JP2000119010A - 固体副生成物の除去工程を含んでなる、硫化水素および二酸化硫黄含有ガスの処理方法ならびに装置 - Google Patents

固体副生成物の除去工程を含んでなる、硫化水素および二酸化硫黄含有ガスの処理方法ならびに装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 副反応中に生成した固体副生成物を含有する
液体画分Fを抜き取り、その画分を処理して副生成物を
除去し、事実上副生成物を含まない溶媒を得る方法およ
びそのための装置を提供する。 【解決手段】 好適な温度で、少なくとも１種の触媒を
含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもはや硫
化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収し、
その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫黄を
分離する少なくとも硫化水素（H2S）および少なくとも
二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理する方法であっ
て、副生成物を含んでなる層が、分離した液体硫黄と溶
媒の間にあること、前記の層から少なくとも固体の副生
成物を含有する液体画分Fを抜き取ること、および前記
の液体画分Fを接触工程とは異なる処理工程に送り、そ
の後少なくとも大部分が副生成物からなるF1流と、大部
分が副生成物をほとんど含まない溶媒からなるF2流を回
収することを含んでなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも硫化水
素および二酸化硫黄を含有する流出ガスを溶媒により処
理し、その間にこの溶媒処理法中に生じた副生成物を抜
き取る方法に関する。
【０００２】本発明方法は特に、クラウス(Claus)法後
に使用する処理装置に適用できる
【０００３】
【従来の技術】クラウス法は特に精油所で（水素化脱硫
または触媒分解装置の後）、また天然ガスの処理で硫化
水素を含有する供給ガス流から元素としての硫黄を回収
するために広く用いられている。しかしながら、クラウ
スプラントから出る煙霧には、いくつかの触媒工程の後
でさえも相当量の酸ガスが含まれている。公害防止基準
を遵守するにはこれらのクラウスプラントの流出ガス
（テールガス）を処理して、有害化合物の大部分を除去
する必要がある。これらの基準はますます厳しくなりつ
つあるので、既存の技術を永久的に改良することが不可
欠である。
【０００４】例えば、クラウスプラントから排出される
硫黄の約95重量％が回収されることがよく知られてい
る。
【０００５】このクラウスプラント流出ガスのクラウス
ポール(Clauspol)プラントでの処理により、例えばクラ
ウスの発熱反応： 2H2S＋SO2←→3S＋2H2O （反応1） から、回収される溶媒は99.8重量％を達成できる。
【０００６】かかる処理は有機溶媒からなる反応媒質
と、有機酸のアルカリまたはアルカリ土類塩からなる触
媒を必要とする。処理しようとするガスと触媒を含有す
る有機溶媒との接触は、垂直または水平の気液接触反応
器内で向流または並流で行うことができ、その温度はそ
の接触反応器の一方の末端で抜き取った溶媒を循環ポン
プで熱交換器を通過させることにより、固体硫黄の生成
を防ぎつつ、最高の硫黄変換係数となるのに有利である
よう制御される。この種のプラントでは、硫黄元素溶解
能が限定された溶媒に、単純なデカンテーションにより
溶媒から分離されうる遊離の液体硫黄元素が加えられる
ことはよく知られている。この液体硫黄-溶媒デカンテ
ーションは、接触反応器の底部に設置できる液-液デカ
ンテーションゾーンで行われる。このようにして硫黄は
液体状で回収される。
【０００７】かかるプラントの操作は、例えば以下の参
考文献に記載されている：Y. BARTHEL, H. GRUHIER, Th
e IFP Clauspol 1500 process: eight years ofindustr
ial experience, Chem, Chem. Eng. Monogr., 10(Large
Chem Plant), 1979, 69-86頁；HENNICO A., BARTHEL
Y., BENAYOUN D., DEZAEL C., Clauspol 300: the newI
FP TGT process, For presentation at AIChE Summer N
ational Meeting, Denver (Colo.), 1994年8月14-17
日。
【０００８】また、この種のプラントの脱硫率は本出願
人により出願された仏国特許第2,735,460号に記載の方
法に従い硫黄中で溶媒を脱飽和することにより向上させ
ることができるということがよくも知られている。この
場合、単相溶媒および接触反応器の末端で抜き取った硫
黄溶液の一部を冷却して硫黄を晶出させる。次いでこの
晶出硫黄を、濾過、デカンテーションまたは遠心分離な
どの種々の公知の固液分離手段により溶媒から分離す
る。一方で接触反応器へ再循環させることができる脱硫
溶媒を得、他方で再加熱して硫黄を融解し、次いで液体
硫黄を回収する溶媒-硫黄液液デカンテーションゾーン
へ送ることが可能な固体硫黄に富んだ懸濁液を得る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】かかる方法は極めて効
果的であることがわかっているが、それらは種々の制限
により限定され得る。 例えば、接触反応器内で副反応
が起こって、例えば触媒ゆったりした分解により、固体
副生成物である主にアルカリまたはアルカリ土類硫酸塩
またはチオ硫酸塩などの塩が生じる。これらの固体は、
有機溶媒と液体硫黄の間の界面のデカンテーションゾー
ン内で蓄積および増加する傾向があり、これにより硫黄
のデカンテーションが困難になる。
【００１０】この問題を解決する１つの手段が、仏国特
許第2,735,460号に記載され、この特許はかかる塩を含
有する溶媒をフィルターに通すことが可能であることを
開示している。塩はフィルター上に留まり、硫黄含有溶
媒は硫黄脱飽和工程へと送られる。しかしながらかかる
循環溶媒の処理は、溶媒の硫黄脱飽和のために意図した
ゾーンから下流に位置する液体硫黄-溶媒デカンテーシ
ョンゾーンを含め液体硫黄-溶媒界面におけるこれらの
塩の蓄積を完全に除去するには十分ではない。
【００１１】
【問題を解決するための手段】本発明の目的は、副反応
中に生じた固体副生成物を含有する液体画分Fを抜き取
り、その画分を処理して副生成物を除去し、事実上副生
成物を含まない溶媒を得る方法およびそのための装置に
ある。
【００１２】これらの副生成物は例えば、触媒の分解が
遅くなる結果生じるものである。
【００１３】抜き取りは連続的であっても非連続的であ
ってもよく、これら副生成物の蓄積が制御される。副生
成物は例えば、この蓄積により硫黄のデカンテーション
が困難になった際に除去する。
【００１４】事実上固体副生成物を含まない溶媒はガス
を処理する接触反応器へ再循環させることができれば好
都合である。
【００１５】本発明は、少なくとも硫化水素（H2S）お
よび少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理
する方法であって、好適な温度で、少なくとも１種の触
媒を含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもは
や硫化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収
し、その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫
黄を分離する方法に関する。
【００１６】その方法は：副生成物を含む層が液体硫黄
と分離された溶媒の間に位置すること、少なくとも固体
副生成物を含有する液体画分Fを前記の層から抜き取る
こと、および前記液体画分Fを接触工程とは異なる処理
工程に送り、その後、少なくとも大部分が副生成物を含
有するF1流の大部分が副生成物をほとんど含まない溶媒
からなるF2流を回収することを特徴とする。
【００１７】前記処理工程は例えば以下の手順： a)選択した温度、圧力および流速条件下で水などの水相
を送り込んで、前記水相に少なくとも大部分の固体副生
成物を可溶化させ、この水相と、抜き取った大部分が溶
媒からなる有機相との間の少なくとも液-液分離(liquid
-liquid demixing)を得ること、および／または b)少なくとも１回の濾過工程を行うこと、および／また
は c)固体支持体上で副生成物捕捉工程を行い、固体副生成
物において奪われた溶媒からなる相と、大部分が副生成
物を含有する捕捉ベッドの再生から得られる相の少なく
とも２相を回収することのうち少なくとも１つを実行す
ることにより行われる。
【００１８】少なくとも、主に硫黄からなる第３の相は
例えば手順a)中に回収する。
【００１９】手順a)またはb)またはc)は例えば120ない
し180℃の範囲の温度で、および／または 手順a)は例
えば大気圧ないし1.5Mpaの範囲の圧力で行うことができ
る。
【００２０】手順a)は例えば、気相が生成しないよう選
択した温度および／または圧力で行う。固体副生成物を
含有する層の位置および／または厚さは例えば、制御す
る。
【００２１】例えば、主に溶媒からなるF2流の少なくと
も一部を溶媒の硫黄脱飽和工程に送り、脱硫溶媒相の一
部またはすべてを接触工程へ再循環させる。
【００２２】本方法はまた、生成した副生成物の晶出の
ために好ましい加熱工程を含んでもよい。
【００２３】本発明はまた、溶媒および触媒を用い、少
なくとも硫化水素(H2S)および二酸化硫黄(SO2)を含有す
る流出ガスを処理する工程中に生じた副生成物の除去ま
たは回収を可能にする装置であって、少なくとも１つの
接触反応器、少なくとも１つの分離ゾーン、少なくとも
処理しようとするガス、および溶媒と触媒含有する流体
を送るためのいくつかのライン、少なくとも清浄化した
ガス、および少なくとも溶媒と副生成物を含有する流体
抜きとりのためのラインを有してなる装置に関する。
【００２４】その装置は少なくとも：分離ゾーン内で固
体副生成物の層に接続した、実質的に少なくとも固体副
生成物を含んでなる液体画分Fを抜き取る手段と画分Fを
処理するための少なくとも１つのゾーンを含んでなるこ
とを特徴とする。
【００２５】処理ゾーンは例えば接触反応器の外部に設
置される。
【００２６】１つの具体例によれば、分離ゾーンおよび
抜き取り手段は接触反応器の下部に設置される。 前記
抜き取り手段は例えば、接触反応器と分離ゾーンをつな
ぐライン上に設置される。
【００２７】処理ゾーンは以下の手段：容器(capacity)
および吸水管などの分離(demixing)手段、および／また
は濾過手段、および／またはアルミナ類、セラミック
類、活性炭などの捕捉手段から選択される手段のうち少
なくとも１つを含んでもよく、前記の手段は、大部分が
溶媒からなる少なくとも１つの流れおよび大部分が生成
した副生成物からなる少なくとも１つの流れを作り出す
のに適したものである。
【００２８】前記装置は、副生成物層の厚さを制御する
手段(CN2, V2)および／または位置を制御する手段(C
N１, V１)、または制御手段(V1, V2)を含み得る。
【００２９】それはまた、少なくとも処理工程から来る
溶媒の大部分を再循環させるラインを有していてもよ
い。
【００３０】前記装置はまた、硫黄中で溶媒を脱飽和す
る手段を有してなってもよく、これらの手段は例えば再
循環ラインに接続する。
【００３１】接触反応器は例えば以下に記載の装置のう
ちの１つから選択される：ランダムまたは積層充填物(P
acking)、または静置攪拌器SMV、または衝撃装置(impac
tor)、またはハイドロ−エジェクター(hydro-ejecto
r)、または噴霧器、またはワイヤー接触器を有する反応
器。
【００３２】本発明の方法および装置は例えば、天然ガ
スのスクラビング操作または原油の精製操作からのH2S
を処理するクラウスプラントからの流出ガスを処理する
ために適用される。
【００３３】前記の方法および装置は特に以下の利点を
与える：単なる少数の小型装置の付加（極遅い流速を意
図したもの）により、既存のクラウスポールプラントを
簡単に、それゆえ低コストで改良することが可能とな
り、 それらにより清浄化した溶媒を回収し、かつ、そ
れを直接ガス処理工程へ再循環させることが可能とな
る。 さらに、ある種の接触反応器に設置されたパッキ
ング内の固体副生成物の蓄積を防ぐことが可能となる。
【００３４】
【発明の実施の形態】非限定的な例として以下に示され
る具体例は、少なくとも硫化水素および二酸化硫黄を含
有するガスの処理中に生じる固体副生成物の除去に関す
る。これらの副生成物は特にガス処理工程に用いる触媒
の分解(degradation)によるものである。
【００３５】図１によれば、装置は気液接触反応器1を
有してなる。ライン2は接触反応器に、クラウスプラン
トからの流出ガスなどの硫黄含有ガスを供給し、ライン
3は例えば、ポリエチレングリコール400などの溶媒とサ
リチル酸ナトリウムなどの触媒を含む再循環溶液を送
る。
【００３６】本発明の範囲から逸脱しない限り、以下の
記載に挙げたなかから選択される種々の溶媒および触媒
が使用できる。
【００３７】清浄化したガスはライン4を通じて排気さ
れる。
【００３８】触媒および硫黄を含有する単相溶媒溶液は
ライン5を通じて接触反応器1から排出される。次いでこ
の溶液はポンプ6およびライン7を通じて熱交換器8へと
送られ、そこで接触反応器1の作動に適合可能な好適な
温度、例えば120℃に冷却される。この温度はライン10
で熱交換器8に接続した調節器9によって制御できる。ラ
イン10は例えば熱交換器中の冷却剤を送るライン12上に
設けられたバルブ11に接続する。
【００３９】熱交換器8からの冷却溶媒はライン3を通じ
て接触反応器1へ再循環させることができる。 リサイ
クル・ループ（特に構成要素5、6、7、8、3）を循環す
る単相溶媒溶液の一部、例えば溶液の10ないし20％がラ
イン7からライン13を通じて抜き取られて、硫黄脱飽和
ゾーン14などの処理ゾーンに送られる。
【００４０】この脱飽和ゾーン14では、単相溶液が例え
ば60℃まで冷却され、硫黄結晶の溶媒懸濁物が生じる。
次いでこの晶出硫黄は、濾過、デカンテーションまたは
遠心分離などの当業者に公知の種々の固液分離法により
溶媒から分離される。一方で脱硫溶媒が得られ、例えば
ライン15を通じて抜き取られ接触反応器1へ再循環さ
れ、他方で固体硫黄に富んだ懸濁物が得られる。この固
体硫黄に富んだ懸濁物は専門家に公知の硫黄を融解する
のに好適な手段により再加熱し、次いでライン16を通じ
て以下に記載の液-液デカンテーションゾーンに送るこ
とができる。接触反応器は例えば、ライン17によりデカ
ンテーションゾーン18へ接続している。このライン17に
よりライン16を通じて送られてきた溶媒をデカンテーシ
ョンゾーン18へと送ることが可能となる。
【００４１】液体硫黄はこのデカンテーションゾーンの
下部に、例えばバルブV1を設けたライン19を通じて排出
される。
【００４２】生成した固体副生成物を含有する液体画分
Fは、ライン20などの排出手段を通じて抜き取られ、次
いでポンプ21、およびライン21の手段によって、接触反
応器の外部に設置された処理ゾーン22へ送られる。
【００４３】ライン20およびより一般的には排出手段は
例えば、溶媒と液体硫黄の間に位置する副生成物層と水
平に、かつ／またはその付近に設置する。
【００４４】抜き取り手段20は、バルブおよびデカンテ
ーションゾーンと接続したラインなどの種々の装置を有
することができ、そのある変形例を非限定的な例として
図２に示す。当業者に公知の種々の検出様式および装置
を使用して、固体副生成物の位置を捜し当てることがで
きる。
【００４５】これらの抜き取り手段は手動で作動させて
もよいし、あるいはそれらを分離ゾーンの付近で副生成
物検出手段に接続してもよい。
【００４６】処理ゾーン22により液体画分Fを分離し
て、少なくともライン24を通じて抜き取られた固体副生
成物からなるF1流、主にライン25を通じて接触反応器1
へ再循環される副生成物を事実上含まない溶媒からなる
F2流、およびライン26を通じてデカンテーションゾーン
へと送られる液体硫黄を得ることが可能となる。ライン
24を通じて抜き取られた固体副生成物からなるF1流は例
えば、水処理に送られる前に水で希釈される。
【００４７】本発明の範囲から逸脱しない限り、界面レ
ベルで副生成物を抜き取る手段は、図１の点線で示した
ように接続ライン17の付近に設置することができる。
【００４８】図２は、デカンテーションゾーンが接触反
応器1に含まれる変形例を模式的に示したものである。
【００４９】参照番号は図１に示した同一の構成要素に
用いられているものと同じである。
【００５０】デカンテーションゾーン28は接触反応器1
の下部に設置されている。
【００５１】デカンテーションゾーンの付近に、液体硫
黄抜き取りライン19にバルブV1が設けられ、固体副生成
物抜き取りライン20にバルブV2が設けられている。ライ
ン20は、例えば液体硫黄と溶媒の間に形成した層の付近
に配置されている。
【００５２】このデカンテーションゾーンの付近にそれ
ぞれ設置されている検出器CN1およびCN2のような２つの
手段により、液体硫黄-固体副生成物界面I1および固体
副生成物-溶媒界面I2のレベルを検出することが可能と
なる。
【００５３】このデカンテーションゾーンの底部は、そ
の上部において固体副生成物と溶媒からなる層（第２の
層）から界面I1により分離された液体硫黄からなる層
（第１の層）を有してなる。この第２の層はその上部に
おいて主に溶媒からなる層から界面I2により分離されて
いる。
【００５４】固体副生成物層の位置およびその厚さを抜
き取り手段20に対してそれぞれ制御するため、検出器C
N1は従来の物理的結合よりバルブV1に接続され、検出器
はCN2はバルブV2に接続されている。
【００５５】本発明の範囲を逸脱しない限り、抜き取り
手段はまた抜き取られた液体画分の通過を制御できるよ
うにするバルブを備えたいくつかのラインを有していて
もよい。
【００５６】種々のバルブは例えば視覚検査により手動
で確認してもよい。
【００５７】本明細書に示される種々の変形例において
は、本方法および装置の操作条件は以下の通りであって
よい：接触反応器は、溶媒中で固体硫黄が生じないよう
にするよう選択された温度、例えば50ないし130℃、好
ましくは120ないし122℃の範囲の温度で操作させること
ができる。かかる条件の下、反応(1)はできる限り右側
へ移され、生成した硫黄は、反応器の底部へ沈降するこ
とができるように液体状である。この温度は例えば少な
くとも１つの熱交換器内に溶媒を通すことにより制御さ
れる。
【００５８】本方法は非常に広い圧力範囲内、例えば9.
8kPaないし4.9Mpaで行うことができる。
【００５９】本方法はいずれの気液接触法によって実施
してもよく、例えば以下の２つの変形例による垂直反応
器がある：処理しようとするガスと溶媒の並流接触を行
う。この場合、接触反応器の下部から横に抜き取った処
理しようとするガスおよび再循環溶媒は、接触反応器の
上方へと送る。また流出ガスも、接触反応器の下部で、
再循環される溶媒の上方で横に抜き取る。
【００６０】接触反応器の下端が分離ドラムに接続して
いる場合、再循環溶媒はこのドラムの底部で回収し、処
理されたガスはドラムの側部から回収する。
【００６１】処理しようとするガスと溶媒の向流接触を
行う。この場合、処理しようとするガスは接触反応器の
下部へ横から送り込み、接触反応器の下部から来る溶媒
は上部へ横から再循環させる。硫黄は接触反応器の底部
で回収し、流出ガスは上部から排出する。
【００６２】接触反応器は種々の図において垂直配置で
示されているが、本発明の範囲を逸脱しない限り水平に
配置することもできる。
【００６３】接触反応器は、ガスと、触媒を含有する溶
媒の接触が可能ないずれの装置または一連の装置からな
ってもよい。それは以下の装置から選択することができ
る：Sulzer社から市販されているMellapak型のランダム
（例えばIntalox saddles）または積層パッキングを有
する反応器、例えば、Sulzer社から市販されている静置
攪拌器SMV、例えば、AEA社から市販されている衝撃装
置、例えば、Biotrade社から市販されているハイドロエ
ジェクター、例えば、LAB社から市販されている噴霧
器、例えば、Toussaint Nyssenne社により市販されてい
るワイヤー接触器。
【００６４】通常使用される溶媒としては、仏国特許第
2,115,721号(米国特許第3,796,796号)、同第2,122,674
号および同第2,138,371号(米国特許第3,832,454号)に記
載のようなモノもしくはポリアルキレングリコール、モ
ノもしくはポリアルキレングリコールエステル、または
モノもしくはポリアルキレングリコールエステルが挙げ
られる。
【００６５】使用される溶媒は通常、前記特許に記載さ
れているものであり、さらに特には安息香酸やサリチル
酸などの弱有機酸のアルカリ塩である。
【００６６】液相における触媒の濃度は有利には0.1な
いし5重量％の範囲、さらに有利には0.5ないし2重量％
である。
【００６７】ゾーン22における処理は種々の様式で行う
ことができ、そのいくつかを非限定的な例として以下に
示す。
【００６８】分離処理 図１で示されたものと同一の構成要素に対して同じ参照
番号が記されている図３に示した変形例によれば、ライ
ン20を通じて排出された液体画分Fはポンプ21およびラ
イン23（図２）を通じて分離処理ゾーン22へ送られる。
【００６９】それゆえ、処理ゾーンは分離が起こる容器
30を有している。液体の水は、例えば容器30の前のライ
ン23と出会うライン31を通じて注入される。この水は例
えば圧力0.3Mpa、温度120℃で導入される。
【００７０】水には硫酸ナトリウムが溶解し、この塩を
含んだ水相にはPEGが溶解しにくいので、1％未満のPEG
を含む水相とその上の5％未満の硫酸ナトリウムを含む
有機相の少なくとも２相が生じる。この水相をライン24
を通じて水処理へと送り、大部分が固体副生成物からな
るPEGフィードはライン25を通じて再び溶媒リサイクル
・ループへと送る。また、実質的に液体硫黄からなる第
３の液相も容器30の底部に存在し得る。次いで後者をラ
イン26を通じてデカンテーションゾーン18へと送る。
【００７１】手順によれば、気相が形成しないように選
択した温度および圧力で作動させることができる。
【００７２】濾過処理 図４で示される変形例によれば、ゾーン22における処理
は濾過により行う。
【００７３】ライン20を通じて排出された液体画分Fは
ポンプ21およびライン23（図２）を通じて、濾過手段、
例えば１以上のフィルター40を有する処理ゾーン22へ送
られる。フィルターは例えば、変形可能な布製フィルタ
ーカートリッジからなる。
【００７４】固体副生成物はフィルター上に留まり、一
方清浄化された溶媒はライン25を通じて抜き取られ、接
触反応器1の上部へと再循環させる。
【００７５】副生成物を除去または沈積させるためのフ
ィルターの洗浄は、処理サイクルからフィルターを取り
外すことにより、および適度な圧力の下でライン41を通
じて導入される濾過溶媒または水などの流体をカートリ
ッジへと送ることにより行う。生成したケーキの厚さ
が、濾過カートリッジにおける圧力差が例えば、0.1な
いし0.3Mpaに高くなるような場合には、洗浄操作が必要
となりうる。
【００７６】固体副生成物はライン42を通じてフィルタ
ーの底部から抜き取る。
【００７７】第１のフィルターと並行に取り付けられる
少なくとも第２のフィルターを設けて、第１のフィルタ
ーを洗浄する際に確実に画分Fの連続的濾過を行うこと
ができる。
【００７８】処理サーキットの残りからこのゾーンを隔
離する手段は、当業者に公知であり、詳細には示さな
い。それらは特にバルブV3の隔離を含む。
【００７９】捕捉処理 図５で示される変形例によれば、生じた副生成物の分離
は処理ゾーン22において捕捉により達成される。
【００８０】従って、ライン20を通じて排出された液体
画分Fはポンプ21およびライン23（図２）を通じ、捕捉
手段51、例えば１以上の捕集ベッドを有してなる容器50
を含む処理ゾーン22へ送られる。このベッドは、例えば
セラミック類、金属類、酸化物、活性炭の固体からな
る。
【００８１】容器50へ供給された液体画分Fは、固体副
生成物をトラップする捕集ベッド51を通し、大部分の固
体副生成物を除去された溶媒をライン52を通じて容器50
から流出させ接触反応器へ再循環させる。
【００８２】捕集ベッドが固体副生成物で飽和すれば、
容器をサーキットから隔離し、ライン53を通じて導入さ
れた清浄な水を通して、溶解した副生成物を含んだ水を
ライン54を通じて排水することにより再生させる。
【００８３】第１の容器と並行に取り付けられる少なく
とも第２の容器を設け、例えば水洗による第１の容器の
回収ベッドの再生中、または回収ベッドの交換中、画分
Fに含まれる固体副生成物の連続的捕捉を可能にするこ
とができる。
【００８４】濾過処理の場合については、サーキットの
残りからこのゾーンを分離する手段は当業者に公知であ
り、詳細には示さない。それらは特にバルブV4の分離を
含む。 上記のすべての例では、本発明の範囲を逸脱し
ない限り、生成した副生成物の晶出に好都合にするため
に溶媒を加熱することができる。
【００８５】使用される加熱手段は当業者に公知であ
り、生じた副生成物の晶出に好ましい十分な温度が得ら
れるのに適合している。
【００８６】温度は例えば120ないし180℃、好ましくは
120℃ないし150℃の範囲である。
【００８７】加熱手段それらはデカンテーションゾーン
の上流に、またはこのゾーンの付近に設置される。
【００８８】明瞭になのでこの手段は図では示さない。
【００８９】
【実施例】本発明の種々の変形や変更によって得られる
利点は、以下に記載の例により明らかになるであろう。
【００９０】例１：図６で示される先行技術の方法に対
する クラウスプラントからのテールガスをライン60を通じ、
流速12300Nm3/hで、２つの充填床（パッキングベッド）
62、63を含むカラム61からなる垂直接触反応器に供給
し、これを125℃で、ライン64を通じて導入した可溶性
触媒を含有する有機溶媒と接触させる。
【００９１】本例で用いられる充填物（パッキング）
は、２つのサドルベッド（"Intalox"セラミックサド
ル、比表面積250m2/m3）からなる。
【００９２】用いられる有機溶媒は、400の分子量を有
するポリエチレングリコールであり、可溶性触媒は100
ミリモル/kg溶媒の濃度のサリチル酸ナトリウムであ
る。
【００９３】溶媒は接触反応器の底部と上部の間でライ
ン65および64を通じ、熱交換器67を通じて循環ポンプ66
により流速500m3/hで循環させ、温度制御および調節
は、ライン70を通じ80℃で熱水を交換器に注入し、ライ
ン71を通じて排出することを可能にする測定および制御
系68および69により行われる。再循環溶媒の温度は125
℃である。
【００９４】清浄化されたガスはライン72を通じて接触
反応器から流出する。生成した硫黄は接触反応器の底部
に沈積し、ライン73を通じて332kg/hの速度で抜き取ら
れる。 プラントに流入する、またプラントから流出す
るガスの組成は、図６で示された先行技術と比較して以
下の表に示す。
【００９５】
【表１】 *SV=蒸気硫黄+液体硫黄 接触反応器の硫黄化合物収率は：（流入硫黄化合物％-
流出硫黄化合物％）/流入硫黄化合物％ x 100=(2.036-
0.1449)/2.036x100=92.88％ である。
【００９６】先行技術による97％収率のクラウスプラン
ト+クラウスポール最終プラントの全収率は： 97+(3x92.88)/100=99.78％ である。
【００９７】先行技術の装置が硫黄中で溶媒を脱飽和す
るゾーンを有してなる場合（図示せず）、流入ガスおよ
び流出ガスの組成は以下の通りである。
【００９８】
【表２】 *SV=蒸気硫黄+液体硫黄 接触反応器の硫黄化合物収率は： （流入硫黄化合物％-流出硫黄化合物％）/流入硫黄化合
物％ x 100=(2.036-0.067)/2.036x100=96.7％ である。
【００９９】先行技術に従う97％収率のクラウスプラン
ト+クラウスポール最終プラントの全収率は： 97+(3x96.7)/100=99.9％ である。
【０１００】反応器流出物のH2SおよびSO2含量は大幅に
減少し、蒸気硫黄含量も実質的に減少したことがわか
る。
【０１０１】以下の実施例において、「塩」とは、特に
ガス処理工程において触媒が存在することによる副反応
を介して形成しうる種々の副生成物を示す。
【０１０２】例２：分離ゾーン（図３）における副生成
物の界面における抜き取りおよび分離工程 例１で示したものと同じタイプの反応器（クラウスプラ
ントからのテールガスと同可溶性触媒を含有する同溶媒
とを接触させるための２つのセラミック製Intaloxサド
ルベッドを含む）を用いる。
【０１０３】クラウスのテールガスはライン2を通じて
同じ流速(12300Nm3/h)で反応器に送り、触媒を含有する
溶媒をライン3を通じ、ポンプ6により500Nm3/hの速度で
導入し、溶媒の温度はライン12により熱水を供給する交
換器8により125℃に維持される。清浄化されたガスはラ
イン4を通じて流出する。
【０１０４】本発明のの目的である、例１との主な相違
点は、デカンテーションゾーン18、28の固体副生成物層
（第２の層）の付近で液体画分Fを57 l/hの速度で連続
的に抜き取るという点、および触媒のゆったりとした分
解による固体副生成物、主にアルカリまたはアルカリ土
類硫酸塩またはチオ硫酸塩を除去するため、それを処理
ゾーン22へ送るという点にある。
【０１０５】処理ゾーン22では、120℃、圧力0.3Mpaで
液体の水をこの画分Fに6.8l/hの速度で連続的に混合す
る。これにより、ほとんど塩を含まない有機相、約250g
/lの溶解塩を含有する水相、およびおそらくは硫黄相の
３相を回収することが可能となる。有機相はライン25を
通じて溶媒循環ループに連続的に送り戻され、水相はラ
イン24を通じて水処理に送られ、硫黄はライン26を通じ
て例えば接触反応器1の下部に設置されたデカンテーシ
ョンゾーン28に送られる。
【０１０６】例３（図４） 本例は、処理ゾーン22がここでは３つの1-m2表面のカー
トリッジを有するフィルター40からなるという点のみで
例２とは異なる。洗浄はサーキットからフィルターを隔
離することにより、またケーキの厚さが3mmを越える、
すなわち濾過カートリッジにおける圧力差が0.2Mpaを上
回る場合には、ライン41を通じて適度な圧力の下、水を
送り込むことにより行う。洗浄後、塩はフィルターの底
部で水溶液として回収し、ライン42を通じて水処理に送
る。
【０１０７】第２のフィルターを第１のフィルターと並
行に取り付けて、第１のフィルターを洗浄する際に画分
Fを連続的に濾過することができるようにすれば有利で
ある。
【０１０８】例４（図５） 本例は、処理ゾーン22がここでは、各々回収しようとす
る塩に良好な親和性を持った材料で製造された３つの1-
m3の塩捕捉ベッド、例えばアルミナベッドを含む容器50
からなるという点のみで実施例２とは異なる。連続運転
１ヶ月後、圧力低下は0.2Mpaより高くなり、このことは
これらのベッドが塩で飽和したことを示している。その
後この容器を残りの回路から隔離し、水処理に送る前
に、清浄な水をライン53を通じて導入し、塩を含んだ水
をライン54を通じて排出する水洗によってこれら捕捉ベ
ッドを再生させる。
【０１０９】第２の容器を第１の容器と並行に取り付け
て、第１の容器の洗浄中、画分Fの塩を連続的に捕捉す
ることができるようにすれば有利である。
【０１１０】本発明の方法および装置は、その酸ガス含
量(H2S+SO2)が0.1ないし100体積％の範囲のガスの処理
に特によく適合する。しかしながら、例えば0.1ないし4
0体積％、さらに特には0.5ないし5体積％の範囲の低酸
ガス含量(H2S+SO2)のガスに特に有利である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の装置を構成する種々の構成要素、特に
生じた副生成物を抜き取る手段および処理ゾーンのブロ
ック図である。
【図２】接触反応器の下部に設置されるデカンテーショ
ンゾーンを有してなるガス処理装置を表す。
【図３】処理ゾーンが分離ゾーンである変形例を示す。
【図４】処理ゾーンが濾過ゾーンであるもう１つの変形
例を模式的に示す。
【図５】生成した副生成物を捕捉により分離する処理ゾ
ーンを示す。
【図６】比較例としての先行技術の図を示す。
【符号の説明】
１ 気液接触反応器 ２−５ ライン ６ ポンプ ８ 熱交換器 １１ バルブ １４ 硫黄脱飽和ゾーン １７、１８、２８ 分離ゾーン ２０ 抜き取り手段 ２２ 処理ゾーン ３０ 容器 ４０、４１ 濾過手段 ５０、５１ 捕捉手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリスティアン ストレイシェ フランス国 92500 リュエイユ−マルメ ゾン リュ マセナ 10 (72)発明者 ダニエル ブナヨアン フランス国 78500 サルトルウヴィーユ リュークロウド ベルナール 30 (72)発明者 セシル バルル−トッリカ フランス国 92500 リュエイユ−マルメ ゾン アンパッス デュ ドンジョン ２

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 好適な温度で、少なくとも１種の触媒を
    含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもはや硫
    化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収し、
    その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫黄を
    分離することからなる少なくとも硫化水素（H2S）およ
    び少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理す
    る方法であって、 副生成物を含む層が、分離した液体硫黄と溶媒の間にあ
    ること、 前記層から少なくとも固体の副生成物を含有する液体画
    分Fを抜き取ること、および前記液体画分Fを接触工程と
    は異なる処理工程に送り、その後少なくとも大部分が副
    生成物からなるF1流と、大部分が副生成物をほとんど含
    まない溶媒からなるF2流を回収することを特徴とする方
    法。
  2. 【請求項２】 以下の手順： a)選択した温度、圧力および流速条件下で水などの水相
    を送って、前記水相中に少なくとも大部分の固体副生成
    物を可溶化させ、かつこの水相と、抜き取られた大部分
    が溶媒からなる有機相との間の少なくとも液-液分離を
    得ること、および／または b)少なくとも１回の濾過工程を行うこと、および／また
    は c)固体支持体上で少なくとも１回の副生成物捕捉工程を
    行い、固体副生成物が除かれた溶媒からなる第１の相
    と、大部分の副生成物を含有する捕捉ベッドの再生から
    得られる第２の相の少なくとも２相を回収することのう
    ち少なくとも１つを用いて処理工程を行う請求項１記載
    の方法。
  3. 【請求項３】 少なくとも、実質的に硫黄からなる第３
    の相が手順a)中に回収される、請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 120ないし180℃の範囲の温度で、手順a)
    またはb)またはc)を行い、かつ／または大気圧ないし1.
    5Mpaの範囲の圧力で手順a)を行う請求項２記載の方法。
  5. 【請求項５】 気相が形成しないように手順a)の温度と
    圧力の値を選択する請求項２記載の方法。
  6. 【請求項６】 固体副生成物を含んでなる層の位置およ
    び／または厚さを制御する請求項１ないし５のいずれか
    １項に記載の方法。
  7. 【請求項７】 少なくとも、大部分が溶媒からなるF2流
    の一部、および／または液体硫黄から分離した溶媒の一
    部を接触工程へと送る請求項１ないし６のいずれか１項
    に記載の方法。
  8. 【請求項８】 少なくとも、大部分が溶媒からなるF2流
    の一部、および／または液体硫黄から分離した溶媒の一
    部を脱飽和工程へと送る請求項７記載の方法。
  9. 【請求項９】 生成した副生成物の結晶化のために好ま
    しい加熱工程を含んでなる請求項１ないし８のいずれか
    １項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 溶媒および触媒を用い、少なくとも硫
    化水素(H2S)および二酸化硫黄(SO2)を含有する流出ガス
    の処理中に生じた副生成物の除去または回収を可能に
    し、少なくとも１つの接触反応器(1)、少なくとも１つ
    の分離ゾーン(17,18,28)、少なくとも処理しようとする
    ガス、および溶媒と触媒を含んでなる流体を送るための
    いくつかのライン(2,3)、少なくとも清浄化したガスお
    よび少なくとも溶媒と副生成物を含有する流体の抜きと
    りのためのライン(4,5)を有してなる装置であって、分
    離ゾーン内で固体副生成物の層に接続した、少なくとも
    固体副生成物を含んでなる実質的に液体の画分Fを抜き
    取る手段(20)と画分Fを処理するための少なくとも１つ
    のゾーン(22)を含んでなることを特徴とする装置。
  11. 【請求項１１】 分離ゾーン(28)と抜き取り手段(20)が
    接触反応器(1)の下部に設置されている請求項１０記載
    の装置。
  12. 【請求項１２】 抜き取り手段(20)が接触反応器(1)と
    分離ゾーン(18)をつなぐライン(17)上に配置されている
    請求項１０記載の装置。
  13. 【請求項１３】 処理ゾーン(22)が以下の手段：容器(c
    apacity) (30)および吸水管(31)などの分離手段、およ
    び／または濾過手段(40,41)、および／またはアルミナ
    類、セラミック類、活性炭などの捕捉手段(50,51)から
    選択される手段の少なくとも１つを含んでなり、この手
    段は実質的に溶媒からなる少なくとも１つの流れおよび
    生成した副生成物の大部分からなる少なくとも１つの流
    れを作り出すのに適したものである請求項１０ないし１
    ２のいずれか１項に記載の装置。
  14. 【請求項１４】 少なくとも、副生成物層の厚さを制御
    する手段(CN2, V2)および／または位置を制御する手段
    (CN１, V１)、または制御手段(V1, V2)を有してなる請
    求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の装置。
  15. 【請求項１５】 実質的に溶媒および／または液体硫黄
    から分離した溶媒の一部からなるF2流の少なくとも一部
    を接触反応器(1)へと再循環させるライン(25,7)を有し
    てなる請求項１０ないし１４のいずれか１項に記載の装
    置。
  16. 【請求項１６】 F2流の一部および／または液体硫黄か
    ら分離した溶媒の一部の硫黄脱飽和手段を有してなる請
    求項１０ないし１５のいずれか１項に記載の装置。
  17. 【請求項１７】 接触反応器が、ランダムまたは積層パ
    ッキング、または静置攪拌器SMV、または衝撃装置、ま
    たはハイドロ−エジェクター(hydro-ejector)、または
    噴霧器、またはワイヤー接触器から選択される請求項１
    ０ないし１６のいずれか１項に記載の装置。
  18. 【請求項１８】 天然ガスのスクラビング操作または原
    油の精製操作からのH2Sを処理するクラウスプラント(Cl
    aus plant)からの流出ガスを処理するための、請求項１
    ないし９のいずれか１項に記載の方法、および請求項１
    ０ないし１７のいずれか１項に記載の装置の適用。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006247651A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Inst Fr Petrole 硫化水素および二酸化硫黄を含有する気体を処理するための改良された方法
JP2020075822A (ja) * 2018-11-05 2020-05-21 住友金属鉱山株式会社 硫化水素ガス製造プラント、硫化水素ガスの製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2818629B1 (fr) * 2000-12-21 2003-02-07 Inst Francais Du Petrole Procede de purification du soufre
CN101569811B (zh) * 2008-05-04 2012-10-10 徐永涛 多孔陶瓷棚格雾化沉积co2(so2)气净化装置
US7951353B1 (en) * 2010-06-07 2011-05-31 Merichem Company Flow control method and apparatus for a continuous multiple zone mass transfer
CN102343204A (zh) * 2010-08-04 2012-02-08 中国石油化工集团公司 从酸性气流中脱除硫化物的方法
CN105983337A (zh) * 2015-02-06 2016-10-05 上海东化环境工程有限公司 一种含硫尾气的处理工艺
CN107441913A (zh) * 2016-05-30 2017-12-08 新特能源股份有限公司 多晶硅生产工艺的尾气处理系统及处理方法
CN109289410B (zh) * 2018-10-19 2021-04-16 东营华联石油化工厂有限公司 一种焦化装置出焦排废处理系统

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2881047A (en) * 1956-05-29 1959-04-07 Laurence S Reid Method of simultaneously removing hydrogen sulfide from gaseous mixtures and producing sulfur therefrom
US4387037A (en) * 1980-11-24 1983-06-07 Trentham Corporation Removal of sulfur from waste gas streams
US4565678A (en) * 1984-12-10 1986-01-21 Conoco Inc. Method of reducing sulfur oxide and nitrogen oxide content of flue gas
US4784754A (en) * 1987-08-31 1988-11-15 Shell Oil Company Sulfur removal process
US5389351A (en) * 1992-11-04 1995-02-14 Hasebe; Nobuyasu Method for desulfurizing a gas
FR2735460B1 (fr) * 1995-06-15 1997-07-25 Inst Francais Du Petrole Procede et dispositif de traitement d'un gaz contenant de l'hydrogene sulfure, comportant une etape d'elimination du soufre cristallise par refroidissement
FR2753395B1 (fr) * 1996-09-16 1998-11-06 Inst Francais Du Petrole Procede et dispositif de traitement d'un gaz contenant de l'hydrogene sulfure et de l'anhydride sulfureux, comportant une etape d'elimination du soufre par refroidissement de l'effluent gazeux
FR2753396B1 (fr) * 1996-09-16 1998-10-30 Inst Francais Du Petrole Procede et dispositif de traitement d'un gaz contenant de l'hydrogene sulfure et du dioxyde de soufre comportant une etape d'appauvrissement en soufre du solvant recycle
FR2757147B1 (fr) * 1996-12-12 1999-01-29 Inst Francais Du Petrole Procede et dispositif d'epuration d'un gaz contenant de l'hydrogene sulfure et du dioxyde de soufre

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006247651A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Inst Fr Petrole 硫化水素および二酸化硫黄を含有する気体を処理するための改良された方法
JP2020075822A (ja) * 2018-11-05 2020-05-21 住友金属鉱山株式会社 硫化水素ガス製造プラント、硫化水素ガスの製造方法
JP7115227B2 (ja) 2018-11-05 2022-08-09 住友金属鉱山株式会社 硫化水素ガス製造プラント、硫化水素ガスの製造方法

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Publication number Publication date
DE69904277D1 (de) 2003-01-16
CA2284445C (fr) 2009-06-09
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DE69904277T2 (de) 2003-04-17
CA2284445A1 (fr) 2000-04-08
US6872367B2 (en) 2005-03-29
US20020012617A1 (en) 2002-01-31
CN1136032C (zh) 2004-01-28
US6277352B1 (en) 2001-08-21
FR2784370B1 (fr) 2001-03-09
JP4450901B2 (ja) 2010-04-14
FR2784370A1 (fr) 2000-04-14
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