JPH04148689A - 光学活性3―ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 - Google Patents
光学活性3―ヒドロキシ酪酸エステルの製造法Info
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- DPJRMOMPQZCRJU-UHFFFAOYSA-M thiamine hydrochloride Chemical compound Cl.[Cl-].CC1=C(CCO)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N DPJRMOMPQZCRJU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アセト酢酸エステルを微生物的に還元して、
光学活性3−ヒドロキシ酪酸エステル、即ち3(R)−
ヒドロキシ酪酸エステル又は3(S)−ヒドロキシ酪酸
エステルを製造する方法に関するものである。3(R)
−ヒドロキシ酪酸エステル及び3(S)−ヒドロキシ酪
酸エステルは種々の医薬品、例えば抗生物質等の重要合
成原料である。
光学活性3−ヒドロキシ酪酸エステル、即ち3(R)−
ヒドロキシ酪酸エステル又は3(S)−ヒドロキシ酪酸
エステルを製造する方法に関するものである。3(R)
−ヒドロキシ酪酸エステル及び3(S)−ヒドロキシ酪
酸エステルは種々の医薬品、例えば抗生物質等の重要合
成原料である。
アセト酢酸エステルの不斉還元による3(R)−ヒドロ
キシ酪酸エステルの製造法としては、(R。
キシ酪酸エステルの製造法としては、(R。
R)−酒石酸修飾ラネイニッケル等を触媒として用いる
有機合成による方法(日本化学会誌、l091270
(1986)、特開昭60−36442号公報)、ジオ
トリカム・カンジダム(Geotrichum Can
di−dum)、ロドトルラ・バリダ(Rhodoto
rula palli−da)等を用いる微生物的方法
(Helv、Chim、^cta、。
有機合成による方法(日本化学会誌、l091270
(1986)、特開昭60−36442号公報)、ジオ
トリカム・カンジダム(Geotrichum Can
di−dum)、ロドトルラ・バリダ(Rhodoto
rula palli−da)等を用いる微生物的方法
(Helv、Chim、^cta、。
66、485(1983) 、特開平1−117792
号公報)が知られている。
号公報)が知られている。
又アセト酢酸エステルの不斉還元による3(S)−ヒド
ロキシ酪酸エステルの製造法としては、不斉修飾ニッケ
ル触媒を用いる有機合成による方法(油化学、 29.
44(1980)) 、パン酵母(Saccharom
yces cerevisiae)、サーモアナエロビ
ウム轡ブ07キー(Thermoanaerobium
brockii等を用いる微生物的方法(^ngew
、 Chem、Int。
ロキシ酪酸エステルの製造法としては、不斉修飾ニッケ
ル触媒を用いる有機合成による方法(油化学、 29.
44(1980)) 、パン酵母(Saccharom
yces cerevisiae)、サーモアナエロビ
ウム轡ブ07キー(Thermoanaerobium
brockii等を用いる微生物的方法(^ngew
、 Chem、Int。
Bd、 Bngl、、 23.570(1984);^
ngew、Chem、 Int。
ngew、Chem、 Int。
Bd、 Engl、、 23.1501984))が知
られテイル。
られテイル。
上記の方法が知られているもののアセト酢酸エステルか
らの、3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル及び3(S)
−ヒドロキシ酪酸エステルの如き光学活性3−ヒドロキ
シ酪酸エステルの製造を工業的に実施するために、解決
すべき課題はまだ多い。中でも光学活性及び収率の高い
簡便な製造方法を得ることは重要である。
らの、3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル及び3(S)
−ヒドロキシ酪酸エステルの如き光学活性3−ヒドロキ
シ酪酸エステルの製造を工業的に実施するために、解決
すべき課題はまだ多い。中でも光学活性及び収率の高い
簡便な製造方法を得ることは重要である。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者等は、上記の如き問題点を解決するため鋭意研
究を重ねた結果、アセト酢酸エステルにクロストリジウ
ム(Clostridium)属、メタノバクテリウム
(Methanobacter ium)属、メタノサ
ルシナ(Methanosarcina)属及びアセト
ゲニュウム(Acetogen ium)属から選ばれ
る微生物又はその処理物を作用させた場合、光学活性3
−ヒドロキシ酪酸エステルが得られることを見出し、本
発明を完成するに至った。
究を重ねた結果、アセト酢酸エステルにクロストリジウ
ム(Clostridium)属、メタノバクテリウム
(Methanobacter ium)属、メタノサ
ルシナ(Methanosarcina)属及びアセト
ゲニュウム(Acetogen ium)属から選ばれ
る微生物又はその処理物を作用させた場合、光学活性3
−ヒドロキシ酪酸エステルが得られることを見出し、本
発明を完成するに至った。
本発明で用いる出発原料のアセト酢酸エステルとは、例
えば触媒存在下、アルコールとジケテンを反応させる等
して得られる一般式CH,C0CH,COロRで示され
る化合物である。Rはアルキル基であり、好ましくは低
級アルキル基、例えばアセト酢酸メチル及びアセト酢酸
エチルが有用である。
えば触媒存在下、アルコールとジケテンを反応させる等
して得られる一般式CH,C0CH,COロRで示され
る化合物である。Rはアルキル基であり、好ましくは低
級アルキル基、例えばアセト酢酸メチル及びアセト酢酸
エチルが有用である。
本発明で用いる菌株として有用なものを例示すれば次の
通りである。クロストリジウム・サーモアセチクム(C
lostridium thermoaceticum
)DSM 1754、メタノバクテリウム・サーモアウ
トトロフィクム(Methanobacterium
thermoaut。
通りである。クロストリジウム・サーモアセチクム(C
lostridium thermoaceticum
)DSM 1754、メタノバクテリウム・サーモアウ
トトロフィクム(Methanobacterium
thermoaut。
trophicum)DSM 1053、メタノサルシ
ナ・バーケリ(Methanosarcina bar
keri)DSM 804 、メタノサルシナ・エスピ
ー(Methanosarcina sp、)03M2
906、メタノサルシナ−xスピー(Methanos
ar−cina sp、)DSM 2980 、クロス
トリジウム・サーモオートトロヒカム(Clostri
dium thermoauto−trophicum
)DSM 1974、アセトゲニュウム・キブイ(^c
etogenium kivui)DSM 2030
aまたこれらの変異株も用いることができる。
ナ・バーケリ(Methanosarcina bar
keri)DSM 804 、メタノサルシナ・エスピ
ー(Methanosarcina sp、)03M2
906、メタノサルシナ−xスピー(Methanos
ar−cina sp、)DSM 2980 、クロス
トリジウム・サーモオートトロヒカム(Clostri
dium thermoauto−trophicum
)DSM 1974、アセトゲニュウム・キブイ(^c
etogenium kivui)DSM 2030
aまたこれらの変異株も用いることができる。
本発明で用いる菌株の培養は、原則的には一般の微生物
の場合と同様であるが、酸素の混入を防ぐことが必要で
あり、実験室的には、ゴム栓などで密栓した培養器中で
、静置あるいは振盪する方法が用いられる。工業的には
通常用いられる発酵槽がそのまま利用でき、装置内の酸
素は窒素等の不活性気体あるいは培養で使用する二酸化
炭素、水素等の気体で置換することにより嫌気的な雰囲
気を作ることが可能である。
の場合と同様であるが、酸素の混入を防ぐことが必要で
あり、実験室的には、ゴム栓などで密栓した培養器中で
、静置あるいは振盪する方法が用いられる。工業的には
通常用いられる発酵槽がそのまま利用でき、装置内の酸
素は窒素等の不活性気体あるいは培養で使用する二酸化
炭素、水素等の気体で置換することにより嫌気的な雰囲
気を作ることが可能である。
発酵槽の形式は特に問わないが、普通に使用される攪拌
混合槽のほか、−段あるいは多段の気泡塔型、ドラフト
チューブ型の発酵槽も利用できる。
混合槽のほか、−段あるいは多段の気泡塔型、ドラフト
チューブ型の発酵槽も利用できる。
培養に用いる培地は各種培地が考えられるが、炭素源と
して各種糖類、酢酸、メタノール、二酸化炭素等があり
、窒素源として無機塩類、酵母エキス、肉エキス、ペプ
トン、コーンスチーブリカー等がある。その他必要に応
じ、リン酸二水素カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸マ
ンガン、塩化ナトリウム、硫酸亜鉛、硫酸銅、明ばん、
モリブデン酸ナトリウム等の無機化合物、ビオチンやパ
ントテン酸等のビタミン類を添加することは通常行われ
るとおりである。
して各種糖類、酢酸、メタノール、二酸化炭素等があり
、窒素源として無機塩類、酵母エキス、肉エキス、ペプ
トン、コーンスチーブリカー等がある。その他必要に応
じ、リン酸二水素カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸マ
ンガン、塩化ナトリウム、硫酸亜鉛、硫酸銅、明ばん、
モリブデン酸ナトリウム等の無機化合物、ビオチンやパ
ントテン酸等のビタミン類を添加することは通常行われ
るとおりである。
培地のp)1は3.0〜9.5、培養温度は20〜75
℃の範囲で培養するのが好ましい。
℃の範囲で培養するのが好ましい。
反応方法としては、培養液をそのまま用いる方法、遠心
分離などにより菌体を分離し、これをそのままあるいは
洗浄した後、緩衝液、水などに再懸濁したものに、アセ
ト酢酸エステルを添加し反応させる方法、菌体破砕物、
アセトン処理、凍結乾燥などの処理を施したものを生菌
体の代わりに用いる方法、これらを担体などに固定化し
て用いる方法なども適用できる。この反応の際、グルコ
ース、フルクトース、酢酸、メタノール、水素などをエ
ネルギー源止して添加した方が収率が向上する場合が多
い。
分離などにより菌体を分離し、これをそのままあるいは
洗浄した後、緩衝液、水などに再懸濁したものに、アセ
ト酢酸エステルを添加し反応させる方法、菌体破砕物、
アセトン処理、凍結乾燥などの処理を施したものを生菌
体の代わりに用いる方法、これらを担体などに固定化し
て用いる方法なども適用できる。この反応の際、グルコ
ース、フルクトース、酢酸、メタノール、水素などをエ
ネルギー源止して添加した方が収率が向上する場合が多
い。
かかる反応時の媒体は水のみならず、水と相溶性のある
有機溶剤、例えばアルコール、アセトンなどの水/有機
溶媒混合系も用いられる。
有機溶剤、例えばアルコール、アセトンなどの水/有機
溶媒混合系も用いられる。
微生物に対して害にならない有機溶媒を選択することは
もちろん必要である。
もちろん必要である。
系に対しアセト酢酸エステルはそのまま、又は有機溶媒
に溶解あるいは分散させて添加される。該エステルの系
中濃度範囲は通常0.01〜50重量%であり、0.O
1重量%未渦の場合は反応的には不都合はないが、経済
的に実用に乏しく、一方、50重量%より大きくなる場
合は菌体への負荷がかかりすぎ、収率が低下するなど問
題が生じやすい。
に溶解あるいは分散させて添加される。該エステルの系
中濃度範囲は通常0.01〜50重量%であり、0.O
1重量%未渦の場合は反応的には不都合はないが、経済
的に実用に乏しく、一方、50重量%より大きくなる場
合は菌体への負荷がかかりすぎ、収率が低下するなど問
題が生じやすい。
また反応はpH3〜9.5の範囲で、4〜75℃の温度
で行うのが好ましく、1〜200時間、攪拌あるいは静
置下で行う。
で行うのが好ましく、1〜200時間、攪拌あるいは静
置下で行う。
反応終了後は反応液を酢酸エチノペヘキサン等の有機溶
媒を用いて抽出後、溶媒を除去するか、菌株を遠心分離
等の常法に従って分離し、直接蒸留により回収する方法
を用いて光学活性3−ヒドロキシ酪酸エステルを得る。
媒を用いて抽出後、溶媒を除去するか、菌株を遠心分離
等の常法に従って分離し、直接蒸留により回収する方法
を用いて光学活性3−ヒドロキシ酪酸エステルを得る。
本発明に於いては、出発原料及び菌体を適当に組み合わ
せることにより目的とする光学活性3−ヒドロキシ酪酸
エステルを得ることができる。
せることにより目的とする光学活性3−ヒドロキシ酪酸
エステルを得ることができる。
以下、本発明を具体的に実施例にて説明するが、本発明
はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例における光学純度及び収率は順相系カラム(ファ
インバック5ILC,;日本分光製)と光学分割カラム
(キラルセルOD;ダイセル化学製)をつないだものを
使用した高速液体クロマトグラフィー(移動層:n−ヘ
キサン/2−プロパツール=19/1、検出210nm
)により測定した。
インバック5ILC,;日本分光製)と光学分割カラム
(キラルセルOD;ダイセル化学製)をつないだものを
使用した高速液体クロマトグラフィー(移動層:n−ヘ
キサン/2−プロパツール=19/1、検出210nm
)により測定した。
実施例I
K2HPOs 0.3g :KH2PO,0,2g :
NH,CI 0.5g :Mg5O= ・7H200,
5g :CaC1a ・2L00+g :NaCl2、
Og :NaHCOa 1.0g :Fe5L 4HJ
O,002g :酵母エキス2.0g:ペプトン2.
0g:ビタミン溶液(ビオチン2. Qmg :葉酸2
.0mg :ピリドキシン塩酸10.0mg :チアミ
ン塩酸5.0mg+リボフラビン5.Qmg:ニコチン
酸5. Qmg :バントテン酸カルシウム5.Qmg
:ビタミンBI20.1mg : D −アミノ安息香
酸5. Qmg :リポ酸5.Qmg:水11)10−
:微量要素溶液(ZnSO< ・7H200,Ig :
MnCIa−4H200,03g :H3BO30,
3g :COCl2 ・6L00.2g:CuCl2
・2H200,01g :NiCl2−6H200,0
2g :NaMoO412+−1200,03g ’水
I n ) 3 mj! : Na2S ・9t120
0.3g:L−システィン・HCI 0.4g : <
えん酸チタニウム0.075mM :メタノール8ピ:
水1βの組成の培地にメタノサルシナ・エスピーD!J
2906を接種し、気相を窒素/二酸化炭素=4/l
の混合ガスとして55℃、10日間培養を行った。培養
終了後、遠心分離により菌体を分離、50mM !Jン
酸緩衝液(pH7,0)で2回洗浄し、生菌体を得た。
NH,CI 0.5g :Mg5O= ・7H200,
5g :CaC1a ・2L00+g :NaCl2、
Og :NaHCOa 1.0g :Fe5L 4HJ
O,002g :酵母エキス2.0g:ペプトン2.
0g:ビタミン溶液(ビオチン2. Qmg :葉酸2
.0mg :ピリドキシン塩酸10.0mg :チアミ
ン塩酸5.0mg+リボフラビン5.Qmg:ニコチン
酸5. Qmg :バントテン酸カルシウム5.Qmg
:ビタミンBI20.1mg : D −アミノ安息香
酸5. Qmg :リポ酸5.Qmg:水11)10−
:微量要素溶液(ZnSO< ・7H200,Ig :
MnCIa−4H200,03g :H3BO30,
3g :COCl2 ・6L00.2g:CuCl2
・2H200,01g :NiCl2−6H200,0
2g :NaMoO412+−1200,03g ’水
I n ) 3 mj! : Na2S ・9t120
0.3g:L−システィン・HCI 0.4g : <
えん酸チタニウム0.075mM :メタノール8ピ:
水1βの組成の培地にメタノサルシナ・エスピーD!J
2906を接種し、気相を窒素/二酸化炭素=4/l
の混合ガスとして55℃、10日間培養を行った。培養
終了後、遠心分離により菌体を分離、50mM !Jン
酸緩衝液(pH7,0)で2回洗浄し、生菌体を得た。
100mf容バイアルびんに25−の反応液(アセト酢
酸エチル100mM、メタノール250rnM、 50
mMリン酸緩衝液pH7,0)を入れ、これに上記生菌
体を懸濁させ、気相を窒素/二酸化炭素=4/1の混合
ガスとして55℃、12時間反応させた。
酸エチル100mM、メタノール250rnM、 50
mMリン酸緩衝液pH7,0)を入れ、これに上記生菌
体を懸濁させ、気相を窒素/二酸化炭素=4/1の混合
ガスとして55℃、12時間反応させた。
反応終了後、酢酸エチル100m1で抽出した。この抽
出液を脱溶媒した後、高速液体クロマトグラフィーを用
いて生成した3(R)−ヒドロキシ酪酸エチルの定量と
光学純度の測定を行った。得られた結果を表1に示す。
出液を脱溶媒した後、高速液体クロマトグラフィーを用
いて生成した3(R)−ヒドロキシ酪酸エチルの定量と
光学純度の測定を行った。得られた結果を表1に示す。
実施例2〜8
表1に示す菌体を表1に示す炭素源で実施例1に準じて
培養を行い、表1に示すエネルギー源を用いて反応させ
たところ、対応する3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル
を得た。その結果も併せて表1に示す。
培養を行い、表1に示すエネルギー源を用いて反応させ
たところ、対応する3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル
を得た。その結果も併せて表1に示す。
実施例9
に2HPO,0,38: Kl(2PO,0,2g :
NH,CI 0.5g :MgSO4”7Ha00.5
g :CaC1a ’28200.3g :NaCl2
゜Og : NaHCOa 1. Og : Pe5o
、 ・7HzOO,002g :酵母エキス2.0g:
ベプトン2.0g:ビタミン溶液(ビオチン2.0mg
:葉酸2、Qmg :ピリドキシン塩酸10.0mg
:チアミン塩酸5.Omg:リポフラビン5.0mg
:ニコチン酸5.0mg :パントテン酸カルシウム5
.0mg :ビタミンBI20.1mg : D −ア
ミノ安息香酸5. Omg :リポ酸5.0mg:水l
l1)10rnl:微量要素溶液(ZnSO4−7Ha
00. Ig : MnCl2・4H200,03g
: H,BO30,3g : CoCl□・61(20
0,2g: CuCl2−2H200,01g :LC
li −6)1200.02g :NaMo01・2H
200,03g :水I R) 3−: Na2S ・
911□00.3g:L−システィン・HCI 0.4
g : <えん酸チタニウム0.075mM :メタノ
ール8g:水11の組成の培地にメタノサルシナ・エス
ピーDSM 2906を接種し、気相を窒素/二酸化炭
素=4/1の混合ガスとして55℃、10日間培養を行
った。培養終了後、遠心分離により菌体を分離、50m
M !Jン酸緩衝液(p)I7.0)で2回洗浄し、生
菌体を得た。
NH,CI 0.5g :MgSO4”7Ha00.5
g :CaC1a ’28200.3g :NaCl2
゜Og : NaHCOa 1. Og : Pe5o
、 ・7HzOO,002g :酵母エキス2.0g:
ベプトン2.0g:ビタミン溶液(ビオチン2.0mg
:葉酸2、Qmg :ピリドキシン塩酸10.0mg
:チアミン塩酸5.Omg:リポフラビン5.0mg
:ニコチン酸5.0mg :パントテン酸カルシウム5
.0mg :ビタミンBI20.1mg : D −ア
ミノ安息香酸5. Omg :リポ酸5.0mg:水l
l1)10rnl:微量要素溶液(ZnSO4−7Ha
00. Ig : MnCl2・4H200,03g
: H,BO30,3g : CoCl□・61(20
0,2g: CuCl2−2H200,01g :LC
li −6)1200.02g :NaMo01・2H
200,03g :水I R) 3−: Na2S ・
911□00.3g:L−システィン・HCI 0.4
g : <えん酸チタニウム0.075mM :メタノ
ール8g:水11の組成の培地にメタノサルシナ・エス
ピーDSM 2906を接種し、気相を窒素/二酸化炭
素=4/1の混合ガスとして55℃、10日間培養を行
った。培養終了後、遠心分離により菌体を分離、50m
M !Jン酸緩衝液(p)I7.0)で2回洗浄し、生
菌体を得た。
100rnI!容バイアルびんに25mj!の反応液(
アセト酢酸メチル100mM、メタノール250mM、
50mMリン酸緩衝液pH7,0)を入れ、これに上
記生菌体を懸濁させ、気相を窒素/二酸化炭素=471
の混合ガスとして55℃、12時間反応させた。
アセト酢酸メチル100mM、メタノール250mM、
50mMリン酸緩衝液pH7,0)を入れ、これに上
記生菌体を懸濁させ、気相を窒素/二酸化炭素=471
の混合ガスとして55℃、12時間反応させた。
反応終了後、酢酸エチル100rnlで抽出した。この
抽出液を脱溶媒した後、高速液体クロマトグラフィーを
用いて生成した3(S)−ヒドロキシ酪酸メチルの定量
と光学純度の測定を行った。得られた結果を表2に示す
。
抽出液を脱溶媒した後、高速液体クロマトグラフィーを
用いて生成した3(S)−ヒドロキシ酪酸メチルの定量
と光学純度の測定を行った。得られた結果を表2に示す
。
実施例10〜13
表2に示す菌体を表2に示す炭素源で実施例9に準じて
培養を行い、表2に示すエネルギー源を用いて反応させ
たところ、対応する3(S)−ヒドロキシ酪酸エステル
を得た。その結果も併せて表2に示す。
培養を行い、表2に示すエネルギー源を用いて反応させ
たところ、対応する3(S)−ヒドロキシ酪酸エステル
を得た。その結果も併せて表2に示す。
本発明は、前述の該菌株を用いることによって、光学純
度の高い3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル又は3(S
)−ヒドロキシ酪酸エステルを高い収率で簡便に製造で
きることを可能にさせるものであり、工業的製造法とし
てきわめて有利である。
度の高い3(R)−ヒドロキシ酪酸エステル又は3(S
)−ヒドロキシ酪酸エステルを高い収率で簡便に製造で
きることを可能にさせるものであり、工業的製造法とし
てきわめて有利である。
Claims (1)
- 1 アセト酢酸エステルにクロストリジウム(Clos
tridium)属、メタノバクテリウム(Me−th
anobacterium)属、メタノサルシナ(Me
tha−nosarcina)属及びアセトゲニュウム
(Acetoge−nium)属からなる群から選ばれ
る微生物又はその処理物を作用させ、生成する光学活性
3−ヒドロキシ酪酸エステルを採取することを特徴とす
る光学活性3−ヒドロキシ酪酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2272988A JP2831833B2 (ja) | 1990-10-09 | 1990-10-09 | 光学活性3―ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2272988A JP2831833B2 (ja) | 1990-10-09 | 1990-10-09 | 光学活性3―ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04148689A true JPH04148689A (ja) | 1992-05-21 |
JP2831833B2 JP2831833B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=17521585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2272988A Expired - Lifetime JP2831833B2 (ja) | 1990-10-09 | 1990-10-09 | 光学活性3―ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2831833B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109633016A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-16 | 上海微谱化工技术服务有限公司 | 一种化妆品品质控制中关键成分的分析方法 |
-
1990
- 1990-10-09 JP JP2272988A patent/JP2831833B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109633016A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-16 | 上海微谱化工技术服务有限公司 | 一种化妆品品质控制中关键成分的分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2831833B2 (ja) | 1998-12-02 |
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