JPH04159250A - 脂環族化合物及びその製造方法 - Google Patents
脂環族化合物及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は農医薬の中間原料や樹脂改質材として有用なシ
クロ環又はビシクロ環を有する新規な脂環族エステルモ
ノオール化合物及び脂環族エステル化合物ならびにその
製造方法に関するものである。
クロ環又はビシクロ環を有する新規な脂環族エステルモ
ノオール化合物及び脂環族エステル化合物ならびにその
製造方法に関するものである。
従来、式(III)
〔式中、R,は低級のアルキレン基もしくは低級のシク
ロアルキレン基を示す〕 で表わされるシクロ環又はビシクロ環を有するジオール
は一般によく知られており、工業的に利用されている。
ロアルキレン基を示す〕 で表わされるシクロ環又はビシクロ環を有するジオール
は一般によく知られており、工業的に利用されている。
しかし、前記のジオール化合物は水酸基数が2つである
ために、エポキシ樹脂やウレタン樹脂の原料に用いた場
合、耐熱性、耐衝撃性などの物性について、その改善や
対応は充分ではない、そこで、これらの要求に応え得る
新規な化合物を収率よく合成することが求められていた
。
ために、エポキシ樹脂やウレタン樹脂の原料に用いた場
合、耐熱性、耐衝撃性などの物性について、その改善や
対応は充分ではない、そこで、これらの要求に応え得る
新規な化合物を収率よく合成することが求められていた
。
上記目的を達成するために、本発明者等は、種々の化合
物について鋭意検討した結果、式(【)〔式中R,は低
級のアルキレン基、R1は低級のアルキレン基もしくは
低級のシクロアルキレン基または低級のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲンもしくはシアノ基を
有した低級のアルキレン基もしくは低級のシクロアルキ
レン基、R3は水酸基又はアセトキシ基、nは1以上の
整数を示す〕 で表される化合物が上記の目的を達成することが出来る
こと、及び該化合物の収率よい製造方法を見出し本発明
に到った。
物について鋭意検討した結果、式(【)〔式中R,は低
級のアルキレン基、R1は低級のアルキレン基もしくは
低級のシクロアルキレン基または低級のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲンもしくはシアノ基を
有した低級のアルキレン基もしくは低級のシクロアルキ
レン基、R3は水酸基又はアセトキシ基、nは1以上の
整数を示す〕 で表される化合物が上記の目的を達成することが出来る
こと、及び該化合物の収率よい製造方法を見出し本発明
に到った。
゛ 即ち、本発明は式(1)で表される脂環族化合物及
びホルムアルデヒドと式(II) (HO汗L−CIIL (It)c式
(n)中R1は低級のアルキレン基、匙は低級のアルケ
ニレン基もしくは低級のシクロアルケニレン基または低
級のアルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン
もしくはシアノ基を有した低級のアルケニレン基もしく
は低級のシクロアルケニレン基、nは1以上の整数を示
す〕で表される化合物とホルムアルデヒドを反応させ、
次に無水酢酸、酢酸もしくは酢酸クロライドとを反応さ
せる一般式(1)で表される化合物の製造方法に関する
ものである。
びホルムアルデヒドと式(II) (HO汗L−CIIL (It)c式
(n)中R1は低級のアルキレン基、匙は低級のアルケ
ニレン基もしくは低級のシクロアルケニレン基または低
級のアルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン
もしくはシアノ基を有した低級のアルケニレン基もしく
は低級のシクロアルケニレン基、nは1以上の整数を示
す〕で表される化合物とホルムアルデヒドを反応させ、
次に無水酢酸、酢酸もしくは酢酸クロライドとを反応さ
せる一般式(1)で表される化合物の製造方法に関する
ものである。
本発明で用いる式(II)の化合物は、−船釣には1.
3−ジエン化合物と(10)、IR+−基(R1は式(
Nと同じ意味を示す)を有するジェノファイル化合物と
のディールスアルダー反応により容易に製造できる0式
(II)の化合物の具体的な化合物として、R4が低級
のアルケニレン基もしくは低級のシクロアルケニレン基
の場合、4−ヒドロキシメチルシクロヘキセン、4−ヒ
ドロキシエチルシクロヘキセン、4−(α、β−ジヒド
ロキシ)エチルシクロヘキセン、5−ヒドロキシメチル
−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシエチル−2−ノル
ボルネン、5−(α、β−ジヒドロキシ)エチル−2−
ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−ビシクロ(2,
2,2)−オクタ−2−エン1.5−ヒドロキシエチル
−ビシクロ(2,2,2)−オクタ−2−エン、5−(
α、β−ジヒドロキシ)エチル−ビシクロ(2,2,2
)−オクタ−2−エンなどである。
3−ジエン化合物と(10)、IR+−基(R1は式(
Nと同じ意味を示す)を有するジェノファイル化合物と
のディールスアルダー反応により容易に製造できる0式
(II)の化合物の具体的な化合物として、R4が低級
のアルケニレン基もしくは低級のシクロアルケニレン基
の場合、4−ヒドロキシメチルシクロヘキセン、4−ヒ
ドロキシエチルシクロヘキセン、4−(α、β−ジヒド
ロキシ)エチルシクロヘキセン、5−ヒドロキシメチル
−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシエチル−2−ノル
ボルネン、5−(α、β−ジヒドロキシ)エチル−2−
ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−ビシクロ(2,
2,2)−オクタ−2−エン1.5−ヒドロキシエチル
−ビシクロ(2,2,2)−オクタ−2−エン、5−(
α、β−ジヒドロキシ)エチル−ビシクロ(2,2,2
)−オクタ−2−エンなどである。
又R1が低級のアルキル基、アリール基、アラルキル基
、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルケニレ
ン基もしくはシクロアルケニレン基の場合、4−ヒドロ
キシメチル−5−メチルシクロヘキセン、4−ヒドロキ
シメチル−5−フェニルシクロヘキセン、4−ヒドロキ
シメチル−5=(p−メトキシフェニル)シクロヘキセ
ン、4−ヒドロキシメチル−5−クロロシクロヘキセン
、4−ヒドロキシメチル−5−シアノシクロヘキセン、
5−ヒドロキシメチル−6−メチル−2−ノルボルネン
、5−ヒドロキシメチル−6−フェニル−2−ノルボル
ネン、5−ヒドロキシメチル−6−(p−メトキシフェ
ニル)−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−6
−ブロモ−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−
6−ジアツー2−ノルボルネンなどである。
、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルケニレ
ン基もしくはシクロアルケニレン基の場合、4−ヒドロ
キシメチル−5−メチルシクロヘキセン、4−ヒドロキ
シメチル−5−フェニルシクロヘキセン、4−ヒドロキ
シメチル−5=(p−メトキシフェニル)シクロヘキセ
ン、4−ヒドロキシメチル−5−クロロシクロヘキセン
、4−ヒドロキシメチル−5−シアノシクロヘキセン、
5−ヒドロキシメチル−6−メチル−2−ノルボルネン
、5−ヒドロキシメチル−6−フェニル−2−ノルボル
ネン、5−ヒドロキシメチル−6−(p−メトキシフェ
ニル)−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−6
−ブロモ−2−ノルボルネン、5−ヒドロキシメチル−
6−ジアツー2−ノルボルネンなどである。
又、本発明の方法により得られる式(1)で表される化
合物の具体的な例としてR2が低級のアルキレン基もし
くは低級のシクロアルキレン基の場合、2.4−ジアセ
トキシメチルシクロヘキサノール、2.5−ジアセトキ
シメチルシクロへキサノール、1−アセトキシ−2,4
−ジアセトキシメチルシクロヘキサン、1−アセトキシ
−2,5−ジアセトキシメチルシクロヘキサン、2−ア
セトキシメチル−4−アセトキシエチルシクロヘキサノ
ール、2−アセトキシメチル−5−アセトキシエチルシ
クロヘキサノール、1−アセトキシ−2−アセトキシメ
チル−4−アセトキシエチルシクロヘキサン、1〜アセ
トキシ−2−アセトキシメチル−5−アセトキシエチル
シクロヘキサン、2−アセトキシメチル−4−(α、β
−ジアセトキシ)エチルシクロヘキサノール、2−アセ
トキシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エチルシ
クロヘキサノール、1−アセトキシ−2−アセトキシメ
チル−4−(α、β−ジアセトキシ)エチルシクロヘキ
サン、1−アセトキシ−2−アセトキシメチル−5−(
α、β−ジアセトキシ)エチルシクロヘキサン、3.5
−ジアセトキシメチルノルボルナン−2−オール、2.
5−ジアセトキシメチルノルボルナン−3−オール、2
−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチルノルボルナ
ン、2.5−ジアセトキシメチル−3−アセトキシノル
ボルナン、3−アセトキシメチル−5−アセトキシエチ
ルノルボルナン−2−オール、2−アセトキシメチル−
5−アセトキシエチルノルボルナン−3−オール、2−
アセトキシ−3−アセトキシメチル−5−アセトキシエ
チルノルボルナン、2−アセトキシメチル−3−アセト
キシ−5−アセトキシエチルノルボルナン、3−アセト
キシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エチルノル
ボルナン−2−オール、2−アセトキシメチル−5〜(
α、β−ジアセトキシ)エチルノルボルナン−3−オー
ル、2−7セトキシー3−アセトキシメチル−5−(α
、β、ジアセトキシ)エチルノルボルナン、2−アセト
キシメチル−3−7セトキシー5−(α、β−ジアセト
キシ)エチルノルボルナン、2−ヒドロキシ−3,5−
ジアセトキシメチルビシクロC2,2,2)オクタン、
3−ヒドロキシ−2,5−ジアセトキシメチルビシクロ
〔2゜2.2]オクタン、2−アセトキシ−3,5−ジ
アセトキシメチルビシクロ(2,2,2)オクタン、3
−アセトキシ−2,5−ジアセトキシメチルビシクロ(
2,2,2〕オクタン、2−ヒドロキシ−3−アセトキ
シメチル−5−アセトキシエチルビシクロ(2,2,2
)オクタン、3−ヒドロキシ−2−アセトキシメチル−
5−アセトキシエチルビシクロ(2,2,2〕オクタン
、2−アセトキシ−3−アセトキシメチル−5−アセト
キシエチルビシクロ(2,2,2)オクタン、2−アセ
トキシメチル−3−アセトキシ−5−アセトキシエチル
ビシクロ(2,2,2)オクタン、2−ヒドロキシ−3
−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エ
チルビシクロ(2,2,2)オクタン、3−ヒドロキシ
−22−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセトキ
シ)エチルビシクロ(2,2,23オクタン、2−アセ
トキシ−3−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセ
トキシ)エチルビシクロ〔2□2,2 )オクタン、2
−アセトキシメチル−3−アセトキシ−5−(α、β−
ジアセトキシ)エチルビシクロC2+2.2 )オクタ
ンなどである。
合物の具体的な例としてR2が低級のアルキレン基もし
くは低級のシクロアルキレン基の場合、2.4−ジアセ
トキシメチルシクロヘキサノール、2.5−ジアセトキ
シメチルシクロへキサノール、1−アセトキシ−2,4
−ジアセトキシメチルシクロヘキサン、1−アセトキシ
−2,5−ジアセトキシメチルシクロヘキサン、2−ア
セトキシメチル−4−アセトキシエチルシクロヘキサノ
ール、2−アセトキシメチル−5−アセトキシエチルシ
クロヘキサノール、1−アセトキシ−2−アセトキシメ
チル−4−アセトキシエチルシクロヘキサン、1〜アセ
トキシ−2−アセトキシメチル−5−アセトキシエチル
シクロヘキサン、2−アセトキシメチル−4−(α、β
−ジアセトキシ)エチルシクロヘキサノール、2−アセ
トキシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エチルシ
クロヘキサノール、1−アセトキシ−2−アセトキシメ
チル−4−(α、β−ジアセトキシ)エチルシクロヘキ
サン、1−アセトキシ−2−アセトキシメチル−5−(
α、β−ジアセトキシ)エチルシクロヘキサン、3.5
−ジアセトキシメチルノルボルナン−2−オール、2.
5−ジアセトキシメチルノルボルナン−3−オール、2
−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチルノルボルナ
ン、2.5−ジアセトキシメチル−3−アセトキシノル
ボルナン、3−アセトキシメチル−5−アセトキシエチ
ルノルボルナン−2−オール、2−アセトキシメチル−
5−アセトキシエチルノルボルナン−3−オール、2−
アセトキシ−3−アセトキシメチル−5−アセトキシエ
チルノルボルナン、2−アセトキシメチル−3−アセト
キシ−5−アセトキシエチルノルボルナン、3−アセト
キシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エチルノル
ボルナン−2−オール、2−アセトキシメチル−5〜(
α、β−ジアセトキシ)エチルノルボルナン−3−オー
ル、2−7セトキシー3−アセトキシメチル−5−(α
、β、ジアセトキシ)エチルノルボルナン、2−アセト
キシメチル−3−7セトキシー5−(α、β−ジアセト
キシ)エチルノルボルナン、2−ヒドロキシ−3,5−
ジアセトキシメチルビシクロC2,2,2)オクタン、
3−ヒドロキシ−2,5−ジアセトキシメチルビシクロ
〔2゜2.2]オクタン、2−アセトキシ−3,5−ジ
アセトキシメチルビシクロ(2,2,2)オクタン、3
−アセトキシ−2,5−ジアセトキシメチルビシクロ(
2,2,2〕オクタン、2−ヒドロキシ−3−アセトキ
シメチル−5−アセトキシエチルビシクロ(2,2,2
)オクタン、3−ヒドロキシ−2−アセトキシメチル−
5−アセトキシエチルビシクロ(2,2,2〕オクタン
、2−アセトキシ−3−アセトキシメチル−5−アセト
キシエチルビシクロ(2,2,2)オクタン、2−アセ
トキシメチル−3−アセトキシ−5−アセトキシエチル
ビシクロ(2,2,2)オクタン、2−ヒドロキシ−3
−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセトキシ)エ
チルビシクロ(2,2,2)オクタン、3−ヒドロキシ
−22−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセトキ
シ)エチルビシクロ(2,2,23オクタン、2−アセ
トキシ−3−アセトキシメチル−5−(α、β−ジアセ
トキシ)エチルビシクロ〔2□2,2 )オクタン、2
−アセトキシメチル−3−アセトキシ−5−(α、β−
ジアセトキシ)エチルビシクロC2+2.2 )オクタ
ンなどである。
又、R2が低級のアルキル基1、了り−ル基、アラルキ
ル基、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルキ
レン基もしくはシクロアルキレン基の場合、2.4−ジ
アセトキシメチル−5−メチルシクロヘキサノール、1
.4−ジアセトキシメチル−5−メチルシクロヘキサン
−2−オール、1−アセトキシ−2,4−ジアセトキシ
メチル、5−メチルシクロヘキサン、1.4−ジアセト
キシメチル−2−7セトキシー5−メチルシクロヘキサ
ン、2.4−シア七トキシメチルー5−フェニルシクロ
ヘキサノール、1.4−ジアセトキシメチル−5−フェ
ニルシクロヘキサン−2−オール、1−アセトキシ−2
,4−ジアセトキシメチル−5=フエニルシクロヘキサ
ン、1.4−ジアセトキシメチル−2−アセトキシ−5
−フェニルシクロヘキサン、2.4−ジアセトキシメチ
ル−5−(p−メトキシフェニル)シクロヘキサノール
、1.4−ジアセトキシメチル−5−(p−メトキシフ
ェニル)シクロヘキサン−2−オール、l−アセトキシ
−2,4−ジアセトキシメチル−5−(p−メトキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1,4−ジアセトキシメチル
−2−アセトキシ−5−(p−メトキシフエニ
\ル)シクロヘキサン、2.4−ジアセトキシメチル
−5−クロロシクロヘキサノール、1.4−ジアセトキ
シメチル−5−クロロシクロヘキサン−2−オール、1
−アセトキン−2,4−ジアセトキシメチル−5−クロ
ロシクロヘキサン、1.4−ジアセトキシメチル−2−
アセトキシ−5−クロロシクロヘキサン、2.4−ジア
セトキシメチル−5−シアノシクロヘキサノール、1.
4−ジアセトキシメチル−5−シアノシクロヘキサン−
2−オール、1−アセトキシ−2,4−ジアセトキシメ
チル−5−シアノシクロヘキサン、1,4−ジアセトキ
シメチル−2−アセトキシ−5−シアノシクロヘキサン
、3,5−ジアセトキシメチル−6−メチルノルボルナ
ン−2−オール、2.5−ジアセトキシメチル−6−メ
チルノルボルナン−3−オール、2−アセトキシ−3,
5−ジアセトキシメチル−6−メチルノルボルナン、2
.5−ジアセトキシメチル−3−アセトキシ−6−メチ
ルノルボルナン、3.5−ジアセトキノメチル−6−フ
エニルノルポルナンー2−オール、2,5−ジアセトキ
シメチル−6−フエニルノルポルナンー3−オール、2
−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−フェ
ニルノルボルナン、2.5−ジアセトキシメチル−3−
アセトキシ−6−フェニルノルボルナン、3,5−ジア
セトキシメチル−6−(p−メトキシフェニル)ノルボ
ルナン−2−オール、2.5−ジアセトキシメチル−6
−(P−メトキシフェニル)ノルボルナン−3−オール
、2−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−
(p−メトキンフェニル)ノルボルナン、2.5−ジア
セトキシメチル−3−アセトキシ−6−(p−メトキシ
フェニル)ノルボルナン、3.5−ジアセトキシメチル
−6−プロモノルボルナンー2−オール、2.5−ジア
セトキシメチル−6−プロモノルボルナンー3−オール
、2−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−
ブロモノルボルナン、2.5−ジアセトキシメチル−3
−アセトキシ−6−ブロモノルボルナン、3.5−ジア
セトキシメチル−6−シアノノルボルナン−2−オール
、2.5−ジアセトキシメチル−6−ジアノノルポルナ
ンー3−オール、2−アセトキシ−3□5−ジアセトキ
シメチル−6−シアノノルボルナン、2.5−ジアセト
キシメチル−3−アセトキシ−6−シアノノルボルナン
などである。
ル基、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルキ
レン基もしくはシクロアルキレン基の場合、2.4−ジ
アセトキシメチル−5−メチルシクロヘキサノール、1
.4−ジアセトキシメチル−5−メチルシクロヘキサン
−2−オール、1−アセトキシ−2,4−ジアセトキシ
メチル、5−メチルシクロヘキサン、1.4−ジアセト
キシメチル−2−7セトキシー5−メチルシクロヘキサ
ン、2.4−シア七トキシメチルー5−フェニルシクロ
ヘキサノール、1.4−ジアセトキシメチル−5−フェ
ニルシクロヘキサン−2−オール、1−アセトキシ−2
,4−ジアセトキシメチル−5=フエニルシクロヘキサ
ン、1.4−ジアセトキシメチル−2−アセトキシ−5
−フェニルシクロヘキサン、2.4−ジアセトキシメチ
ル−5−(p−メトキシフェニル)シクロヘキサノール
、1.4−ジアセトキシメチル−5−(p−メトキシフ
ェニル)シクロヘキサン−2−オール、l−アセトキシ
−2,4−ジアセトキシメチル−5−(p−メトキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1,4−ジアセトキシメチル
−2−アセトキシ−5−(p−メトキシフエニ
\ル)シクロヘキサン、2.4−ジアセトキシメチル
−5−クロロシクロヘキサノール、1.4−ジアセトキ
シメチル−5−クロロシクロヘキサン−2−オール、1
−アセトキン−2,4−ジアセトキシメチル−5−クロ
ロシクロヘキサン、1.4−ジアセトキシメチル−2−
アセトキシ−5−クロロシクロヘキサン、2.4−ジア
セトキシメチル−5−シアノシクロヘキサノール、1.
4−ジアセトキシメチル−5−シアノシクロヘキサン−
2−オール、1−アセトキシ−2,4−ジアセトキシメ
チル−5−シアノシクロヘキサン、1,4−ジアセトキ
シメチル−2−アセトキシ−5−シアノシクロヘキサン
、3,5−ジアセトキシメチル−6−メチルノルボルナ
ン−2−オール、2.5−ジアセトキシメチル−6−メ
チルノルボルナン−3−オール、2−アセトキシ−3,
5−ジアセトキシメチル−6−メチルノルボルナン、2
.5−ジアセトキシメチル−3−アセトキシ−6−メチ
ルノルボルナン、3.5−ジアセトキノメチル−6−フ
エニルノルポルナンー2−オール、2,5−ジアセトキ
シメチル−6−フエニルノルポルナンー3−オール、2
−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−フェ
ニルノルボルナン、2.5−ジアセトキシメチル−3−
アセトキシ−6−フェニルノルボルナン、3,5−ジア
セトキシメチル−6−(p−メトキシフェニル)ノルボ
ルナン−2−オール、2.5−ジアセトキシメチル−6
−(P−メトキシフェニル)ノルボルナン−3−オール
、2−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−
(p−メトキンフェニル)ノルボルナン、2.5−ジア
セトキシメチル−3−アセトキシ−6−(p−メトキシ
フェニル)ノルボルナン、3.5−ジアセトキシメチル
−6−プロモノルボルナンー2−オール、2.5−ジア
セトキシメチル−6−プロモノルボルナンー3−オール
、2−アセトキシ−3,5−ジアセトキシメチル−6−
ブロモノルボルナン、2.5−ジアセトキシメチル−3
−アセトキシ−6−ブロモノルボルナン、3.5−ジア
セトキシメチル−6−シアノノルボルナン−2−オール
、2.5−ジアセトキシメチル−6−ジアノノルポルナ
ンー3−オール、2−アセトキシ−3□5−ジアセトキ
シメチル−6−シアノノルボルナン、2.5−ジアセト
キシメチル−3−アセトキシ−6−シアノノルボルナン
などである。
本発明における反応について説明する。
まず、弐(II)で表される化合物とホルムアルデヒド
との反応〔以下第1段反応と呼ぶ、〕について説明する
。
との反応〔以下第1段反応と呼ぶ、〕について説明する
。
第1段反応で使用するホルムアルデヒドは、パラホルム
アルデヒド、トリオキサン、ホルマリン水溶液のいずれ
でもよく、ホルムアルデヒドの使用量は式〔■〕に表さ
れる化合物1.0モルに対して0.8モル〜10モルで
ある。この反応では、酸触媒を用いることもできる。用
いる酸触媒としては硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、酢酸、
p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
アルデヒド、トリオキサン、ホルマリン水溶液のいずれ
でもよく、ホルムアルデヒドの使用量は式〔■〕に表さ
れる化合物1.0モルに対して0.8モル〜10モルで
ある。この反応では、酸触媒を用いることもできる。用
いる酸触媒としては硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、酢酸、
p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
反応溶媒としては水、メタノール、エタノール、n−プ
ロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール、イソ
ブタノール、5eC−ブタノール、トルエン、キシレン
、ベンゼン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、n
−ヘキサン及びそれらの混合溶媒が用いられる。
ロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール、イソ
ブタノール、5eC−ブタノール、トルエン、キシレン
、ベンゼン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、n
−ヘキサン及びそれらの混合溶媒が用いられる。
反応温度はO′C乃至反応溶媒の還流温度であり、好ま
しくは50〜70°Cである。。
しくは50〜70°Cである。。
反応時間は温度により異なるが、通常30分〜100時
間である。反応時の圧力は、・常圧〜10atmで、好
ましくは、常圧近傍である。
間である。反応時の圧力は、・常圧〜10atmで、好
ましくは、常圧近傍である。
上記の方法で得られた反応液から反応物を得る方法とし
ては、抽出法、脱溶媒法等がある。好ましくは、有機溶
媒を用いた抽出法が望ましい。用いる?容媒としては、
メチルシクロヘキサン、n −ヘキサン、酢酸エチル、
酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン
、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジロー
プロピルエーテル、四塩化炭素、クロロホルム、キシレ
ン、トルエン、ベンゼン、n−ブチルアルコール、t−
ブチルアルコール、n−アミルアルコール等である。又
、抽出液中に酸触媒が混入している場合には、酸触媒を
中和するために、アリカリを加える。加えるアルカリと
しては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素
ナトリウム等である。
ては、抽出法、脱溶媒法等がある。好ましくは、有機溶
媒を用いた抽出法が望ましい。用いる?容媒としては、
メチルシクロヘキサン、n −ヘキサン、酢酸エチル、
酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン
、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジロー
プロピルエーテル、四塩化炭素、クロロホルム、キシレ
ン、トルエン、ベンゼン、n−ブチルアルコール、t−
ブチルアルコール、n−アミルアルコール等である。又
、抽出液中に酸触媒が混入している場合には、酸触媒を
中和するために、アリカリを加える。加えるアルカリと
しては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素
ナトリウム等である。
又、抽出液中にホルムアルデヒドが混入している場合に
は、それをとり除くために亜硫酸ナトリウム水溶液で洗
浄する。
は、それをとり除くために亜硫酸ナトリウム水溶液で洗
浄する。
又、抽出液から水分を除去する方法としては、無水硫酸
ナトリウム、無水硫酸マグネシウムを用いることが望ま
しい。
ナトリウム、無水硫酸マグネシウムを用いることが望ま
しい。
次に第1段反応物と無水酢酸、酢酸もしくは酢酸クロラ
イドとの反応(以下第2段反応と呼ぶ)について説明す
る。
イドとの反応(以下第2段反応と呼ぶ)について説明す
る。
第2段反応では、第1段反応で用いた式(11)に表さ
れる化合物1.0モルに対して、無水酢酸、酢酸もしく
は酢酸クロライドを1.0〜lOモル用いる。この反応
の際、酸触媒を用いることもできる。
れる化合物1.0モルに対して、無水酢酸、酢酸もしく
は酢酸クロライドを1.0〜lOモル用いる。この反応
の際、酸触媒を用いることもできる。
用いる酸触媒としては、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、酢
酸、p−1−ル エンスルホン酸等が挙げられる。
酸、p−1−ル エンスルホン酸等が挙げられる。
また、反応溶媒を用いることもできる。反応溶媒として
は無水酢酸、酢酸もしくは酢酸クロライドと反応しない
有機溶媒がよい。具体的には、シクロヘキサン、n−ヘ
キサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジ−n−プロピルエーテル、四塩化炭素、クロロホルム
、キシレン、トルエン、ベンゼン等である。
は無水酢酸、酢酸もしくは酢酸クロライドと反応しない
有機溶媒がよい。具体的には、シクロヘキサン、n−ヘ
キサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジ−n−プロピルエーテル、四塩化炭素、クロロホルム
、キシレン、トルエン、ベンゼン等である。
反応温度は0°C乃至)容媒の還流温度、又は無水酢酸
、酢酸もしくは酢酸クロライドの還流温度までの温度で
あり、好ましくは、室温近傍が7荻しい。反応温度は温
度により異なるが、通常30分〜100時間である。反
応時の圧力は、常圧〜10atmで、好ましくは常圧近
傍である。
、酢酸もしくは酢酸クロライドの還流温度までの温度で
あり、好ましくは、室温近傍が7荻しい。反応温度は温
度により異なるが、通常30分〜100時間である。反
応時の圧力は、常圧〜10atmで、好ましくは常圧近
傍である。
上記の方法で得られた反応混合液から反応物を取り出す
場合の方法としては、抽出法、脱溶媒法である。好まし
くは、有1aン容媒を用いた抽出法が望ましい。用いる
溶媒としては、メチルシクロヘキサン、n−ヘキサン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イ
ソブチル、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩
化炭素、クロロホルム、キシレン、トルエン、ベンゼン
、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、5e
c−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ア
ミルアルコール等である。
場合の方法としては、抽出法、脱溶媒法である。好まし
くは、有1aン容媒を用いた抽出法が望ましい。用いる
溶媒としては、メチルシクロヘキサン、n−ヘキサン、
シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イ
ソブチル、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩
化炭素、クロロホルム、キシレン、トルエン、ベンゼン
、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、5e
c−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ア
ミルアルコール等である。
又、抽出液中に酸触媒が混入している場合には、酸触媒
を中和するために、アリカリを加える。加えるアルカリ
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水
素ナトリウム等である。又、抽出液から水分を除去する
方法としては、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシ
ウムを用いることが望ましい。
を中和するために、アリカリを加える。加えるアルカリ
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水
素ナトリウム等である。又、抽出液から水分を除去する
方法としては、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシ
ウムを用いることが望ましい。
さらに精製法としては、カラムクロマトグラフィー法、
蒸留法等がある。又、得られた化合物の分析方法として
は、元素分析、IH−NMR1質量分析等が挙げられる
。
蒸留法等がある。又、得られた化合物の分析方法として
は、元素分析、IH−NMR1質量分析等が挙げられる
。
(実施例)
以下に実施例をあげて、本発明を更に詳しく説明する。
実施例1 (弐(n)が4−ヒドロキシメチルシクロヘ
キセンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに4−ヒドロキシメチルシクロヘキセン1
00g (0,89モル)と35%ホルマリン水溶液2
30g (2,67モル)及び95%硫酸27.8g
(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間攪拌反
応した。
キセンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに4−ヒドロキシメチルシクロヘキセン1
00g (0,89モル)と35%ホルマリン水溶液2
30g (2,67モル)及び95%硫酸27.8g
(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間攪拌反
応した。
反応液を冷却した後、酢酸エチル300m1と水100
mfiを加え抽出を行った。さらにもう−度この操作を
くり返した。抽出液を一緒にした後、炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液200y、fにて洗浄、次いで亜硫酸ナト
リウム飽和水溶液20Mにて洗浄し、更に100meの
飽和食塩水にて洗浄した。その後、無水硫酸ナトリウム
を用いて抽出液の水分を除去した。
mfiを加え抽出を行った。さらにもう−度この操作を
くり返した。抽出液を一緒にした後、炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液200y、fにて洗浄、次いで亜硫酸ナト
リウム飽和水溶液20Mにて洗浄し、更に100meの
飽和食塩水にて洗浄した。その後、無水硫酸ナトリウム
を用いて抽出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物150g
を得た。
を得た。
(第2段反応)
反応フラスコに第1段反応で得られた反応物150 g
と無水酢酸272g (2,67モル)と95%硫酸l
dを仕込み、50°Cにて10時間攪拌反応した。
と無水酢酸272g (2,67モル)と95%硫酸l
dを仕込み、50°Cにて10時間攪拌反応した。
反応液に水を加えて反応を停止した後、反応液より30
0mff1の酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作
を更に2回くり返した。抽出液を一緒にした後、400
mflの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、次
いで100mffの飽和食塩水にて洗浄した。その後無
水硫酸ナトリウムを用いて抽出液の水分を除去した。
0mff1の酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作
を更に2回くり返した。抽出液を一緒にした後、400
mflの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、次
いで100mffの飽和食塩水にて洗浄した。その後無
水硫酸ナトリウムを用いて抽出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物195
gを得た。
gを得た。
この反応物について展開液として酢酸エチルとn−へキ
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーで分離
生成を行い精製物152gを得た。
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーで分離
生成を行い精製物152gを得た。
この精製物について、元素分析、質量分析’H−NMR
測定を行、た。
測定を行、た。
(a)元素分析
CH
計算(i 59.0% 8.2%分析値 59
.6% 8.0% (b)質量分析(El、CI) El: m/z−43(CLCO)” m/z□226 (M HzO)”m/z=243
(M−H)” C1: m/z=227 (MI HzO)”m/
z=167 (MH[20CHsCOOH)”以上よ
り分子量は244となる。
.6% 8.0% (b)質量分析(El、CI) El: m/z−43(CLCO)” m/z□226 (M HzO)”m/z=243
(M−H)” C1: m/z=227 (MI HzO)”m/
z=167 (MH[20CHsCOOH)”以上よ
り分子量は244となる。
(c)’HNMR測定(CDCl2− δ(lり一り値
−之久±及 」敗 五員− 0,8〜1.9 m 68 CH2
−1,9〜2.0 m 2)1 >C
)I−CHz−2,0〜2.1 S 68
−口i、C0−2,8〜3,2 b
IH−川3.5〜3.7 m IH>郊−
0H3,8〜4.Ow 4H>Cl1−Cji
、−0これらの結果から、この精製物は下記の式(V)
及び(V[)の分子構造をもつ2.4−ジアセトキシメ
チルシクロヘキサノール及び2.5−ジアセトキシメチ
ルシクロヘキサノールの混合物であることが確認された
。従って、収率は70χである。
−之久±及 」敗 五員− 0,8〜1.9 m 68 CH2
−1,9〜2.0 m 2)1 >C
)I−CHz−2,0〜2.1 S 68
−口i、C0−2,8〜3,2 b
IH−川3.5〜3.7 m IH>郊−
0H3,8〜4.Ow 4H>Cl1−Cji
、−0これらの結果から、この精製物は下記の式(V)
及び(V[)の分子構造をもつ2.4−ジアセトキシメ
チルシクロヘキサノール及び2.5−ジアセトキシメチ
ルシクロヘキサノールの混合物であることが確認された
。従って、収率は70χである。
実施例2 (式(n)が5−ヒドロキシメチル−2−ノ
ルボルネンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに5−ヒドロキシメチル−2−ノルボルネ
ン110.4g (0,89モル)と35%ホルマリン
水溶液230g (2,67モル)及び95%硫酸27
.8g(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間
攪拌反応した。反応液を冷却し酢酸エチル300#lI
!と水100dを加え抽出を行った。この操作をもう一
度くり返した。抽出液を一緒にした後、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液200dにて洗浄し、さらに亜硫酸ナト
リウム飽和水溶液200dにて洗浄した。次に、100
mの飽和食塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウ
ムを用いて抽出液の水分を除去した。
ルボルネンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに5−ヒドロキシメチル−2−ノルボルネ
ン110.4g (0,89モル)と35%ホルマリン
水溶液230g (2,67モル)及び95%硫酸27
.8g(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間
攪拌反応した。反応液を冷却し酢酸エチル300#lI
!と水100dを加え抽出を行った。この操作をもう一
度くり返した。抽出液を一緒にした後、炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液200dにて洗浄し、さらに亜硫酸ナト
リウム飽和水溶液200dにて洗浄した。次に、100
mの飽和食塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウ
ムを用いて抽出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物157g
を得た。
を得た。
(第2段反応)
反応フラスコに第1段反応で得られた反応物157gと
酢酸300g (5,0モル)と95%硫酸1.5mR
を仕込み、60°Cにて30時間攪拌反応した。反応液
に水を加えて反応を停止した後、300dの酢酸エチル
で反応物を抽出した。この操作を2回くり返した。抽出
液を一緒にした後、400−の飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液にて洗浄し、その後150−の飽和食塩水にて洗
浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて抽出液の水
分を除去した。抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、
反応物175gを得た。
酢酸300g (5,0モル)と95%硫酸1.5mR
を仕込み、60°Cにて30時間攪拌反応した。反応液
に水を加えて反応を停止した後、300dの酢酸エチル
で反応物を抽出した。この操作を2回くり返した。抽出
液を一緒にした後、400−の飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液にて洗浄し、その後150−の飽和食塩水にて洗
浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて抽出液の水
分を除去した。抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、
反応物175gを得た。
この反応物について、展開液として酢酸エチルとn−ヘ
キサンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製を行い、精製物138.9gを得た。実施例
1と同様の分析をおこなった。
キサンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製を行い、精製物138.9gを得た。実施例
1と同様の分析をおこなった。
(a)元素分析
C−1御
計算値 60.9% 7,8%
分析値 60.7% 7.5%
(b)質量分析(ET 、CI )
El : m/z= 43 (CH3CO)”w/z=
238 (M−11tO)” m/z=255 (M−H)” C1: r/z = 239 (MHHzO) ”m
/z=179 (MH)IzOCH3CO0H)”以上
より分子量は256となる ( C) ’)I−NMR(CDCl3.δ値)−り逼
−之久±土 1敗 員凰−−− 0.8〜2.0 m 68 GHz−〉組
−(Jlt−0 2,0〜2.I S 6)1 健3CO
−2,1〜2.5 m 2H>C8−2,9〜
3.2 b 1)1 −川3.5〜3.7
m 18 >CH−OH3’、8〜4.1
m 4H>CH−Ch−0これらの結果からこの
精製物は式(■)及び式(■)で表される3、5−ジア
セトキシメチルノルボルナン−2−オール及び2.5−
ジアセトキシメチルノルボルナン−3オールの混合物で
あることを確認した。従って収率は61%である。
238 (M−11tO)” m/z=255 (M−H)” C1: r/z = 239 (MHHzO) ”m
/z=179 (MH)IzOCH3CO0H)”以上
より分子量は256となる ( C) ’)I−NMR(CDCl3.δ値)−り逼
−之久±土 1敗 員凰−−− 0.8〜2.0 m 68 GHz−〉組
−(Jlt−0 2,0〜2.I S 6)1 健3CO
−2,1〜2.5 m 2H>C8−2,9〜
3.2 b 1)1 −川3.5〜3.7
m 18 >CH−OH3’、8〜4.1
m 4H>CH−Ch−0これらの結果からこの
精製物は式(■)及び式(■)で表される3、5−ジア
セトキシメチルノルボルナン−2−オール及び2.5−
ジアセトキシメチルノルボルナン−3オールの混合物で
あることを確認した。従って収率は61%である。
実施例3(式(n)が4−ヒドロキシメチル−5−クロ
ロシクロヘキセンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに4−ヒドロキシメチル−5−クロロシク
ロヘキセン130.3g (0,89モル)と35%ホ
ルマリン水溶液230g (2,67モル)及び95%
硫酸27.8g (0,27モル)を入れ、55°Cに
て21時間攪拌反応した。
ロシクロヘキセンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに4−ヒドロキシメチル−5−クロロシク
ロヘキセン130.3g (0,89モル)と35%ホ
ルマリン水溶液230g (2,67モル)及び95%
硫酸27.8g (0,27モル)を入れ、55°Cに
て21時間攪拌反応した。
反応液を冷却後、酢酸エチル300mfと水100mj
!を加え抽出を行った。この操作をもう一度くり返した
。抽出液を合わせ、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液20
0m1にて洗浄した。さらに、亜硫酸ナトリウム飽和水
ン容液200dにて洗浄、次いで飽和食塩水100mf
f1にて洗浄した。その後、無水硫酸ナトリウムを用い
て抽出液の水分を除去した。抽出液をエバポレーターに
て脱溶媒し、反応物を155 g得た。
!を加え抽出を行った。この操作をもう一度くり返した
。抽出液を合わせ、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液20
0m1にて洗浄した。さらに、亜硫酸ナトリウム飽和水
ン容液200dにて洗浄、次いで飽和食塩水100mf
f1にて洗浄した。その後、無水硫酸ナトリウムを用い
て抽出液の水分を除去した。抽出液をエバポレーターに
て脱溶媒し、反応物を155 g得た。
(第2段反応)
反応フラスコに第1段反応で得られた反応物155g、
酢酸クロライド272’g (2,67モル)及び95
%硫酸0.5mlを仕込み、45°Cにて5時間攪拌反
応した。
酢酸クロライド272’g (2,67モル)及び95
%硫酸0.5mlを仕込み、45°Cにて5時間攪拌反
応した。
反応液に水を加えて反応を停止した後、300mff1
の酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作を2回くり
返した。抽出液を一緒にし、400m1の飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液にて洗浄し、さらに、150 mの飽
和食塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用
いて抽出液の水分を除去した。
の酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作を2回くり
返した。抽出液を一緒にし、400m1の飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液にて洗浄し、さらに、150 mの飽
和食塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用
いて抽出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物を185
g得た。
g得た。
この反応物について展開液として酢酸エチルとn−へキ
サン混合液を用いてカラムクロマトグラフィーにより分
離精製を行い、精製物156.2gを得た。実施例1と
同様の分析を行った。
サン混合液を用いてカラムクロマトグラフィーにより分
離精製を行い、精製物156.2gを得た。実施例1と
同様の分析を行った。
(a)元素分析
−9よ −H−−工L−
計算値 51.7% 6.8% 12.7%分析
値 52.0% 6.6% 12.7%(b)質
量分析(Ei El : m/z= 43 (C)13CO)’m/z
=260.5(M HzO)”以上より分子量は27
8.5となる ( C) ’H−NMR(CDCI+、δ値)−L且−
之久±止 1敗 豫履−一 0.8〜2.0 m 6H:l:=CH−Ch
−〉印−CH2−0 2,0〜2.1 s 6HCjL、−C02
,8〜3.2 b III −川3.5〜3
.9 、 m 2H>Ctl−OH〉印−CI 3.9〜4.2 m 4H>C1l−CH−0
以上の結果よりこの精製物は式(IX)及び式(X)で
表される2、4−ジアセトキシメチル−5−クロロシク
ロヘキサノール及び1.4−ジアセトキシメチル−5−
クロロシクロヘキサン−2−オールの混合物であること
を確認した。従って収率は63χである。
値 52.0% 6.6% 12.7%(b)質
量分析(Ei El : m/z= 43 (C)13CO)’m/z
=260.5(M HzO)”以上より分子量は27
8.5となる ( C) ’H−NMR(CDCI+、δ値)−L且−
之久±止 1敗 豫履−一 0.8〜2.0 m 6H:l:=CH−Ch
−〉印−CH2−0 2,0〜2.1 s 6HCjL、−C02
,8〜3.2 b III −川3.5〜3
.9 、 m 2H>Ctl−OH〉印−CI 3.9〜4.2 m 4H>C1l−CH−0
以上の結果よりこの精製物は式(IX)及び式(X)で
表される2、4−ジアセトキシメチル−5−クロロシク
ロヘキサノール及び1.4−ジアセトキシメチル−5−
クロロシクロヘキサン−2−オールの混合物であること
を確認した。従って収率は63χである。
実施例4(式(It)が4−ヒドロキシメチル−5−シ
アノシクロヘキセンの場合) (第1段反応) 4−ヒドロキシメチル−5−シアノシクロヘキセン12
2.0g (0,89モル)を反応フラスコ中のパラホ
ルムアルデヒド80.1g (2,67モル)、水14
9g及び95%硫酸27.8g (0,27モル)の均
一水溶液に加え、60”Cにて22時間撹拌反応した。
アノシクロヘキセンの場合) (第1段反応) 4−ヒドロキシメチル−5−シアノシクロヘキセン12
2.0g (0,89モル)を反応フラスコ中のパラホ
ルムアルデヒド80.1g (2,67モル)、水14
9g及び95%硫酸27.8g (0,27モル)の均
一水溶液に加え、60”Cにて22時間撹拌反応した。
反応液を冷却後、酢酸エチル300mNと水100mf
を加え抽出を行った。この操作をもう一度くり返した。
を加え抽出を行った。この操作をもう一度くり返した。
抽出液を合わせ、炭酸水素ナトリウム飽和水i8?(2
200m2にて洗浄し、次に、飽和食塩水100mρに
て抽出液を洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて抽
出液の水分を除去した。
200m2にて洗浄し、次に、飽和食塩水100mρに
て抽出液を洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて抽
出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物195g
を得た。
を得た。
(第2段反応)
反応フラスコに第1段反応で得られた反応物195g、
無水酢酸272g (2,67モル)及び95%硫酸1
ydを仕込み、50°Cにて10時間攪拌反応した。
無水酢酸272g (2,67モル)及び95%硫酸1
ydを仕込み、50°Cにて10時間攪拌反応した。
反応液に水を加えて反応を停止した後、300滅の酢酸
エチルで反応物を抽出した。この操作を2回くり返した
。抽出液を一緒にし、400dの飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液にて洗浄し、さらに100mF!の飽和食塩水
にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて抽出
液の水分を除去した。
エチルで反応物を抽出した。この操作を2回くり返した
。抽出液を一緒にし、400dの飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液にて洗浄し、さらに100mF!の飽和食塩水
にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて抽出
液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物を205
g得た。
g得た。
この反応物について展開液として酢酸エチルとn−ヘキ
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーにより
分離精製を行い、精製物174.1gを得た。実施例1
と同様の分析を行った。
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィーにより
分離精製を行い、精製物174.1gを得た。実施例1
と同様の分析を行った。
(a)元素分析
一旦一 −1−−に−
計算値 58.0% 7.1% 5.2%分析値
57.7% 7.3% 5.5%(b)質量分
析(El) El : m/z= 43 (CH:+CO) ”m
/z=251 (M )IzO) ”m/z=26
8 (M −H)” 以上より分子量は269となる ( c ) ’H−NMR(CDCh、δ値)]−之久
±土 孔数 −A凰− 0,8〜2.0 m 6HCHz−〉則−CI
+2−0− 2.0〜2.I S 6H■、−002.5
〜2.7 m IH>CH−CN2.7〜3.
Q b IH−此3.5〜3.7 m
l)1 >C)l−0)13.8〜4.2 m
4H>CH−Cii−0以上の結果よりこの精製
物は式(XI)及び式(XI)で表される2、4−ジア
セトキシメチル−5−シアノシクロヘキサノール及び1
,4−ジアセトキシメチル−5−1シアノシクロヘキサ
ン−2−オールの混合物であることを確認した。従って
収率は73Xである。
57.7% 7.3% 5.5%(b)質量分
析(El) El : m/z= 43 (CH:+CO) ”m
/z=251 (M )IzO) ”m/z=26
8 (M −H)” 以上より分子量は269となる ( c ) ’H−NMR(CDCh、δ値)]−之久
±土 孔数 −A凰− 0,8〜2.0 m 6HCHz−〉則−CI
+2−0− 2.0〜2.I S 6H■、−002.5
〜2.7 m IH>CH−CN2.7〜3.
Q b IH−此3.5〜3.7 m
l)1 >C)l−0)13.8〜4.2 m
4H>CH−Cii−0以上の結果よりこの精製
物は式(XI)及び式(XI)で表される2、4−ジア
セトキシメチル−5−シアノシクロヘキサノール及び1
,4−ジアセトキシメチル−5−1シアノシクロヘキサ
ン−2−オールの混合物であることを確認した。従って
収率は73Xである。
実施例5(式(It)が5−ヒドロキシメチル−2−ノ
ルボルネンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに5−ヒドロキシメチル−2−ノルボルネ
ン110.4g(0,89モル)と35Z−ホルマリン
l液230g(2,67モル)及び95χ−硫酸27.
8g(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間撹
拌反応した。
ルボルネンの場合) (第1段反応) 反応フラスコに5−ヒドロキシメチル−2−ノルボルネ
ン110.4g(0,89モル)と35Z−ホルマリン
l液230g(2,67モル)及び95χ−硫酸27.
8g(0,27モル)を入れ、55°Cにて15時間撹
拌反応した。
反応液を冷却後、酢酸エチル300m1 と水100m
1を加え抽出を行った。この操作をもう一度繰り返した
。抽出液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液200m l
にて洗浄、さらに亜硫酸ナトリウム飽和水溶液200m
1にて洗浄、ついで100m1の飽和食塩水にて洗浄し
た。
1を加え抽出を行った。この操作をもう一度繰り返した
。抽出液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液200m l
にて洗浄、さらに亜硫酸ナトリウム飽和水溶液200m
1にて洗浄、ついで100m1の飽和食塩水にて洗浄し
た。
その後無水硫酸ナトリウムを用いて抽出液の水分を除去
した。
した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物157g
を得た。
を得た。
(第2段反応)
反応フラスコに第1段反応で得られた反応物157gと
酢酸クロライド431.8g(5,5モル)と95χ−
硫酸0.5+nlを仕込み、50°Cで10時間攪拌反
応した。
酢酸クロライド431.8g(5,5モル)と95χ−
硫酸0.5+nlを仕込み、50°Cで10時間攪拌反
応した。
反応液に水を加えて反応を停止した。反応液より300
m lの酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作を2
回繰り返した。抽出液を400m1 の飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液にて洗浄し、さらに150m1の飽和食
塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて
抽出液の水分を除去した。
m lの酢酸エチルで反応物を抽出した。この操作を2
回繰り返した。抽出液を400m1 の飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液にて洗浄し、さらに150m1の飽和食
塩水にて洗浄した。その後無水硫酸ナトリウムを用いて
抽出液の水分を除去した。
抽出液をエバポレーターにて脱溶媒し、反応物215g
を得た。
を得た。
二の反応物について展開液として酢酸エチルとn−ヘキ
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィで分離精
製し精製物159.1gを得、分析した。
サンの混合液を用いてカラムクロマトグラフィで分離精
製し精製物159.1gを得、分析した。
(a)元素分析
CH
計算値 60.4% 7.4%
分析値 60.0% 7.6%
(b)!量分析(El)
El : m/z= 43 (C)13co )”m/
z=280 (11LO)” IIl/z=297 (M−8)” 以上より分子量は298となる ( b ) ’H−NMR(CDCI2.δ値)−り値
−之l±酉 −用数 −舞l− 0,8〜2.0 m 6HCji2−> CI
I −CHz 2.0〜2.1 s 98 GHz−
CO−2,1〜2.5 m 2H>CH−3,
7〜4.2 m 5)1 >CH−0
>CH−Cjil−0 以上の結果からこの精製物は式(XI[l)及び式(X
IV)で表される3、5−ジアセトキシメチル−2−ア
セトキシノルボルナン及び2.5−ジアセトキシメチル
−3−アセトキシノルボルナンの混合物であることを確
認した。従って収率は60χである。
z=280 (11LO)” IIl/z=297 (M−8)” 以上より分子量は298となる ( b ) ’H−NMR(CDCI2.δ値)−り値
−之l±酉 −用数 −舞l− 0,8〜2.0 m 6HCji2−> CI
I −CHz 2.0〜2.1 s 98 GHz−
CO−2,1〜2.5 m 2H>CH−3,
7〜4.2 m 5)1 >CH−0
>CH−Cjil−0 以上の結果からこの精製物は式(XI[l)及び式(X
IV)で表される3、5−ジアセトキシメチル−2−ア
セトキシノルボルナン及び2.5−ジアセトキシメチル
−3−アセトキシノルボルナンの混合物であることを確
認した。従って収率は60χである。
本発明で得られたジエステルモノオール類およびトリエ
ステル類は農医薬の中間原料や樹脂改質材等として有用
な化合物である。またつ、レタン樹脂原料の中間体とし
ても有用である。得られたウレタン樹脂には耐熱性、耐
候性の著しい向上がみとめられる。
ステル類は農医薬の中間原料や樹脂改質材等として有用
な化合物である。またつ、レタン樹脂原料の中間体とし
ても有用である。得られたウレタン樹脂には耐熱性、耐
候性の著しい向上がみとめられる。
又、塗料などに用いた場合には、乾燥性が一層向上し、
さらに硬く、強靭であり、耐薬品性、耐水性に極めてす
ぐれた塗膜が得られる。
さらに硬く、強靭であり、耐薬品性、耐水性に極めてす
ぐれた塗膜が得られる。
また、これらの性質を利用して、プラスチックレンズ用
の原料中間体としても使用できる。
の原料中間体としても使用できる。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式( I )中、R_1は低級のアルキレン基、R_2
は低級のアルキレン基もしくは低級のシクロアルキレン
基または低級のアルキル基、アリール基、アラルキル基
、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルキレン
基もしくは低級のシクロアルキレン基、R_3は水酸基
又はアセトキシ基、nは1以上の整数を示す〕 で表される脂環族化合物。 2)ホルムアルデヒドと式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式(II)中、R_1は低級のアルキレン基、R_4は
低級のアルケニレン基もしくは低級のシクロアルケニレ
ン基または低級のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、ハロゲンもしくはシアノ基を有した低級のアルケニ
レン基もしくは低級のシクロアルケニレン基、nは1以
上の整数を示す〕 で表される化合物を反応させ、次に無水酢酸、酢酸もし
くは酢酸クロライドを反応させることを特徴とする請求
項1記載の脂環族化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2284148A JPH04159250A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 脂環族化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2284148A JPH04159250A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 脂環族化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04159250A true JPH04159250A (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=17674796
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2284148A Pending JPH04159250A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 脂環族化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04159250A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007032385A1 (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-22 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | 潤滑油 |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP2284148A patent/JPH04159250A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007032385A1 (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-22 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | 潤滑油 |
US7902406B2 (en) | 2005-09-13 | 2011-03-08 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | Lubricating oil |
JP5149010B2 (ja) * | 2005-09-13 | 2013-02-20 | Khネオケム株式会社 | 潤滑油、並びに、脂環式化合物及びその製造法 |
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