JPH04145199A - 液相酸化法に使用される装置の洗浄 - Google Patents

液相酸化法に使用される装置の洗浄

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JPH04145199A
JPH04145199A JP2415515A JP41551590A JPH04145199A JP H04145199 A JPH04145199 A JP H04145199A JP 2415515 A JP2415515 A JP 2415515A JP 41551590 A JP41551590 A JP 41551590A JP H04145199 A JPH04145199 A JP H04145199A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [0001] 本発明は液体酸化法に使用される装置の洗浄に関する。
明細書および特許請求の範囲において用語°′液相酸化
法″は、ガスを鉄(II■)と有機酸の可溶化された配
位錯化合物を含む反応体水溶液と接触域中で硫黄の融点
より低い温度で硫化水素を転化する条件下で接触させて
硫化水素含量の低下した処理されたガスおよび固体硫黄
を含み鉄(II)と有機酸の可溶化された配位錯化合物
の濃度が増大した水性混合物を生じさせる、ガスからの
硫化水素の除去法を指すのに使用される。
別の域で硫黄は水性混合物から除去されそして鉄(II
)は鉄(I I I)に酸化されて接触域で使用する水
性混合物を再生する。
[0002] 上記方法で使用される装置は接触域で生成した単体硫黄
;反応体鉄と過剰量の硫化水素の反応により生成した硫
化鉄および水酸化鉄;およびガスの上流処理がらのミス
トとして持越される重質炭化水素の沈着により起される
汚れにさらされる。
機械的に緩んだ単体硫黄を除去するのに反応体水溶液を
使用することおよび油膜形成の防除に界面活性剤を使用
することは知られている。
本発明の目的は上記3つの形の汚れを効果的に防除しう
る液相酸化法に使用される装置の洗浄用の組成物を提供
することである。
この目的に本発明による液相酸化法に使用される装置の
洗浄用の組成物は亜硫酸の塩3ないし30質量%、キレ
ート化剤0.5ないし30質量%およびカチオン界面活
性剤0.05ないし5質量%の水溶液を含む。
[0003] 亜硫酸の塩は亜硫酸塩または重亜硫酸塩であることがで
きる。亜硫酸塩(または重亜硫酸塩)は単体硫黄と水に
可溶のチオ硫酸塩を形成するであろう。
不活性の硫化鉄および水酸化鉄は鉄イオンが結合される
分子構造を形成するキレート化剤により溶解される。
カチオン界面活性剤は油の除去を容易にするであろう。
しかしカチオン界面活性剤は更に、亜硫酸塩(または重
亜硫酸塩)と硫黄のチオ硫酸塩への反応におよび水酸化
鉄の溶解に有利な効果を有する。
本発明の利点は汚染物を溶解含有した洗浄組成物が反応
体水溶液と相客れる無害物を含むということである。
適当には亜硫酸の塩はアンモニウム塩またはナトリウム
塩である。
[0004] キレート化剤は有機酸または有機酸のアンモニウム塩ま
たはナトリウム塩のよつな塩であることができる。有機
酸は適当にはニトリロトリ酢酸(NTAと云う)、エチ
レンジアミン四酢酸(EDTAと云う)またはヒドロキ
シエチレンジアミン四酢酸(HOEDTAと云う)のよ
うな窒素ポリ酸である。
適当には亜硫酸の塩中のカチオンはキレート化剤にがが
わるカチオンと同じである。更に、洗浄組成物のキレー
ト化剤は適当には液相酸化法で使用されるキレート化剤
と同じである。
[0005] カチオン界面活性剤は適当には4級アンモニウム塩例え
ばジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルベンジ
ルジメチルアンモニウムハライドのようなアルキルベン
ジルジメチルアンモニウムハライド、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩またはドデシルピリジニウムブロマイ
ドのようなアルキルピリジニウムハライドである。
[0006] 本発明による組成物と汚れた装置との接触は10ないし
80℃の温度で実施される。
本発明を例として添付図面を参照してより詳細に説明す
る。図中破線は液相酸化法で使用される導管を示し、実
線は液相酸化法で使用する装置の洗浄時に使用される導
管を示す。
[0007] 硫化水素を除去すべきガスは導管4を通って並流接触器
6へ高められた圧力で供給され、反応体水溶液は導管8
を通って並流接触器6へ供給される。反応体溶液は鉄(
III)とNTAの可溶化された配位錯化合物を含む。
硫化水素を単体硫黄に転化する条件下でガスと反応体溶
液を接触器6中で接触させて、低下した硫化水素含量を
有する処理されたガス、および固体硫黄と増大した濃度
の鉄(エエ)とNTAの可溶化された配位錯化合物を含
む水性混合物を生じさせる。ガス/液体混合物は並流接
触器6から導管9を通って気液分離器10へ通され、そ
こから処理されたガスは導管12を通って、そして固体
硫黄と増大した濃度の鉄(II)とNTAの可溶化され
た配位錯化合物を含む水性混合物は導管15を通って取
出される。
[0008] 水性混合物は導管15を通って酸化器19の上部へ供給
され、その中で還元された鉄(II)は送風機23によ
り導管24を通って酸化器19の下部へ供給される空気
により鉄(III)に酸化される。還元された反応体を
酸化する条件は本発明に無関係である。
再生された反応体は酸化器19がら導管26を通って取
出されそして循環ポンプ27により導管8を通って並流
接触器6へ供給される。
酸化器19の底から硫黄に富むスラリーが導管30を通
って取出され、該溶液はポンプ31により硫黄を更に処
理しそして硫黄を貯蔵する手段(図示せず)へ供給され
る。枯渇した空気は導管35を通って酸化器19の頂部
を去る。
[0009] 上記プロセスで使用される装置を洗浄するには、このプ
ロセスを中断し、接触器を解圧しそして洗浄組成物をタ
ンク36から循環ポンプ27により導管37および38
を通って並流接触器6へ通し、そしてそこから導管42
を通ってタンク36へ戻す。使用される洗浄組成物は1
0質量%の亜硫酸アンモニウム、10質量%のアンモニ
ウムNTAおよび0.1質量%のドデシルピリジニウム
ブロマイドを含む。洗浄組成物は導管38中の熱交換器
43により60℃の温度に加熱される。
洗浄が完了したら組成物をタンクへ排出しそして清浄な
並流接触器6を使用に供する。
[00101 明瞭化のため、洗浄組成物を通す導管系を反応体水溶液
を通す導管系と別個に示しである。しかし、該組成物を
通す導管系中に正常運転中反応体水溶液を通す導管が含
まれることは理解されるであろう。このようにして循環
ポンプ27のほかに導管系の一部も洗浄される。
適当にはプラントは2つの並流接触器をそれらに属する
循環ポンプと共に含みそれにより洗浄されている接触器
からサービスを引継ぎうる並流接触器がある
【図面の簡単な説明】
【図1】 水性反応体の再生を伴なう液相酸化法のプラ
【符号の説明】
6 並流接触器 10 気液分離器 19 酸化器 36 洗浄組成物タンク ントの構成を示す線図。
【書類名] 図面 【図1】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】亜硫酸の塩3ないし30質量%、キレート
    化剤0.5ないし30質量%およびカチオン界面活性剤
    0.05ないし5質量%の水溶液を含む液相酸化法に使
    用される装置の洗浄用組成物。
  2. 【請求項2】亜硫酸の塩がアンモニウム塩またはナトリ
    ウム塩である請求項1の組成物。
  3. 【請求項3】キレート
    化剤が有機酸である請求項1または2の組成物。
  4. 【請求項4】キレート化剤が有機酸のアンモニウム塩で
    ある請求項3の組成物。
  5. 【請求項5】有機酸がニトリロトリ酢酸またはエチレン
    ジアミン四酢酸である請求項3または4の組成物。
  6. 【請求項6】カチオン界面活性剤が4級アンモニウム塩
    である請求項1−5のいずれか1つの組成物。
JP2415515A 1990-01-02 1990-12-28 液相酸化法に使用される装置の洗浄 Expired - Lifetime JP2832493B2 (ja)

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CA (1) CA2031874C (ja)
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ES (1) ES2084653T3 (ja)
GB (1) GB9000028D0 (ja)

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ES2084653T3 (es) 1996-05-16
CA2031874A1 (en) 1991-07-03
KR0184862B1 (ko) 1999-04-15
AU624756B2 (en) 1992-06-18
AU6813390A (en) 1991-07-04
CA2031874C (en) 2000-10-10
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EP0438833B1 (en) 1996-03-20
DE69026063T2 (de) 1996-08-29
EP0438833A1 (en) 1991-07-31
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KR910014497A (ko) 1991-08-31

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