低下やガラスの融着という問題がある。ダイヤモンド
状炭素膜は平滑で高硬度であり、離型性も良いが、高温
での熱安定性が必ずしも良好でないため、成形回数が増
えるに従い膜質が経時的に変化したり、融点の高いガラ
スを成形できないという欠点がある。

従って、本発明の目的は、型とガラス成形品の離型性が
良好で、表面粗さが良好な成形品が得られ、しかも耐久
性が極めて高い光学素子成形用型を提供することにある
。

［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明は、ガラスよりなる光学素子のプレス
成形に用いる光学素子成形用型において、型母材の少な
くとも成形面に、音波または超音波を照射した状態で気
相合成されたダイヤモンド膜が被覆されていることを特
徴とする光学素子成形用型、並びに、ガラスよりなる光
学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方
法において、型母材の少なくとも成形面に、音波または
超音波を照射しながら気相合成によりダイヤモンド膜を
形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法
である。

以下、本発明に関して詳細に説明する。

本発明において型母材として用いられる材料は、ＶＩＣ
，ＳｉＣ，Ｔｉｃ、　ＴａＣ，ＢＮ、　ＴｉＮ、　ＡＩ
Ｎ、　５ｉＪ４゜５ｉＯｉ、　Ａｌｔｏｓ、　Ｚｒ０ａ
、　ｗ、　Ｔａ、　Ｍｏ、サーメット、サイアロン、ム
ライト、カーボン・コンポジット（Ｃ／Ｃ）、カーボン
ファイバー（Ｃ’Ｆ）、　ＷＣ−Ｃｏ合金等から選ばれ
る。これらの型母材の成形面にダイヤモンド膜を形成す
る。ダイヤモンド膜はマイクロ波プラズマＣＶＤ法、熱
フイラメントＣＶＤ法、プラズマ・ジェット法、電子サ
イクロトロン共鳴プラズマＣＶＤ法等により形成される
。膜の形成に用いるガスとしては含炭素ガスであるメタ
ン、エタン、プロパン、エチレン、ベンゼン、アセチレ
ン等の炭化水素；塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホ
ルム、トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチ
ルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、（
ＣＨ，）２ＣＯ，（Ｃ，Ｈ，）２ＣＯ等のケトン類；　
Ｃｏ、　ＣＯｘ等のガス、及びこれらのガスにＮ＝、　
Ｈ２，Ｏ−、Ｈ２Ｏ，Ａｒ等のガスを混合したものが挙
げられる。型母材の成形面に気相側より数ＫＨｚ〜数百
ＫＨｚの音波または超音波を照射しながら前述の成膜方
法によりダイヤモンド膜を形成する。

ダイヤモンド膜形成時の音波または超音波の役割は以下
の点にある。すなわち、成膜時に音波または超音波を照
射することにより、境膜層内を撹乱し、核発生を促進し
超微粒構造の緻密なダイヤモンド膜を高速に形成する。

こうして得られたダイヤモンド膜は、核発生密度が高い
ため型母材との密着性がよく、研磨を行っても膜剥離や
クラックが発生しない。また、非常に緻密であるため成
形面の表面粗さに支障を来すような結晶粒の欠落による
空隙が生じず鏡面性に優れている。更に、結晶粒径が小
さく表面粗さが所望の値にあるときには研磨やエツチン
グ等の鏡面加工を行う必要がなくなるという利点がある
、なお、核発生密度が高く型母材との密着性が良好でも
、膜の内部応力や型母材と膜の熱膨張係数の違いによる
熱応力によって膜剥離が起きることがある。そこでダイ
ヤモンドの成膜時に照射する音波または超音波の周波数
を最初低周・波数または未照射とし徐々に高周波数に変
化させることにより型母材側に結晶粒径の大きいダイヤ
モンド膜を形成し、表面側に結晶粒径の小さい膜を形成
することにより結晶粒径の大きいダイヤモンド層におい
て膜全体の内部応力や熱応力を緩和し型母材との密着性
を向上することができる。

一般に、ダイヤモンド膜を形成するためには、あらかじ
め基体をダイヤモンド砥粒により傷付は処理し核発生密
度を大きくすることが必要である。粒径が数１０ＬＬｍ
のダイヤモンド砥粒を分散したメチルアルコールあるい
はエチルアルコール中に基体を入れ超音波振動により傷
付は処理を行う場合、処理時間により粒径、核発生密度
を制御できる。例えば粒径２０〜４０μｍのダイヤモン
ド砥粒を用いた場合、処理時間が１５分程度のとき平均
粒径が０．３μｍ程度の膜が得られ、処理時間を長くす
るに従い平均粒径は大きくなり、６０分以上の処理では
粒径の大きさは飽和するようになる。従って、最適な処
理時間を選択することにより平均粒径の小さいすなわち
核密度の大きい均一な膜が得られる。平均粒径が約０．
３μｍのとき核発生密度は５〜１０個／μｍ２程度であ
る。

こうした傷付は処理基体を用い本発明の成膜方法により
ダイヤモンド膜を形成すると更に核発生密度が向上する
。すなわち、成膜時に照射する音波の周波数が数ｋＨｚ
の場合１０〜数１０個／ｕ　ｍ　２、数１０ｋＨｚの場
合ｌＯ２〜４×１０２個／ｕ　ｍ２と周波数が高くなる
に従い核発生密度が向上する。但し、数１００　ｋＨｚ
以上では核発生密度が飽和する傾向にある。従って、核
発生密度が１０”個／μｍ２を超えるような場合には膜
の表面粗さもＲｍａｘ、５０．０３μｍとなり研磨が不
要となる。一方、それよりも核発生密度が小さく膜の表
面粗さが所望の値以上の場合には研磨を行うことが必要
である。

［実施例］ 以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。

支度五ユ 第１図及び第２図は本発明に係る光学素子成形用型の１
つの実施態様を示すものである。第１図は光学素子のプ
レス成形前の状態を示し、第２図は光学素子成形後の状
態を示す。第１図中、ｌは型母材、２はガラス素材を成
形する成形面に被覆されたダイヤモンド膜、３はガラス
素材であり、第２図中４は光学素子である。第１図に示
すように型の間に置かれたガラス素材３をプレス成形す
ることによって、第２図に示すようにレンズ等の光学素
子４が成形される。

次に、本発明の光学素子成形用型について詳細に説明す
る。

型母材として焼結Ｓｉ３Ｎ、を所定の形状に加工した後
、ダイヤモンドの核発生密度を増加させるために粒径５
〜１０μｍのダイヤモンド砥粒を分散させたアルコール
中に入れ３０分間超音波振動により成形面に傷付は処理
した。この型をよ（洗浄した後、第３図に示すマイクロ
波プラズマＣＶＤ装置に設置した。図中５はプラズマ室
、６は型母材、７はガス供給系、８はマイクロ波発振機
及び導波管、９は音波発振装置、１０は排気系である。

まず、装置内をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒに排気した後
、ガス供給系７よりＣＨ＋：１．５ｓｃｃｍ　、　Ｈｚ
：３００ｓｅｃｍ導入しガス圧力を５５　Ｔｏｒｒとし
た。次に、　２．４５ＧＨｚのマイクロ波を８の発振機
と導波管によって７００Ｗ投入した。このとき音波発振
装置９より５　ｋＨｚの音波を成膜面に照射した。型母
材は８００℃に加熱し、膜厚が７μｍとなるようにダイ
ヤモンド膜を成膜した。この膜の表面粗さは、１（ｍａ
ｘ、　Ｊ、　０５μｍと平滑であったが、光学素子成形
用の型としてはまだ粗いため、第４図に示す研磨装置に
よりダイヤモンド砥粒による共摺りによって表面粗さＲ
ｍａｘ、　＝０．０２μｍに鏡面研磨した。第４図中、
１１は型、１２は空気軸受け、１３はスカイフ皿、１４
はベアリング、１５は空気軸受け、１６はスプリング、
１７はモーターである。このとき、スカイフ皿１４を１
，０００ｒｐｍで回転させながら、常に加工面の法線方
向に一致させるよう相対位置を決め、部分的に研磨しな
がら前述の表面粗さになるよう非球面形状に研磨した。

次に、本発明による光学素子成形用型によってガラスレ
ンズのプレス成形を行なった例を示す。

第５図中、５１は真空槽本体、５２はそのフタ、５３は
光学素子を成形するための上型、５４はその下型、５５
は上型を押えるための上型おさえ、５６は用型、５７は
型ホルダ−，５８はヒーター、５９ば下型を突き上げる
突き上げ棒、６０は該突き上げ棒を作動するエアシリン
ダ、６１は油回転ポンプ、６２，６３．６４はバルブ、
６５は不活性ガス導入パイプ、６６はバルブ、６７はリ
ークパイプ、６８はバルブ、６９は温度センサ、７０は
水冷パイプ、７１は真空槽を支持する台を示す。

レンズを製作する工程を次に述べる。

フリント光学ガラス（ＳＦ１４）を所定の量に調整し、
球状にしたガラス素材を型のキャビティー内に置き、こ
れを装置内に設置する。ガラス素材を投入した型を成形
装置内に設置してから真空槽５１のフタ５２を閉じ、水
冷パイプ７０に水を流し、ヒーター５８に電流を流す。

このとき窒素ガス用バルブ６６及び６８は閉じ、排気系
バルブ６２，６３．６４も閉じている。尚、油回転ポン
プ６１は常に回転している。バルブ６２を開は排気を開
始してから１０−”Ｔｏｒｒ以下になったらバルブ６２
を閉じ、バルブ６６を開いて窒素ガスをボンベより真空
槽内に導入する。所定温度になったらエアシリンダ６０
を作動させて２００ｋｇ／ｃｍ”の圧力で１分間加圧す
る。圧力を解除した後、冷却速度を一り℃／ｌｌｌ１ｎ
で転移点以下になるまで冷却し、その後は−２０”Ｃ／
ｍｉｎ以上の速度で冷却を行ない２００℃以下に下がっ
たらバルブ６６を閉じ、リークバルブ６３を開いて真空
槽５１内に空気を導入する。、それからフタ５２を開は
上型おさえを外して成形物を取り出す。上記のようにし
て、フリント系光学ガラス５Ｆ１４　（軟化点５ｐ＝５
８６℃、ガラス転移点Ｔｇ＝４８５℃）を使用して第２
図に示すレンズ４を成形した。このときの成形条件すな
わち時間−温度関係図を第６図に示す。

前記型を用いて３００回成形を行なった。成形後の型は
、傷や割れといった欠陥やガラス中に含まれるＰｂＯの
還元析出物であるｐｂやガラスの融着が光学顕微鏡、走
査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察されなかった。ま
た、成形品についても表面粗さ、面精度、透過率、形状
精度とも良好でｐｂの析出や成形時のガス残りといった
問題もなかった。

次に、この型を用いて第７図に示す成形装置により成形
を行なった。

第７図において、１０２は成形装置、１０４は取入れ用
置換室であり、１０６は成形室であり。

１０８は蒸着室であり、１１０は取圧し用置換室である
。１１２，１１４，１１６はゲートバルブであり、１１
８はレールであり、１２０は該レール上を矢印へ方向に
搬送せしめられるパレットである。１２４，１３８，１
４０，１５０はシリンダであり、１２６，１５２はバル
ブである。

１２８は成形室１０６内においてレール１１８に沿って
配列されているヒータである。

成形室１０６内はパレット搬送方向に沿って順に加熱ゾ
ーン１０６−１、ブレスゾーン１０６−２および徐冷ゾ
ーン１０６−３とされている。ブレスゾーン１０６−２
において、上記シリンダ１３８のロッド１３４の下端に
は成形用上型部材１３０が固定されており、上記シリン
ダ１４０のロッド１３６の上端には成形用下型部材１３
２が固定されている。これら上型部材１３０及び下型部
材１３２は本発明による型部材である。蒸着室１０８内
においては、蒸着物質１４６を収容した容器１４２及び
該容器を加熱するためのヒータ１４４が配置されている
。

クラウン系光学ガラス５Ｋ１２　（軟化点５ｐ＝６７２
℃、ガラス転移点Ｔｇ＝５５０℃）を所定の形状及び寸
法に粗加工して成形のためのブランクを得た。ガラスブ
ランクをパレット１２０に装置し、取入れ置換室１０４
内の１２０−１の位置へ入れ、該位置のパレットをシリ
ンダ１２４のロッド１２２によりＡ方向に押してゲート
バルブ１１２を越えて成形室１０６内の１２０−２の位
置へと搬送し、以下同様に所定のタイミングで順次新た
に取入れ置換室１０４内にパレットを入れ、そのたびに
パレットを成形・室１０６内で１２０−２→・・・→１
２０−８の位置へと順次搬送した。この間に、加熱ゾー
ン１０６−１ではガラスブランクをヒータ１２８により
徐々に加熱し１２０−４の位置で軟化点以上とした上で
、プレスゾーン１０６−２へと搬送し、ここでシリンダ
１３８，１４０を作動させて上型部材１３０及び下型部
材１３２により２００　ｋｇ／ｃｍ”の圧力でプレス温
度６２０’Ｃで１分間プレスし、その後加圧力を解除し
ガラス転移点以下まで冷却し、その後シリンダ１３８゜
１４０を作動させて上型部材１３０及び下型部材１３２
をガラス成形品から離型した。該プレスに際しては上記
パレットが成形用銅型部材として利用された。しかる後
に、徐冷ゾーン１０６−３ではガラス成形品を徐々に冷
却した。なお、成形室１０６内には不活性ガスを充満さ
せた。成形室１０６内において１２０−８の位置に到達
したパレットを、次の搬送ではゲートバルブ１１４を越
えて蒸着室１０８内の１２０−９の位置へと搬送した。

通常、ここで真空蒸着を行うのであるが、本実施例では
該蒸着を行わなかった。そして、次の搬送ではゲートバ
ルブ１１６を越えて取８し置換室１１０内の１２０−１
０の位置へと搬送した。そして、次の搬送時にはシリン
ダ１５０を作動させてロッド１４８によりガラス成形品
を成形装置１０２外へと数比した。

以上のようなプレス工程により３．０００回成形した後
の型部材の成形面及び成形された光学素子の表面粗さ、
並びに型部材と成形された光学素子との離型性は良好で
あった。特に、型部材の成形面について光学顕微鏡、走
査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察しても傷やクラック等の
欠陥やｐｂの析出、ガラスの融着は見られなかった。

夾施主ｌ 型母材として焼結のＳｉＣを所定の形状に加工した後、
実施例１と同様にして第３図に示す成膜装置を用い、基
体に照射する音波を周波数３０ｋＨｚの超音波とした以
外はまったく同条件でダイヤモンド膜を形成した。この
膜の表面粗さはＲｍａｘ、　＝０．０３μ鳳と光学素子
成形用型として十分な表面粗さを有していたため、研磨
することな〈実施例１と同様の成形テストを行った。そ
の結果、実施例１と同様の結果が得られた。

罠胤■旦 型母材として焼結５ｉＪ４を所定の形状に加工した後、
実施例１と同様にして第３図に示す成膜装置を用いダイ
ヤモンド膜を形成した。このときガス供給系よりＣＨ４
：１．５ｓｃｃｍ　、　Ｈｘ：３５０ｓｃｃ＋ａを導入
しガス圧力を８０　Ｔｏｒｒとした。投入したマイクロ
波のパワーは１ｋＷとした。型母材は９００℃に加熱し
、音波を成形面に照射することなく４時開成膜した後、
音波発振装置９より２５ｋＨｚの超音波を成形面に照射
しながら６時間成膜しダイヤモンド膜を１０μｍ形成し
た。この膜の表面粗さはＲｍａｘ、・０．０５　ｕｍで
あったので実施例１と同様にして表面粗さはＲｍａｘ、
　＝０．０２μｍに鏡面研磨した。この型を用い実施例
１と同様の成形テストを行い、実施例１と同様の結果を
得た。　　　　−に施主Ａ 実施例３と同様にしてダイヤモンド膜を形成する際、最
初３　ｋＨｚの音波を４時間照射しながら成膜した後、
５　ｋＨｚ／ｈｒのレートで周波数を高くし２８ｋＨｚ
に到達した状態で３時間成膜しダイヤモンド膜を６μｍ
形成した。この膜の表面粗さはＲｍａｘ、　＝０．０４
μｍであったので実施例１と同様にして表面粗さＲｍａ
ｘ、　＝０．０２μｍに鏡面研磨した後、実施例１と同
様の成形テストを行い、実施例１と同様の結果を得た。

Ｋ土±１ 実施例３と同様にしてダイヤモンド膜を形成する際、最
初３０　ｋＨｚの超音波を照射しながら５時間成膜した
後、５　ｋＨｚの音波に変えて１１時間成膜しダイヤモ
ンド膜を９．０μｍ形成した。得られたダイヤモンド膜
の表面粗さはＲａ＋ａｘ、　＝０．０５μｍであったの
で実施例１と同様の方法によりＲｍａｘ、　”０．０２
μｍの表面粗さに鏡面研磨した。この膜は型母材側の結
晶粒径が非常に微少で核発生密度が高いため、研磨した
ときに結晶粒の脱落がなく表面欠陥の無い膜が得られた
。この型を用いて実施例１と同様の成形テストを行い、
実施例１と同様の結果を得た。　　“ ［発明の効果〕 以上説明したように、本発明の光学素子成形用型によれ
ば、型母材の少なくとも成形面に音波または超音波を照
射しながら気相合成法により超微粒構造の緻密なダイヤ
モンド膜を形成することにより研磨によっても膜の剥離
やクラックが発生しない表面欠陥の少ない鏡面を有する
型が得られる。この型を用いてガラス光学素子を成形す
るとガラスと型の離型性が極めて良好であり、表面粗さ
、面精度、透過率、形状精度の良好な成形品が得られる
。更に、この型を用いてプレス成形を長時間繰返しても
膜剥離やクラック、傷の発生といった欠陥を生じない極
めて耐久性の高い光学素子成形用型が得られる。

本発明により得られた光学素子成形用型を用いることに
より、生産性の向上とコストダウンを実現することが可
能となった。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明に係る光学素子成形用型の一
例を示す断面図であり、第１図は成形前の状態、第２図
は成形後の状態を示す。 第３図は本発明の実施例で用いる音波発振部を備えたマ
イクロ波プラズマＣＶＤ装置を示す模式断面図である。 第４図は本発明の実施例で用いる研磨装置を示す模式断
面図である。 第５図及び第７図は本発明に係る光学素子成形用型を使
用するレンズの成形装置を示す断面図で、第５図は非連
続成形タイプ、第７図は連続成形タイプである。 第６図はレンズ成形の際の時間温度関係図である。 ｌ・・・型母材、　　　　　　２・・・ダイヤモンド膜
、３・・・ガラス素材、　　　　４・・・成形されたレ
ンズ、５・−・プラズマ室、　　　　６・・・型母材、
７・・・ガス供給系、 ８・・・マイクロ波発振機及び導波管、９・・・音波発
振装置、　　　１０・・・排気系、１１・・・型、　　
　　　　　１２・・・空気軸受け、１３・・・スカイフ
皿、　　　１４・・・ベアリング、１５・・・空気軸受
け、　　　１６・・・スプリング、１７・・・モーター
、　　　　５１・・・真空槽、５２・・・真空槽のフタ
、　５３・・・上型、５４・・・下型、　　　　　　５
５・・・上型おさえ、５６・・・用型、　　　　　５７
・・・型ホルダ−，５８・・・ヒーター、 ５９・・・下型を突き上げる突き上げ棒、６０・・・エ
アシリンダ、　６１・・・油回転ポンプ、６２．６３．
６４・・・バルブ、 ６５・・・不活性ガス導入バイブ、 ６６・・・バルブ、　　　　　６７・・・リークバイブ
、６８・・・バルブ、　　　　　６９・・・温度センサ
、７０・・・水冷バイブ、 ７１・・・真空槽を支持する台、 １０２・・・成形装置、 １０４・・・取入れ用置換室、 １０６・・・成形室、　　　　１０８・・・蒸着室、１
１０・・・取出し用置換室、 １１２・・・ゲートバルブ、 １１４・・・ゲートバルブ、１１６・・・ゲートバルブ
、１１８・・・レール、　　　　１２０・・・パレット
、１２２・・・ロッド、　　　　１２４・・・シリンダ
、１２６・・・バルブ、　　　　１２８・・・ヒータ、
１３０・・・上型、　　　　　１３２・・・下型、１３
４・・・ロツ）’、　　　　１３６・・・ロッド、１３
８・・・シリンダ、　　　１４０・・・シリンダ、１４
２・・・容器、　　　　　１４４・・・ヒータ、１４６
・・・蒸着物質、　　　１４８・・・ロッド、１５０・
・・シリンダ、　　　１５２・・・バルブ。 代理人　　弁理士　　山　下　穣　半 筒１図 第２図 第３図 （マイクロエ皮ザラス”７ＣＶＤｉ、ｌ）第４図 ＋７ 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学
   素子成形用型において、型母材の少なくとも成形面に、
   音波または超音波を照射した状態で気相合成されたダイ
   ヤモンド膜が被覆されていることを特徴とする光学素子
   成形用型。 ２、前記ダイヤモンド膜は、周波数を経時的に変化させ
   た音波または超音波を照射した状態で気相合成されたも
   のであることを特徴とする請求項１記載の光学素子成形
   用型。 ３、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学
   素子成形用型の製造方法において、型母材の少なくとも
   成形面に、音波または超音波を照射しながら気相合成に
   よりダイヤモンド膜を形成することを特徴とする光学素
   子成形用型の製造方法。 ４、前記音波または超音波の照射は、周波数を経時的に
   変化させて行うことを特徴とする請求項３記載の光学素
   子成形用型の製造方法。 ５、前記ダイヤモンド膜の形成は、あらかじめ型母材表
   面に傷付け処理をした後行うことを特徴とする請求項３
   または４記載の光学素子成形用型の製造方法。