JPH04146594A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH04146594A JPH04146594A JP2268954A JP26895490A JPH04146594A JP H04146594 A JPH04146594 A JP H04146594A JP 2268954 A JP2268954 A JP 2268954A JP 26895490 A JP26895490 A JP 26895490A JP H04146594 A JPH04146594 A JP H04146594A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- ecl
- input
- semiconductor memory
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶装置に関し、特にECL(エミッタ
結合論理)インターフェイスのBiCMO8−ECL・
RAMに関する。
結合論理)インターフェイスのBiCMO8−ECL・
RAMに関する。
最近、半導体集積回路の分野においてBiCMO8技術
が脚光を浴びている。このBiCMOS技術とは、同一
の半導体基板上にバイポーラトランジスタとMo8)ラ
ンジスタとを作り込み、各トランジスタの特性を組み合
せて、超高速φ大容X−低消費電力の半導体集積回路を
実現するものである。このBiCMO8技術はECLイ
ンターフェイスのECL@RAMの大容量化・低消費電
力化に大きく寄与した。ECLインターフェイス(7)
ECL”RAM(7)場合、入出力部ハE CL バー
/ファ回路、デコーダ回路はBiCMOSゲート。
が脚光を浴びている。このBiCMOS技術とは、同一
の半導体基板上にバイポーラトランジスタとMo8)ラ
ンジスタとを作り込み、各トランジスタの特性を組み合
せて、超高速φ大容X−低消費電力の半導体集積回路を
実現するものである。このBiCMO8技術はECLイ
ンターフェイスのECL@RAMの大容量化・低消費電
力化に大きく寄与した。ECLインターフェイス(7)
ECL”RAM(7)場合、入出力部ハE CL バー
/ファ回路、デコーダ回路はBiCMOSゲート。
メモリセルはCMO8φSRAMと同様に、nMo5ト
ランジスタによるフリップフロップ、そして第2図に示
す入力部のECLバッフT1の論理振幅をデコーダ部の
BiCMOSゲートの論理振幅に増幅するレベル変換回
路2より構成される。
ランジスタによるフリップフロップ、そして第2図に示
す入力部のECLバッフT1の論理振幅をデコーダ部の
BiCMOSゲートの論理振幅に増幅するレベル変換回
路2より構成される。
このECLバッファ1.レベル変換回路2については、
後述される。CMO811SRAMの場合、回路構成は
CMOSゲートであり、直流電源電流成分はほとんどな
く、特にスタンバイ時は数μA〜数mAである。このた
め、第3図に示す様に、セルの不良解析は選択時の直流
電源電流の増減で行うことができた。第3図において、
抵抗R1+R2は高抵抗負荷で、例えば1000程度で
ある。ゲートがワード線に接続されたnMOSトランジ
スタM1s、M□4により、メモリセルのフリップフロ
ップを構成し、nMOSトランジスタM 1t r M
s 2により、ノードA、Bが各々デジット線り、
D−と接続される。今、例えばノードAが低抵抗RLE
AK (L kΩとする)により、VCCとリークして
いたとする。このメモリセルを選択すると電源電流は、
約5V/lkΩ=5mA増加する。
後述される。CMO811SRAMの場合、回路構成は
CMOSゲートであり、直流電源電流成分はほとんどな
く、特にスタンバイ時は数μA〜数mAである。このた
め、第3図に示す様に、セルの不良解析は選択時の直流
電源電流の増減で行うことができた。第3図において、
抵抗R1+R2は高抵抗負荷で、例えば1000程度で
ある。ゲートがワード線に接続されたnMOSトランジ
スタM1s、M□4により、メモリセルのフリップフロ
ップを構成し、nMOSトランジスタM 1t r M
s 2により、ノードA、Bが各々デジット線り、
D−と接続される。今、例えばノードAが低抵抗RLE
AK (L kΩとする)により、VCCとリークして
いたとする。このメモリセルを選択すると電源電流は、
約5V/lkΩ=5mA増加する。
CMO3@SRAMの場合、この程度の増加量は充分検
出できる。
出できる。
従来のECLインターフェイスのB i CMOS@E
CL−RAMでは、入出力回路がECL回路のため直流
電源電流が大きく、不良セルに起因する電源電流の増加
量の検出が困難であった。
CL−RAMでは、入出力回路がECL回路のため直流
電源電流が大きく、不良セルに起因する電源電流の増加
量の検出が困難であった。
本発明の目的は、前記欠点を解決し、不良セルに起因す
る電源電流の増加量の検出ができるようにした半導体記
憶装置を提供することにある。
る電源電流の増加量の検出ができるようにした半導体記
憶装置を提供することにある。
本発明の構成は、入力部ECL回路の論理振幅を、デコ
ーダ部のBiCMOSゲートの論理振幅にまで増幅する
レベル変換回路を備えた半導体記憶装置において、前記
ECL回路の定電流源を制御すると共にアドレス選択信
号を発生するテスト回路を設けたことを特徴とする。
ーダ部のBiCMOSゲートの論理振幅にまで増幅する
レベル変換回路を備えた半導体記憶装置において、前記
ECL回路の定電流源を制御すると共にアドレス選択信
号を発生するテスト回路を設けたことを特徴とする。
C実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の半導体記憶装置を示す
回路図である。
回路図である。
第1図において、本実施例では、アドレス入力Aiが、
ECL人カバッファエに入力され、入力信号と同相/逆
相のエミッタフォロワー信号A’ E/AEを出力する
。このECL人カバカバッファ1バイポーラトランジス
タQ 1+ Q2 +Q7.Q、とダイオードD−9
D2と、バイポーラトランジスタQ3.Q、、Q5.Q
6よりなる定電流源とを持つ。これらのベースには、C
MOSトランスファーゲートM1 ・M2とM4・M5
を通して、それぞれVBl+vB。のレベルを与えられ
る。
ECL人カバッファエに入力され、入力信号と同相/逆
相のエミッタフォロワー信号A’ E/AEを出力する
。このECL人カバカバッファ1バイポーラトランジス
タQ 1+ Q2 +Q7.Q、とダイオードD−9
D2と、バイポーラトランジスタQ3.Q、、Q5.Q
6よりなる定電流源とを持つ。これらのベースには、C
MOSトランスファーゲートM1 ・M2とM4・M5
を通して、それぞれVBl+vB。のレベルを与えられ
る。
エミッタフォロワー信号A’ E/AEは、レベル変換
回路2に入力され、レベル変換回路2は、MOSトラン
ジスタM20〜M27からなり、CMOSレベルの論理
振幅を出力信号LE1.LE2として出力する。この信
号は各々インバータI AI+IA2に入力され、最終
的にはECL入力Aiと同相/逆相のCMOSレベルの
A’ i/Aiが出力され、BiCMOSデコーダ回
路(図示せず)へ導びかれる。
回路2に入力され、レベル変換回路2は、MOSトラン
ジスタM20〜M27からなり、CMOSレベルの論理
振幅を出力信号LE1.LE2として出力する。この信
号は各々インバータI AI+IA2に入力され、最終
的にはECL入力Aiと同相/逆相のCMOSレベルの
A’ i/Aiが出力され、BiCMOSデコーダ回
路(図示せず)へ導びかれる。
通常の使用状態では、バイポーラトランジスタQ3−
Q4.Q10.Qsの電流のため、最終的な直流電源電
流は大きくなる。
Q4.Q10.Qsの電流のため、最終的な直流電源電
流は大きくなる。
この電流値をなくシ、かつセル選択のための信号A’
i/Aiを発生されるのが、テスト回路3とテスト端
子Te5tとである。
i/Aiを発生されるのが、テスト回路3とテスト端
子Te5tとである。
テスト回路3は、インバータI 、、I 2.I 3.
I。。
I。。
I!l、I6.It、I!Iと、ノア(NOR)ゲート
N○1.NO2,No3.N○4と、−1−/l’ (
NAND)ゲートNA、、NA2と、MOSトランジス
タNIl。
N○1.NO2,No3.N○4と、−1−/l’ (
NAND)ゲートNA、、NA2と、MOSトランジス
タNIl。
M 21 M v r M 41 M 51 M B
+ M 40 J M 41 r M 、s 21
M 43とを有する。
+ M 40 J M 41 r M 、s 21
M 43とを有する。
本実施例のテスト回路は、テスト端子Te5tにインバ
ータ1.のスレッショールド電位より大きい電位(最低
電位vEl:より約[5V以上。以降ハイレベルと記す
。これより小さいレベルをロウレベルと記す。)を与え
られ、た時、ECL人カバカバッファ1流源をカットし
、かつアドレス入力i子Aiのハイ・ロウレベルに対応
したデコーダ回路用信号A i / A iを発生させ
る。通常使用時はTe5t端子はオーブンとし、第4図
に示す様に、このTe5t端子はプルダウン抵抗Rによ
り、VEI!まで落ちている。第1図で、この端子に外
部よりハイレベルを印加すると、インバータI、は信号
線丁にロウレベルを出力する。この信号はMOSトラン
ジスタMl 11M2とM4・M5よりなるCMOSト
ランジスタをオフさせ、nMO8)ランジスタM3・M
6をオンさせる。この結果、信号線V a+’ ”
V B。はロウレベルとなり、バイポーラトランジスタ
Q3+Q4+Q5+Q6をオフさぜる。一方、2人カノ
ア(NOR)ゲートNo、 ・NO2の一方の入力は信
号線丁の信号が入力され、これらの出力T「ψへ〇1′
はアドレス入力Aiのハイ−ロウにより、決まる。ほか
の2人カッアゲ−)NO3、No、と2人力ナンドゲー
トN A 1.N A 2も同様にATI・A T r
’により決まる。ECL入カバカバッファ1力A+:
’ /A+:は、VCCレベルまで上昇しているので
(なぜなら、トランジスタQ =s 、Q aはオフし
ているため)レベル変換回路2の出力LEIILH□は
、ハイインピーダンス状態となっている。この結果、イ
ンバータI A1+ I A2の出力Ai’/A丁は
、テスト回路3の出力信号L C1+ L 02により
決まる。
ータ1.のスレッショールド電位より大きい電位(最低
電位vEl:より約[5V以上。以降ハイレベルと記す
。これより小さいレベルをロウレベルと記す。)を与え
られ、た時、ECL人カバカバッファ1流源をカットし
、かつアドレス入力i子Aiのハイ・ロウレベルに対応
したデコーダ回路用信号A i / A iを発生させ
る。通常使用時はTe5t端子はオーブンとし、第4図
に示す様に、このTe5t端子はプルダウン抵抗Rによ
り、VEI!まで落ちている。第1図で、この端子に外
部よりハイレベルを印加すると、インバータI、は信号
線丁にロウレベルを出力する。この信号はMOSトラン
ジスタMl 11M2とM4・M5よりなるCMOSト
ランジスタをオフさせ、nMO8)ランジスタM3・M
6をオンさせる。この結果、信号線V a+’ ”
V B。はロウレベルとなり、バイポーラトランジスタ
Q3+Q4+Q5+Q6をオフさぜる。一方、2人カノ
ア(NOR)ゲートNo、 ・NO2の一方の入力は信
号線丁の信号が入力され、これらの出力T「ψへ〇1′
はアドレス入力Aiのハイ−ロウにより、決まる。ほか
の2人カッアゲ−)NO3、No、と2人力ナンドゲー
トN A 1.N A 2も同様にATI・A T r
’により決まる。ECL入カバカバッファ1力A+:
’ /A+:は、VCCレベルまで上昇しているので
(なぜなら、トランジスタQ =s 、Q aはオフし
ているため)レベル変換回路2の出力LEIILH□は
、ハイインピーダンス状態となっている。この結果、イ
ンバータI A1+ I A2の出力Ai’/A丁は
、テスト回路3の出力信号L C1+ L 02により
決まる。
テスト端子T e s ’tが−オーブンもしくはロウ
レベルノ時は、VB、 11V82 のレベレはV!1
1@■8□と同電位になり、ECL入カバッファエは正
常に動作する。テスト回路3は、完全に非活性状態とな
っている。2人カッアゲートNo、NO2の一方の入力
には/’%イレベルが信号線丁より与えられ、アドレス
入力Aiの変動に対し完全に安定している。2人カッア
ゲートとナントゲート(N03・No、、NA、・NA
2)の各々一方の入力にはそれぞれハイレベルとロウレ
ベルとが印加され、その結果出力信号LC1”LC2は
ノ\イインピーダンス状態となり、信号Ai’ *A
iはその前段のレベル変換回路2の出力信号Ltx”L
E□により決められる。
レベルノ時は、VB、 11V82 のレベレはV!1
1@■8□と同電位になり、ECL入カバッファエは正
常に動作する。テスト回路3は、完全に非活性状態とな
っている。2人カッアゲートNo、NO2の一方の入力
には/’%イレベルが信号線丁より与えられ、アドレス
入力Aiの変動に対し完全に安定している。2人カッア
ゲートとナントゲート(N03・No、、NA、・NA
2)の各々一方の入力にはそれぞれハイレベルとロウレ
ベルとが印加され、その結果出力信号LC1”LC2は
ノ\イインピーダンス状態となり、信号Ai’ *A
iはその前段のレベル変換回路2の出力信号Ltx”L
E□により決められる。
第5図は本発明の第2の実施例の半導体記憶装置を示す
回路図である。
回路図である。
第5図において、本実施例は、テスト回路4の他は第1
図と同様であるので、テスト回路4のみ説明する。
図と同様であるので、テスト回路4のみ説明する。
テスト回路4は、インバータ11゜〜I 18と、ノア
ゲートN Ogo−N O−1,N O12と、ナント
ゲートNA、。、NAt□と、MOS)ランジスタM5
゜〜M 5sとを有する。
ゲートN Ogo−N O−1,N O12と、ナント
ゲートNA、。、NAt□と、MOS)ランジスタM5
゜〜M 5sとを有する。
本実施例は、ECL入カバッファエの定電流源が、バイ
ポーラトランジスタとMOS)ランジスタの組み合せの
場合である。
ポーラトランジスタとMOS)ランジスタの組み合せの
場合である。
本実施例とBiCMO8@ECL11RAMは、入出力
回路等の直流電流成分をなくシ、かつアドレス選択がで
きるCMO3回路と制御端子とを備えている。
回路等の直流電流成分をなくシ、かつアドレス選択がで
きるCMO3回路と制御端子とを備えている。
以上説明したように、本発明は、ECLインターフェイ
スのBiCMO811ECL+lRAMの電流源をコン
トロールする制御端子と制御回路を備えることにより、
従来のCMOS −SRAMなみの直流電源電流にする
ことができ、セルの不良解析が電源電流により行えると
いう効果を有する。
スのBiCMO811ECL+lRAMの電流源をコン
トロールする制御端子と制御回路を備えることにより、
従来のCMOS −SRAMなみの直流電源電流にする
ことができ、セルの不良解析が電源電流により行えると
いう効果を有する。
第1図は本発明の第1の実施例の半導体記憶装置を示す
回路図、第2図は従来のBiCMO8IECL−RAM
の入力回路部の回路図、第3図はメモリセルの回路図、
第4図は第1図のテスト端子付近の回路図、第5図は本
発明の第2の実施例を示す回路図である。 1・・・ECL入カバカバッファ・・・レベル変換回路
、3,4・・・テスト回路、QL−C8・・・バイポー
ラトランジスタ、Mi〜MB+M11〜M 141 M
2゜〜M271Ma。〜M4ff・・・MOSトランジ
スタNDIB−・・・デジット線、Te5t・・・テス
ト端子。
回路図、第2図は従来のBiCMO8IECL−RAM
の入力回路部の回路図、第3図はメモリセルの回路図、
第4図は第1図のテスト端子付近の回路図、第5図は本
発明の第2の実施例を示す回路図である。 1・・・ECL入カバカバッファ・・・レベル変換回路
、3,4・・・テスト回路、QL−C8・・・バイポー
ラトランジスタ、Mi〜MB+M11〜M 141 M
2゜〜M271Ma。〜M4ff・・・MOSトランジ
スタNDIB−・・・デジット線、Te5t・・・テス
ト端子。
Claims (1)
- 入力部ECL回路の論理振幅を、デコーダ部のBiCM
OSゲートの論理振幅にまで増幅するレベル変換回路を
備えた半導体記憶装置において、前記ECL回路の定電
流源を制御すると共にアドレス選択信号を発生するテス
ト回路を設けたことを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2268954A JPH04146594A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2268954A JPH04146594A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04146594A true JPH04146594A (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=17465607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2268954A Pending JPH04146594A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04146594A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100370234B1 (ko) * | 1999-09-14 | 2003-01-29 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 메모리 장치에서 결함 셀 검출 회로 및 그 방법 |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP2268954A patent/JPH04146594A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100370234B1 (ko) * | 1999-09-14 | 2003-01-29 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 메모리 장치에서 결함 셀 검출 회로 및 그 방법 |
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