JPH04159326A - 新規なエポキシ硬化剤 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、特殊なポリヒドロキシカルボン酸を主成分と
してなる新規なエポキシ硬化剤に関する。
してなる新規なエポキシ硬化剤に関する。
(従来技術)
従来から、エポキシ樹脂はアミン系硬化剤、酸無水物系
硬化剤、ポリフェノール系硬化剤、カチオン系硬化剤、
アニオン系硬化剤等の各種硬化剤を使いわけることによ
り、各種用途に応じた広範な硬化特性1機械特性、電気
特性を有する硬化物を与えるため、各種塗料、接着剤、
繊維強化複合材料用樹脂(プリント基板用、航空・宇宙
用)。
硬化剤、ポリフェノール系硬化剤、カチオン系硬化剤、
アニオン系硬化剤等の各種硬化剤を使いわけることによ
り、各種用途に応じた広範な硬化特性1機械特性、電気
特性を有する硬化物を与えるため、各種塗料、接着剤、
繊維強化複合材料用樹脂(プリント基板用、航空・宇宙
用)。
封止用樹脂(特に電子部品用)、金型用樹脂等の広範な
用途に利用されている。
用途に利用されている。
これらの中でポリフェノール系硬化剤は、アミノ系硬化
剤に比べ一蝦に達成される架橋密度が小さいために、T
g(ガラス転移温度)で代表される短期耐熱性は及ばな
いが硬化物の電気特性に優れ、さらにBステージにおけ
る貯蔵安定性および硬化速度が速い等の利点があり、半
導体のトランスファー成型による封止樹脂用途を中心に
した電気分野での伸長が著しい。しかし、半導体等の高
密度化等に伴ない従来のものが有する耐熱性では不十分
な場合があり、より耐熱性に優れた硬化物を与えるフェ
ノール系硬化剤が要求されている。
剤に比べ一蝦に達成される架橋密度が小さいために、T
g(ガラス転移温度)で代表される短期耐熱性は及ばな
いが硬化物の電気特性に優れ、さらにBステージにおけ
る貯蔵安定性および硬化速度が速い等の利点があり、半
導体のトランスファー成型による封止樹脂用途を中心に
した電気分野での伸長が著しい。しかし、半導体等の高
密度化等に伴ない従来のものが有する耐熱性では不十分
な場合があり、より耐熱性に優れた硬化物を与えるフェ
ノール系硬化剤が要求されている。
(発明が解決しようとする課H)
本発明の目的は、良好な硬化特性を有するエポキシ樹脂
組成物を与え、かつその硬化物は寸法安定性、耐熱性等
の改良されたエポキシ樹脂硬化物を与えるエポキシ樹脂
用の硬化剤を提供することにある。
組成物を与え、かつその硬化物は寸法安定性、耐熱性等
の改良されたエポキシ樹脂硬化物を与えるエポキシ樹脂
用の硬化剤を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
上述の如き本発明の目的は、下記式(1)で表わされる
それ自体新規なヒドロキシカルボン酸又はそのエステル
を主なる構成成分とするエポキシ硬化剤によって達成さ
れる。
それ自体新規なヒドロキシカルボン酸又はそのエステル
を主なる構成成分とするエポキシ硬化剤によって達成さ
れる。
[式(1)において、Ar’ 、 Ar2及びAr3は
、同一もしくは相異なり、ベンゼン骨格、ナフタレン骨
格又は下記式<n> (式(n)においてXは直接結合、−〇−1−3−、−
3O2−、−CO−又は炭素数1〜3のアルキリデン基
である) で表わされる骨格である。ただし、これらの骨格はハロ
ゲン原子又は炭素数1〜らのアルキル基で置換されてい
てもよく、また、Ar1゜Ar2. Ar3の全炭素数
はそれぞれ20以下である。R1およびR2は、同一も
しくは相異なり、水素原子又は炭素数1〜10のアルキ
ル基であり、qは○〜20の数であり、そして91mお
よびnは1〜3の数である。] 本発明に係るエポキシ硬化剤の主成分となるヒドロキシ
カルボン酸又はそのエステルは、上記式<1)で表わさ
れる化学構造を有するものである。
、同一もしくは相異なり、ベンゼン骨格、ナフタレン骨
格又は下記式<n> (式(n)においてXは直接結合、−〇−1−3−、−
3O2−、−CO−又は炭素数1〜3のアルキリデン基
である) で表わされる骨格である。ただし、これらの骨格はハロ
ゲン原子又は炭素数1〜らのアルキル基で置換されてい
てもよく、また、Ar1゜Ar2. Ar3の全炭素数
はそれぞれ20以下である。R1およびR2は、同一も
しくは相異なり、水素原子又は炭素数1〜10のアルキ
ル基であり、qは○〜20の数であり、そして91mお
よびnは1〜3の数である。] 本発明に係るエポキシ硬化剤の主成分となるヒドロキシ
カルボン酸又はそのエステルは、上記式<1)で表わさ
れる化学構造を有するものである。
上記式中qは0又は1〜20の数であり、好ましくは0
又は1〜10の数、特に好ましくは0,1又は2である
。qがあまり大きいと得られたエポキシ硬化剤の融点が
高くなり成形性が悪くなる。本発明のポリヒドロキシカ
ルボン酸又はそのエステルの分子量とはその平均を示す
ものである。従って、上記qも平均値と理解されるべき
である。
又は1〜10の数、特に好ましくは0,1又は2である
。qがあまり大きいと得られたエポキシ硬化剤の融点が
高くなり成形性が悪くなる。本発明のポリヒドロキシカ
ルボン酸又はそのエステルの分子量とはその平均を示す
ものである。従って、上記qも平均値と理解されるべき
である。
式中β、m、nはそれぞれ1〜3の整数を表わすが、好
ましくは1スは2である。なお、式中のJ)、m、nの
数は必ずしも同じ数とは限らない。
ましくは1スは2である。なお、式中のJ)、m、nの
数は必ずしも同じ数とは限らない。
上記式(1)におけるR1.R2はそれぞれ水素原子お
よび/又は炭素原子数1〜10のアルキル基を表わす。
よび/又は炭素原子数1〜10のアルキル基を表わす。
ここで炭素原子数1〜10のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル等の如き
脂肪族炭化水素基、シクロヘキシルの如き脂環族炭化水
素基を例示することができる。
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル等の如き
脂肪族炭化水素基、シクロヘキシルの如き脂環族炭化水
素基を例示することができる。
R1,R2の好ましい例としては水素原子および/又は
メチル、エチル、プロピルであり、特に好ましくは水素
原子である。式中のR1とR2は、必ずしも全て同一の
基である必要はない。
メチル、エチル、プロピルであり、特に好ましくは水素
原子である。式中のR1とR2は、必ずしも全て同一の
基である必要はない。
まな、上記式(1)中のAr】、 Ar2. Ar3は
、それぞれ上述の如く定義される、ハロゲン原子又は低
級アルキル基で核置換されていてもよい炭素数20以下
の芳香族炭化水素基である。
、それぞれ上述の如く定義される、ハロゲン原子又は低
級アルキル基で核置換されていてもよい炭素数20以下
の芳香族炭化水素基である。
Ar” 、 Ar2. Ar’の具体例としては、これ
らが無置換であるときの骨格基であげると、ベンゼン7
トルエン、キシレン、ナフタレン1クロルベンゼン、ジ
クロルベンゼン、クロルトルエン、クロルナフタレン、
ブロムベンゼン、ジブロムベンゼン′。
らが無置換であるときの骨格基であげると、ベンゼン7
トルエン、キシレン、ナフタレン1クロルベンゼン、ジ
クロルベンゼン、クロルトルエン、クロルナフタレン、
ブロムベンゼン、ジブロムベンゼン′。
トリブロムベンゼン、テトラブロムベンゼン、ブロムナ
フタレンである。これらのうち、好ましいものは、ベン
ゼン、トルエン、ナフタレン、クロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、ブロムベンゼン。
フタレンである。これらのうち、好ましいものは、ベン
ゼン、トルエン、ナフタレン、クロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、ブロムベンゼン。
ジブロムベンゼンである。
従って、(OH)i Ar’−および(○J()。
−Ar3−の好適例としては、モノヒドロキシフェニル
、ジヒドロキシフェニル、モノヒドロキシモノメチルフ
ェニル、モノヒドロキシナフチル、モノクロロヒドロキ
シフェニル、ジクロロモノヒトTVキシフェニル、モノ
ブロモモノヒドロキシフェニルおよびジブロモモノヒド
ロキシフェニルをあげることができる。
、ジヒドロキシフェニル、モノヒドロキシモノメチルフ
ェニル、モノヒドロキシナフチル、モノクロロヒドロキ
シフェニル、ジクロロモノヒトTVキシフェニル、モノ
ブロモモノヒドロキシフェニルおよびジブロモモノヒド
ロキシフェニルをあげることができる。
また、(OH) 、−Ar3/の好適例としては、\
モノヒドロキシフェニレン、ジヒドロキシフェニレン、
モノヒドロキシモノメチルフェニレン、モノヒドロキシ
ナフチレン、モノクロロモノヒドロキシフェニレン、ジ
クロロモノヒドロキシフェニレン、モノブロモモノヒド
ロキシフェニレンおよびジブロモモノヒドロキシフェニ
レンをあげることができる。
モノヒドロキシモノメチルフェニレン、モノヒドロキシ
ナフチレン、モノクロロモノヒドロキシフェニレン、ジ
クロロモノヒドロキシフェニレン、モノブロモモノヒド
ロキシフェニレンおよびジブロモモノヒドロキシフェニ
レンをあげることができる。
Ar1. Ar2およびAr’は、全て同一の骨格でも
よく、またそのうちの2つ又は全てが相異なる骨格でも
よい。
よく、またそのうちの2つ又は全てが相異なる骨格でも
よい。
本発明のエポキシ硬化剤の主成分であるポリヒドロキシ
カルボン酸又はそのエステルの好ましい製造法としては
、下記式<III) [式(III)においてRoは水素原子又は炭素数1〜
10のアルキル基である。コ で表わされるアルデヒド化合物と、下記式(TV)Ar
0− (OH) 。 −<r
v>1式(rV)においてAr0はベンゼン骨格、ナフ
タレン骨格又は下記式 くただしXは上記と同義〉 で表わされる骨格である。ただしこれらの骨格はハロゲ
ン原子又は炭素数1〜5のアルキル基で置換されていて
もよく、またAr0の全炭素数は20以下であり、そし
てUは1〜3の数である。
カルボン酸又はそのエステルの好ましい製造法としては
、下記式<III) [式(III)においてRoは水素原子又は炭素数1〜
10のアルキル基である。コ で表わされるアルデヒド化合物と、下記式(TV)Ar
0− (OH) 。 −<r
v>1式(rV)においてAr0はベンゼン骨格、ナフ
タレン骨格又は下記式 くただしXは上記と同義〉 で表わされる骨格である。ただしこれらの骨格はハロゲ
ン原子又は炭素数1〜5のアルキル基で置換されていて
もよく、またAr0の全炭素数は20以下であり、そし
てUは1〜3の数である。
]
で表わされる芳香族ヒドロキシ化合物とを、酸性触媒の
存在下で、脱水縮合反応せしめ、次いで必要により加水
分解反応に付す方法があげられる。
存在下で、脱水縮合反応せしめ、次いで必要により加水
分解反応に付す方法があげられる。
上記式(I)中のRoとしては、上記式〈工)中のR】
、R2と同様のものが例示され、好ましいRoの具体例
としては水素原子又はメチル、エチル、プロピルの如き
低級アルキル基があげられる。
、R2と同様のものが例示され、好ましいRoの具体例
としては水素原子又はメチル、エチル、プロピルの如き
低級アルキル基があげられる。
本発明で好適に使用される代表的なアルデヒド化合物は
、P−ホルミル安息香酸、P−ホルミル安息香酸メチル
である。これらのアルデヒド化合物は単独でもしくは2
種以上混合して使用される。
、P−ホルミル安息香酸、P−ホルミル安息香酸メチル
である。これらのアルデヒド化合物は単独でもしくは2
種以上混合して使用される。
また、アルデヒド化合物として、物性、取扱い性の改善
という観点から他のアルデヒド、例えばホルムアルデヒ
ド、P−ヒドロキシベンズアルデヒドなどを全アルデヒ
ド成分の30モル%以下、好ましくは20モル%以下加
えることも可能である。
という観点から他のアルデヒド、例えばホルムアルデヒ
ド、P−ヒドロキシベンズアルデヒドなどを全アルデヒ
ド成分の30モル%以下、好ましくは20モル%以下加
えることも可能である。
本発明における他方の原料となる芳香族ヒドロキシ化合
物の具体例としては、上記式(rV)において、u=1
となるフェノール、クレゾール、キシレノール、α−ナ
フトール、β−ナフトール。
物の具体例としては、上記式(rV)において、u=1
となるフェノール、クレゾール、キシレノール、α−ナ
フトール、β−ナフトール。
ブロモフェノール、夕ロロフェノール、ジブロモフェノ
ール、ジクロロフェノール、トリブロモフェノール、ト
リクロロフェノール等の如きモノヒドロキシフェノール
性化合物、u−2となるレゾルシノール、ジしドロキシ
ナフタレン、ブロモレゾルシノール、クロルレゾルシノ
ール、ジブロモレゾルシノール、ジクロルレゾルシノー
ル、トリブロモレゾルシノール、トリクロロレゾルシノ
ールの如きジヒドロキシフェノール性化合物、U−3と
なるトリヒドロキシベンゼン等の如きトリヒドロキシフ
ェノール性化合物があげられ、なかでも、フェノール、
クレゾール、α−ナフトール。
ール、ジクロロフェノール、トリブロモフェノール、ト
リクロロフェノール等の如きモノヒドロキシフェノール
性化合物、u−2となるレゾルシノール、ジしドロキシ
ナフタレン、ブロモレゾルシノール、クロルレゾルシノ
ール、ジブロモレゾルシノール、ジクロルレゾルシノー
ル、トリブロモレゾルシノール、トリクロロレゾルシノ
ールの如きジヒドロキシフェノール性化合物、U−3と
なるトリヒドロキシベンゼン等の如きトリヒドロキシフ
ェノール性化合物があげられ、なかでも、フェノール、
クレゾール、α−ナフトール。
β−ナフトール、ブロモフェノール、2,6−ジブロモ
フェノール、レゾルシノールが好ましい。これら芳香族
ヒドロキシ化合物く■)は単独で又は2種以上の混合物
で使用される。
フェノール、レゾルシノールが好ましい。これら芳香族
ヒドロキシ化合物く■)は単独で又は2種以上の混合物
で使用される。
上記の各原料は、いずれも安価なコストで製造できるも
のであり、かかる原料を使用し得るということも本発明
の利点の一つである。
のであり、かかる原料を使用し得るということも本発明
の利点の一つである。
本発明の製法によれば、まず、アルデヒド化合物と芳香
族ヒドロキシ化合物とを酸性触媒の存在下に反応させて
、ポリヒドロキシカルボン酸を生成せしめるが、この反
応における、上記式(II[)で表わされるアルデヒド
化合物と上記式(IV)で表わされる芳香族ヒドロキシ
化合物の仕込み割合は、目的とするポリヒドロキシカル
ボン酸の重合度によって調節される。一般に、アルデヒ
ド化合物(■)1モルに対し芳香族ヒドロキシ化合物(
IV)が0.5〜2,0モルの範囲で使用される。
族ヒドロキシ化合物とを酸性触媒の存在下に反応させて
、ポリヒドロキシカルボン酸を生成せしめるが、この反
応における、上記式(II[)で表わされるアルデヒド
化合物と上記式(IV)で表わされる芳香族ヒドロキシ
化合物の仕込み割合は、目的とするポリヒドロキシカル
ボン酸の重合度によって調節される。一般に、アルデヒ
ド化合物(■)1モルに対し芳香族ヒドロキシ化合物(
IV)が0.5〜2,0モルの範囲で使用される。
また、反応時に使用する酸性触媒としては、具体的には
、硝酸、硫酸、塩酸、リン酸、メタンスルホン酸、トル
エンスルホン酸などのプロトン酸、三弗化ホウ素、三弗
化ホウ素エーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化スズ、
塩化亜鉛、塩化鉄、塩化チタンなどのルイス酸、シュウ
酸などを用いることができる。
、硝酸、硫酸、塩酸、リン酸、メタンスルホン酸、トル
エンスルホン酸などのプロトン酸、三弗化ホウ素、三弗
化ホウ素エーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化スズ、
塩化亜鉛、塩化鉄、塩化チタンなどのルイス酸、シュウ
酸などを用いることができる。
これらのうちでもプロトン酸を用いることが好ましく、
特に塩酸、硼酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン
酸などが好ましく用いられる。
特に塩酸、硼酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン
酸などが好ましく用いられる。
これら触媒の使用量は原料のアルデヒド化合物(III
>に対して0.001〜0.05モル倍の範囲で選定さ
れる。上記触媒は1種又は2種以上の混合物で使用され
る。
>に対して0.001〜0.05モル倍の範囲で選定さ
れる。上記触媒は1種又は2種以上の混合物で使用され
る。
本発明において芳香族ヒドロキシ化合物(IV)とアル
デヒド化合物(III)との酸性触媒存在下における反
応は通常80〜250℃で行なわれる。
デヒド化合物(III)との酸性触媒存在下における反
応は通常80〜250℃で行なわれる。
またこの反応温度は初期段階は80〜150℃の範囲で
行なわれ、必要に応じて反応温度を更に上昇させる。ま
た反応時間は1時間〜24時間の範囲で選定できる。
行なわれ、必要に応じて反応温度を更に上昇させる。ま
た反応時間は1時間〜24時間の範囲で選定できる。
本発明の上記反応は、芳香族ヒドロキシ化合物(TV)
を過剰に用いて溶媒として使用でき、これによって重合
度の上昇にともなう反応系の粘度上昇を防止しうる。
を過剰に用いて溶媒として使用でき、これによって重合
度の上昇にともなう反応系の粘度上昇を防止しうる。
芳香族ヒドロキシ化合物(■)を溶媒として使用する際
は、前記のアルデヒド化合物<I[[)と芳香族ヒドロ
キシ化合物(■)の使用割合は上述した範囲内に限られ
ない。
は、前記のアルデヒド化合物<I[[)と芳香族ヒドロ
キシ化合物(■)の使用割合は上述した範囲内に限られ
ない。
また、上記反応は、トルエン、クロルベンゼン。
ジクロルベンゼン、ニトロベンゼン、ジフェニルエーテ
ルなとの芳香族炭化水素、エチレングリコール、ジエチ
レングリコールなどのジメチルエーテルの如きエーテル
を溶媒として用いることもできる。
ルなとの芳香族炭化水素、エチレングリコール、ジエチ
レングリコールなどのジメチルエーテルの如きエーテル
を溶媒として用いることもできる。
かくし7て、上記式(I)のヒドロキシカルボン酸誘導
体が得られる。この化合物(1)はR1,R2が水素原
子でない場合、必要に応じて加水分解を行ないR1,R
2を水素化することができる。
体が得られる。この化合物(1)はR1,R2が水素原
子でない場合、必要に応じて加水分解を行ないR1,R
2を水素化することができる。
加水分解の方法は、公知の方法に従って水の存在下、酸
およびアルカリ触媒を使用して実施しうる。
およびアルカリ触媒を使用して実施しうる。
かくして上記式く工〉で表わされる本発明のエポキシ硬
化剤の主成分であるしドロキシカルボン酸又はそのエス
テルが得られる。
化剤の主成分であるしドロキシカルボン酸又はそのエス
テルが得られる。
このポリヒドロキシカルボン酸又はそのエステルは、分
子量の測定、赤外線分析MR)および核磁気共鳴分析(
NMR)によって同定することができる。
子量の測定、赤外線分析MR)および核磁気共鳴分析(
NMR)によって同定することができる。
以上に本発明のエポキシ硬化剤の主成分であるポリヒド
ロキシカルボン酸の好ましい合成法を示したが、合成法
に間しては必ずしもこれに限定されるものではない。
ロキシカルボン酸の好ましい合成法を示したが、合成法
に間しては必ずしもこれに限定されるものではない。
本発明のエポキシ硬化剤を用いて樹脂組成物を調製する
には、エポキシ化合物と本発明の硬化剤とを組合せるが
、必要に応じて、その他の硬化剤。
には、エポキシ化合物と本発明の硬化剤とを組合せるが
、必要に応じて、その他の硬化剤。
硬化促進剤、充填剤等を添加してもよい。特に硬化促進
剤は本発明のエポキシ樹脂用硬化剤に対し、その使用直
前に添加することにより、さらに低温硬化性を飛躍的に
向上させうる。好ましい硬化促進剤は、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン
、 2.4.6−)リス〈ジメチルアミンメチル)フェ
ノール、ヘキサメトキシメチルメラミンの如き3級アミ
ン類、N。
剤は本発明のエポキシ樹脂用硬化剤に対し、その使用直
前に添加することにより、さらに低温硬化性を飛躍的に
向上させうる。好ましい硬化促進剤は、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン
、 2.4.6−)リス〈ジメチルアミンメチル)フェ
ノール、ヘキサメトキシメチルメラミンの如き3級アミ
ン類、N。
N−ジメチルベンジルアミンオキサイドの如きアミンオ
キサイド類、トリフェニルホスフィシの如きリン化合物
、B F 3−ピペリジン、トリエタノールアミンボレ
ートの如きホウ素アミンコシブレックス類、ポリツクア
シドエステル誘導体、アニリン−ホルムアルデヒド樹脂
であるが、特に好ましくはN、N−ジメチルベンジルア
ミン7α−メチルベンジルジメチルアミン、 2,4.
6−トリス〈ジメチルアミノメチル)フェノールの如き
3級アミン類およびトリフェニルホスフィンの如きリン
化合物である。硬化促進剤の添加量は0.05〜5%、
好ましくは0.1〜1%、特に好ましくは 0゜2〜0
.8%である。上述の如き、ナフトール誘導体、ポリエ
ポキシ化合物および必要に応じて上記した如き硬化促進
剤を混合し、そのままあるいは、一部反応を起させてい
わゆるB−ステージの樹脂として賦形時に硬化反応を進
め硬化物を得ることになる。
キサイド類、トリフェニルホスフィシの如きリン化合物
、B F 3−ピペリジン、トリエタノールアミンボレ
ートの如きホウ素アミンコシブレックス類、ポリツクア
シドエステル誘導体、アニリン−ホルムアルデヒド樹脂
であるが、特に好ましくはN、N−ジメチルベンジルア
ミン7α−メチルベンジルジメチルアミン、 2,4.
6−トリス〈ジメチルアミノメチル)フェノールの如き
3級アミン類およびトリフェニルホスフィンの如きリン
化合物である。硬化促進剤の添加量は0.05〜5%、
好ましくは0.1〜1%、特に好ましくは 0゜2〜0
.8%である。上述の如き、ナフトール誘導体、ポリエ
ポキシ化合物および必要に応じて上記した如き硬化促進
剤を混合し、そのままあるいは、一部反応を起させてい
わゆるB−ステージの樹脂として賦形時に硬化反応を進
め硬化物を得ることになる。
上記成分以外に、硬化剤の一部を他の硬化剤、例えばフ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、ポリビニ
ルフェノール等のポリフェノール類、トリスリ1〜酸無
水物、フタル酸無水物等の無水物系硬化剤、にかえて用
いることも可能である。
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、ポリビニ
ルフェノール等のポリフェノール類、トリスリ1〜酸無
水物、フタル酸無水物等の無水物系硬化剤、にかえて用
いることも可能である。
さらに他の添加剤、アルミナ粉末、ウオラストナイト等
の無機粉末、アルミ、銅、銀等の金属粉末、色素、顔料
等硬化物の必要とする機能に応じて適当量添加すること
ができる。
の無機粉末、アルミ、銅、銀等の金属粉末、色素、顔料
等硬化物の必要とする機能に応じて適当量添加すること
ができる。
硬化前の樹脂混合物は、粉末やフレーク状としてトラン
スファー成型や圧縮成型して用いることができる。
スファー成型や圧縮成型して用いることができる。
また、ワニス等の溶液の形態で、表面に塗布乾煤硬化さ
せることにより、塗料、接着剤として用いることもでき
る。
せることにより、塗料、接着剤として用いることもでき
る。
また、かかるワニスをガラス織布やカーボン繊維、アラ
ミド繊維等に含浸、いわゆるプリプレグを調整し、該プ
リプレグをプレス成型、オートクレーブ成型によって構
造物に成型することができる。
ミド繊維等に含浸、いわゆるプリプレグを調整し、該プ
リプレグをプレス成型、オートクレーブ成型によって構
造物に成型することができる。
(発明の効果)
本発明による硬化剤を用いたエポキシ樹脂硬化物は低吸
湿性、電気特性、耐熱性に優れており、半導体封止剤用
をはじめとする電気電子用途、航空宇宙用等、先端技術
分野に好適に用いることができる。
湿性、電気特性、耐熱性に優れており、半導体封止剤用
をはじめとする電気電子用途、航空宇宙用等、先端技術
分野に好適に用いることができる。
〈実施例)
以下、実施例をあげて本発明を詳述するが、本発明はこ
れによって限定されるものではない。
れによって限定されるものではない。
なお、実施例中単に「部」とあるは、特にことわりのな
い限り重量部を表わす。
い限り重量部を表わす。
また、各実施例で得たエポキシ化合物の同定に使用した
赤外吸収スペクトル分析<IR>、核磁気共鳴スペクト
ル分析<NMR>の分析方法は次のとおりである。
赤外吸収スペクトル分析<IR>、核磁気共鳴スペクト
ル分析<NMR>の分析方法は次のとおりである。
a)赤外吸収スペクトル分析(IR)
ニートのエポキシ化合物をKBr板にキャストして常法
により測定しな。
により測定しな。
b)核磁気共鳴スペクトル分析(NMR)溶媒に重水累
化クロロホルムを使用し、標準サンプルとしてテトラメ
チルシランを使用して測定しな。
化クロロホルムを使用し、標準サンプルとしてテトラメ
チルシランを使用して測定しな。
合成例1
フェノール235部、p−ホルミル安息香酸25部。
P−)ルエンスルホン酸1水和物0.05部、濃塩酸0
.07部を攪拌上窒素気流中60℃で3時間、続いて徐
々に昇温しながら12時間反応し最終的に反応温度を1
60℃としな。この時反応の結果生成してくる水を反応
系外に留出させた。ここで得られた反応物を反応器より
取りだし、トルエン300部を添加した後、水100部
で3回洗浄した後、未反応のフェノールを80℃、 5
mmHgで減圧留去し、さらに水蒸気でフラッシングす
ることで除き、ポリヒドロキシカルボン酸31部を得た
。
.07部を攪拌上窒素気流中60℃で3時間、続いて徐
々に昇温しながら12時間反応し最終的に反応温度を1
60℃としな。この時反応の結果生成してくる水を反応
系外に留出させた。ここで得られた反応物を反応器より
取りだし、トルエン300部を添加した後、水100部
で3回洗浄した後、未反応のフェノールを80℃、 5
mmHgで減圧留去し、さらに水蒸気でフラッシングす
ることで除き、ポリヒドロキシカルボン酸31部を得た
。
得られたポリヒドロキシカルボン酸の融点は105〜1
25℃であり、ジオキサンを用いた凝固点降下法で求め
た分子量は342であった。また、元素分析の結果はC
(%)ニア5.12.H<%):5.03であった。
25℃であり、ジオキサンを用いた凝固点降下法で求め
た分子量は342であった。また、元素分析の結果はC
(%)ニア5.12.H<%):5.03であった。
この物のIR,NMRスペクトルより得られたポリヒド
ロキシカルボン酸が下記の化学構造を有することが確認
された。
ロキシカルボン酸が下記の化学構造を有することが確認
された。
[n+0.1]
合成例2
フェノール603部にP−トルエンスルホン酸1水和物
1.5部を溶かし100℃に加熱した溶液にp−ホルミ
ル安息香酸164部をトルエン164部の溶かした溶液
を攪拌上窒素気流中2時間かけて滴下した。反応申出て
くる水は系外に留去しつつさらに1時間反応させた後、
さらに110℃で2時間反応させ、引き続きこれを12
0℃で3時間反応させた。
1.5部を溶かし100℃に加熱した溶液にp−ホルミ
ル安息香酸164部をトルエン164部の溶かした溶液
を攪拌上窒素気流中2時間かけて滴下した。反応申出て
くる水は系外に留去しつつさらに1時間反応させた後、
さらに110℃で2時間反応させ、引き続きこれを12
0℃で3時間反応させた。
ここで得られた反応混合物に10%水酸化ナトリウム水
溶液1250部を加えて2時間加熱還流下加水分解した
後トルエン層を分離除去し、水層を10%塩酸水溶液で
酸析し、得られた固形物を1000部のメチルイソブチ
ルケトンに溶がし水600部で3回洗浄した後、メチル
イソブチルケトン、フェノールを減圧留去し295部の
ポリヒドロキシカルボン酸を得た。
溶液1250部を加えて2時間加熱還流下加水分解した
後トルエン層を分離除去し、水層を10%塩酸水溶液で
酸析し、得られた固形物を1000部のメチルイソブチ
ルケトンに溶がし水600部で3回洗浄した後、メチル
イソブチルケトン、フェノールを減圧留去し295部の
ポリヒドロキシカルボン酸を得た。
得られたポリヒドロキシカルボン酸の融点は130〜1
45℃であり、ジオキサンを用いた凝固点降下法で求め
た分子量は415であった。また元素分析の結果はC(
%) ニア4.87 、 H(%)+4.92であった
。
45℃であり、ジオキサンを用いた凝固点降下法で求め
た分子量は415であった。また元素分析の結果はC(
%) ニア4.87 、 H(%)+4.92であった
。
この物のIR,NMRスペクトルより得られなポリヒド
ロキシカルボン酸が下記の化学構造を有することが確認
された。
ロキシカルボン酸が下記の化学構造を有することが確認
された。
実施例1,2及び比較例1
エポキシ樹脂(油化シェル■製「エピコート154 J
) 100部、硬化剤として合成例1及び2で合成し
たポリヒドロキシカルボン酸50部を試験管内に仕込み
120℃で均一に混合した後、ここに硬化促進剤として
トリフェニルホスフィン2部を加え均一に混合し、予め
180℃に加熱した金型に流し7込み1時間反応させた
。この後硬化物を取りだして180℃で5時間アフター
キュアーを行なった。
) 100部、硬化剤として合成例1及び2で合成し
たポリヒドロキシカルボン酸50部を試験管内に仕込み
120℃で均一に混合した後、ここに硬化促進剤として
トリフェニルホスフィン2部を加え均一に混合し、予め
180℃に加熱した金型に流し7込み1時間反応させた
。この後硬化物を取りだして180℃で5時間アフター
キュアーを行なった。
得られた硬化物の熱変形温度(HDT)を東洋精機製作
新製HDT&VSPテスターで測定した結果を表1に示
す。
新製HDT&VSPテスターで測定した結果を表1に示
す。
比較のなめ、分子量504のフェノールホルマリンノボ
ラックを上記ポリヒドロキシカルボン酸の代りに使用し
実施例1,2と同様に成形した物のHDT (熱変形温
度)を表1の下段に示す。
ラックを上記ポリヒドロキシカルボン酸の代りに使用し
実施例1,2と同様に成形した物のHDT (熱変形温
度)を表1の下段に示す。
本発明のポリヒドロキシカルボン酸からなる硬化剤を使
用した方が耐熱性に優れた樹脂を与えることがわかった
。
用した方が耐熱性に優れた樹脂を与えることがわかった
。
表 1
実施例3,4及び比較例2
エポキシ樹脂(油化シェル■製[エピコート154 J
) 2部と、硬化剤として合成例1及び2で合成した
ポリヒドロキシカルボン酸1.2部を試験管内に仕込み
120℃で均一に混合した後、ここに硬化促進剤として
トリフェニルホスフィン0.04部を加え均一に混合し
、180℃のオイルバスにいれ樹脂液の温度を測定した
。表2にバス温く180℃)から最高発熱温度に到達す
るまでの時間(最高発熱温度到達時間)を゛記載した。
) 2部と、硬化剤として合成例1及び2で合成した
ポリヒドロキシカルボン酸1.2部を試験管内に仕込み
120℃で均一に混合した後、ここに硬化促進剤として
トリフェニルホスフィン0.04部を加え均一に混合し
、180℃のオイルバスにいれ樹脂液の温度を測定した
。表2にバス温く180℃)から最高発熱温度に到達す
るまでの時間(最高発熱温度到達時間)を゛記載した。
比較のため、比較例1で用いたフェノールホルマリンノ
ボラックを合成例1,2で合成したポリヒドロキシカル
ボン酸の代りに使用した場合の最高発熱温度到達時間を
測定し、表2の下段にその結果を記載した。
ボラックを合成例1,2で合成したポリヒドロキシカル
ボン酸の代りに使用した場合の最高発熱温度到達時間を
測定し、表2の下段にその結果を記載した。
本発明のポリヒドロキシカルボン酸からなる硬化剤を使
用した方が反応が速いことがわかった。
用した方が反応が速いことがわかった。
Claims (5)
- (1)下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) [式( I )において、Ar^1、Ar^2及びAr^
3は、同一もしくは相異なり、ベンゼン骨格、ナフタレ
ン骨格又は下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) (式(II)においてXは直接結合、−O−、−S−、−
SO_2−、−CO−又は炭素数1〜3のアルキリデン
基である) で表わされる骨格である。ただし、これらの骨格はハロ
ゲン原子又は炭素数1〜5のアルキル基で置換されてい
てもよく、また、Ar^1、Ar^2、Ar^3の全炭
素数はそれぞれ20以下である。R^1およびR^2は
、同一もしくは相異なり、水素原子又は炭素数1〜10
のアルキル基であり、qは0〜20の数であり、そして
l、mおよびnは1〜3の数である。] で表わされるヒドロキシカルボン酸又はそのエステルか
ら主として構成されるエポキシ硬化剤。 - (2)上記式( I )において、(OH)_l−Ar^
1−および(OH)_m−Ar^3−が、同一もしくは
相異なり、モノヒドロキシフェニル、ジヒドロキシフェ
ニル、モノヒドロキシモノメチルフェニル、モノヒドロ
キシナフチル、モノクロロモノヒドロキシフェニル、ジ
クロロモノヒドロキシフェニル、モノブロモモノヒドロ
キシフェニルおよびジブロモモノヒドロキシフェニルよ
りなる群から選ばれる1価の基である請求項(1)に記
載のエポキシ硬化剤。 - (3)上記式( I )において、▲数式、化学式、表等
があります▼ が、モノヒドロキシフェニレン、ジヒドロキシフェニレ
ン、モノヒドロキシモノメチルフェニレン、モノヒドロ
キシナフチレン、モノクロロモノヒドロキシフェニレン
、ジクロロモノヒドロキシフェニレン、モノブロモモノ
ヒドロキシフェニレンおよびジブロモモノヒドロキシフ
ェニレンよりなる群から選ばれる2価の基である請求項
(1)に記載のエポキシ硬化剤。 - (4)上記式( I )において、R^1およびR^2が
、同一もしくは相異なり、水素原子又はメチルである請
求項(1)に記載のエポキシ硬化剤。 - (5)上記式( I )においてqが0〜5の数である請
求項(1)に記載のエポキシ硬化剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28418790A JPH04159326A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 新規なエポキシ硬化剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28418790A JPH04159326A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 新規なエポキシ硬化剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04159326A true JPH04159326A (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=17675302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28418790A Pending JPH04159326A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 新規なエポキシ硬化剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04159326A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006070164A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Toray Ind Inc | 可視光硬化性樹脂組成物 |
US20150316850A1 (en) * | 2012-12-14 | 2015-11-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition comprising carbonyl-containing polyhydroxy aromatic ring novolac resin |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP28418790A patent/JPH04159326A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006070164A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Toray Ind Inc | 可視光硬化性樹脂組成物 |
US20150316850A1 (en) * | 2012-12-14 | 2015-11-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition comprising carbonyl-containing polyhydroxy aromatic ring novolac resin |
US11592747B2 (en) * | 2012-12-14 | 2023-02-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition comprising carbonyl-containing polyhydroxy aromatic ring novolac resin |
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