JPH0414453Y2 - - Google Patents
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- JPH0414453Y2 JPH0414453Y2 JP10374387U JP10374387U JPH0414453Y2 JP H0414453 Y2 JPH0414453 Y2 JP H0414453Y2 JP 10374387 U JP10374387 U JP 10374387U JP 10374387 U JP10374387 U JP 10374387U JP H0414453 Y2 JPH0414453 Y2 JP H0414453Y2
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Landscapes
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は、金属表面を処理するための浸漬式リ
ン酸塩処理装置、特に自動車ボデイの電着塗装前
処理用の浸漬式リン酸塩処理装置に関するもので
ある。
ン酸塩処理装置、特に自動車ボデイの電着塗装前
処理用の浸漬式リン酸塩処理装置に関するもので
ある。
[従来技術]
この種の自動車ボデイの電着塗装前処理におけ
る浸漬式リン酸塩処理装置は、両端が解放された
ブース内に、脱脂→水洗→(表面調整)→リン酸
塩処理→水洗→水洗のゾーンと、ブースを通過す
るコンベアとが設けられている。そして、リン酸
塩処理ゾーンにはリン酸塩処理液が満たされた処
理槽がブース内の下部に配設され、その処理槽内
の処理液中をコンベアに吊垂された被処理物が略
全没状態で通過し、浸漬処理されるようになつて
いる。
る浸漬式リン酸塩処理装置は、両端が解放された
ブース内に、脱脂→水洗→(表面調整)→リン酸
塩処理→水洗→水洗のゾーンと、ブースを通過す
るコンベアとが設けられている。そして、リン酸
塩処理ゾーンにはリン酸塩処理液が満たされた処
理槽がブース内の下部に配設され、その処理槽内
の処理液中をコンベアに吊垂された被処理物が略
全没状態で通過し、浸漬処理されるようになつて
いる。
このような構成の装置としては、実公昭58−
42060号公報に記載された構成のものが周知であ
る。この周知の構成にあつては、リン酸塩処理液
の温度を下げないようにするため、リン酸塩処理
ゾーンの入槽側に仕切板を設けた構成であり、該
処理ゾーンの空間が広く開いているばかりでな
く、入槽側と出槽側とにスプレー手段が設けられ
ていない構成である。一般的には、自動車ボデイ
の入槽側空間及び出槽側空間には、自動車ボデイ
に化成されるリン酸塩皮膜がムラになつたり或は
リン酸塩のカスが付着したりするので、それを防
止するためのスプレー手段が設けられるのが普通
でる。
42060号公報に記載された構成のものが周知であ
る。この周知の構成にあつては、リン酸塩処理液
の温度を下げないようにするため、リン酸塩処理
ゾーンの入槽側に仕切板を設けた構成であり、該
処理ゾーンの空間が広く開いているばかりでな
く、入槽側と出槽側とにスプレー手段が設けられ
ていない構成である。一般的には、自動車ボデイ
の入槽側空間及び出槽側空間には、自動車ボデイ
に化成されるリン酸塩皮膜がムラになつたり或は
リン酸塩のカスが付着したりするので、それを防
止するためのスプレー手段が設けられるのが普通
でる。
又この種処理装置に用いられる電着塗装用リン
酸塩処理液は、各種性能を向上させるために処理
液中の亜鉛イオン濃度を低下させている。その濃
度は2g/以下のものが用いられる。又処理液
濃度は省エネルギーのため常温〜45℃で用いられ
ている。
酸塩処理液は、各種性能を向上させるために処理
液中の亜鉛イオン濃度を低下させている。その濃
度は2g/以下のものが用いられる。又処理液
濃度は省エネルギーのため常温〜45℃で用いられ
ている。
[考案が解決しようとする問題点]
前記周知例において、処理ゾーンにおけるブー
ス空間が広いため、処理液の温度低下にそれほど
大きく寄与しないばかりでなく、被処理物に対す
るリン酸塩のカスの付着防止対策及びリン酸塩皮
膜の形成ムラを防止する対策が何等取られていな
いと云う問題点を有している。
ス空間が広いため、処理液の温度低下にそれほど
大きく寄与しないばかりでなく、被処理物に対す
るリン酸塩のカスの付着防止対策及びリン酸塩皮
膜の形成ムラを防止する対策が何等取られていな
いと云う問題点を有している。
仮に、前記一般的なスプレー手段を前記周知例
に適用したにしても、入槽側と出槽側とにスプレ
ー手段が設けられることになる。しかしながら、
入槽側空間で被処理物をスプレー処理すると、ホ
スフオフイライト結晶の少ない皮膜が化成され、
電着塗装後の耐蝕性、塗料付着性が低下すると云
う問題点も有している。
に適用したにしても、入槽側と出槽側とにスプレ
ー手段が設けられることになる。しかしながら、
入槽側空間で被処理物をスプレー処理すると、ホ
スフオフイライト結晶の少ない皮膜が化成され、
電着塗装後の耐蝕性、塗料付着性が低下すると云
う問題点も有している。
[問題点を解決するための手段]
前記問題点を解決するための具体的手段として
本考案は、被処理物がコンベアにより入出可能な
ブースで構成され、そのブースにリン酸塩処理液
槽が設けられ、該処理液槽底部を前記被処理物が
平行移動するようにコンベアが設けられた浸漬式
リン酸塩処理装置において、前記リン酸塩処理液
槽の天井部分をその処理液槽の底部の形状に沿つ
て低く形成することでブース空間を狭くし、被処
理物出槽部空間にのみスプレー手段を設け、該ス
プレー手段によるミストが入槽前の被処理物に影
響を及ぼさないように、前記スプレー空間と被処
理物入槽空間とを仕切る仕切板を前記天井部分か
ら吊垂状態に設け、該仕切板はコンベア又はハン
ガーが通過可能な空隙を有することを特徴とする
浸漬式リン酸塩処理装置を提供するものであつ
て、入槽側空間で被処理物をスプレー処理しない
ことで、ホスフオフイライト結晶の多い皮膜が化
成され、電着塗装後の耐蝕性、塗料付着性を向上
させると共に、処理ゾーンの天井を低くすること
及び仕切板を設けたことで、出槽側のスプレー手
段によつて、リン酸塩のいカスを除去でき、しか
もミストが入槽側に全く影響を及ぼさず、皮膜形
成のムラが又くなくなるのである。
本考案は、被処理物がコンベアにより入出可能な
ブースで構成され、そのブースにリン酸塩処理液
槽が設けられ、該処理液槽底部を前記被処理物が
平行移動するようにコンベアが設けられた浸漬式
リン酸塩処理装置において、前記リン酸塩処理液
槽の天井部分をその処理液槽の底部の形状に沿つ
て低く形成することでブース空間を狭くし、被処
理物出槽部空間にのみスプレー手段を設け、該ス
プレー手段によるミストが入槽前の被処理物に影
響を及ぼさないように、前記スプレー空間と被処
理物入槽空間とを仕切る仕切板を前記天井部分か
ら吊垂状態に設け、該仕切板はコンベア又はハン
ガーが通過可能な空隙を有することを特徴とする
浸漬式リン酸塩処理装置を提供するものであつ
て、入槽側空間で被処理物をスプレー処理しない
ことで、ホスフオフイライト結晶の多い皮膜が化
成され、電着塗装後の耐蝕性、塗料付着性を向上
させると共に、処理ゾーンの天井を低くすること
及び仕切板を設けたことで、出槽側のスプレー手
段によつて、リン酸塩のいカスを除去でき、しか
もミストが入槽側に全く影響を及ぼさず、皮膜形
成のムラが又くなくなるのである。
[実施例]
次に本考案を図示の実施例により更に詳しく説
明すると、1はリン酸塩処理ゾーンの処理ブース
全体を示すものであり、該処理ゾーンの下部にリ
ン酸塩処理のための処理槽2が配設され、該処理
槽内にはリン酸塩処理液3が充満させてある。こ
の処理ブース1において、天井4は前記処理槽3
の底部形状に沿つて低く形成し、処理ブース1内
の空間を狭くすると共に、該天井4に沿つてコン
ベア用レール5が配設され、該レールに吊垂させ
たハンガー又はコンベア5aに載せて被処理物6
が入槽側7から搬入され、前記処理槽2のリン酸
塩処理液3内を全没状態で通過し、リン酸塩処理
された後に、出槽側8においてスプレー手段9に
よつて被処理物6に付着しているリン酸塩のカス
等を洗い流すようにしている。
明すると、1はリン酸塩処理ゾーンの処理ブース
全体を示すものであり、該処理ゾーンの下部にリ
ン酸塩処理のための処理槽2が配設され、該処理
槽内にはリン酸塩処理液3が充満させてある。こ
の処理ブース1において、天井4は前記処理槽3
の底部形状に沿つて低く形成し、処理ブース1内
の空間を狭くすると共に、該天井4に沿つてコン
ベア用レール5が配設され、該レールに吊垂させ
たハンガー又はコンベア5aに載せて被処理物6
が入槽側7から搬入され、前記処理槽2のリン酸
塩処理液3内を全没状態で通過し、リン酸塩処理
された後に、出槽側8においてスプレー手段9に
よつて被処理物6に付着しているリン酸塩のカス
等を洗い流すようにしている。
前記天井4には、略処理液3の面にまで至る仕
切板10が吊垂状態に設けられ、該仕切板には前
記ハンガー又はコンベア5aが通過できるように
縦方向のスリツト状の間隙10aが略中央部に設
けてある。そして、前記仕切板10を境にして入
槽側7に排気用のダクト11を取付け、出槽側の
排気ダクト12と共に適宜の排気フアンによつて
例えばミスト等を外部に排気する。尚、図中13
はオーバーフロー用のタンク、14は外気取り入
れ用の調整ダンパーである。
切板10が吊垂状態に設けられ、該仕切板には前
記ハンガー又はコンベア5aが通過できるように
縦方向のスリツト状の間隙10aが略中央部に設
けてある。そして、前記仕切板10を境にして入
槽側7に排気用のダクト11を取付け、出槽側の
排気ダクト12と共に適宜の排気フアンによつて
例えばミスト等を外部に排気する。尚、図中13
はオーバーフロー用のタンク、14は外気取り入
れ用の調整ダンパーである。
[動作の説明]
前記構成の処理装置において、入槽側7から被
処理物、例えば自動車ボデイ6がコンベア5aに
よつて搬入され、処理槽2のリン酸塩処理液3内
に全没状態で浸漬させる。そして、所定の処理が
成された後に、出槽側8から自動車ボデイ6が搬
出されることになるが、この出槽側においてスプ
レー手段9によつて、処理液中で付着したリン酸
塩のカス等を洗い流してきれいにする。この場
合、スプレー手段9によつて処理液と同じ成分の
液体が噴射状態で吹き掛けられるので、出槽側8
において霧状のミストが充満した状態にある。し
かしながら、出槽側においては被処理物が既にリ
ン酸塩処理液中で処理され所定の皮膜が形成され
た後であるので、これ等のミストが付着しても何
等の影響を受けることはないが、入槽前の被処理
物がこれ等のミストに触れると部分的ではある
が、一部においてリン酸塩皮膜が形成されること
になり、その後の全没処理においてムラが生じ、
好ましくない。従つて、略中間付近に設けられた
仕切板によつて出槽側のスプレー手段によるミス
トが遮断され、入槽側において、被処理物は出槽
側における処理の影響を全く受けることがないの
である。尚、必要があるときには、入槽側7にお
いて、ダクト11から入槽側の湿気の多い雰囲気
を外部に排気し、常に入槽側にミスト等が標わな
いようにすることもできる。
処理物、例えば自動車ボデイ6がコンベア5aに
よつて搬入され、処理槽2のリン酸塩処理液3内
に全没状態で浸漬させる。そして、所定の処理が
成された後に、出槽側8から自動車ボデイ6が搬
出されることになるが、この出槽側においてスプ
レー手段9によつて、処理液中で付着したリン酸
塩のカス等を洗い流してきれいにする。この場
合、スプレー手段9によつて処理液と同じ成分の
液体が噴射状態で吹き掛けられるので、出槽側8
において霧状のミストが充満した状態にある。し
かしながら、出槽側においては被処理物が既にリ
ン酸塩処理液中で処理され所定の皮膜が形成され
た後であるので、これ等のミストが付着しても何
等の影響を受けることはないが、入槽前の被処理
物がこれ等のミストに触れると部分的ではある
が、一部においてリン酸塩皮膜が形成されること
になり、その後の全没処理においてムラが生じ、
好ましくない。従つて、略中間付近に設けられた
仕切板によつて出槽側のスプレー手段によるミス
トが遮断され、入槽側において、被処理物は出槽
側における処理の影響を全く受けることがないの
である。尚、必要があるときには、入槽側7にお
いて、ダクト11から入槽側の湿気の多い雰囲気
を外部に排気し、常に入槽側にミスト等が標わな
いようにすることもできる。
[考案の効果]
以上説明したように本考案に係るリン酸塩処理
装置は、被処理物がコンベアにより入出可能なブ
ースで構成され、そのブースにリン酸塩処理液槽
が設けられ、該処理液槽底部を前記被処理物が平
行移動するようにコンベアが設けられた浸漬式リ
ン酸塩処理装置において、前記リン酸塩処理液槽
の天井部分をその処理液槽の底部の形状に沿つて
低く形成することでブース空間を狭くし、被処理
物出槽部空間にのみスプレー手段を設け、該スプ
レー手段によるミストが入槽前の被処理物に影響
を及ぼさないように、前記スプレー空間と被処理
物入槽空間とを仕切る仕切板を前記天井部分から
吊垂状態に設け、該仕切板はコンベア又はハンガ
ーが通過可能な空隙を有する構成にしたことによ
つて、入槽側においてスプレー処理しないため
に、ホスフオフイライト結晶の多い皮膜が化成さ
れ、その後の電着塗装の耐蝕性及び塗料付着性が
良好になると共に、出槽側においてスプレー手段
によつてリン酸塩のカス等を洗い流すので、表面
がきれいに洗浄できると云う優れた効果を奏す
る。
装置は、被処理物がコンベアにより入出可能なブ
ースで構成され、そのブースにリン酸塩処理液槽
が設けられ、該処理液槽底部を前記被処理物が平
行移動するようにコンベアが設けられた浸漬式リ
ン酸塩処理装置において、前記リン酸塩処理液槽
の天井部分をその処理液槽の底部の形状に沿つて
低く形成することでブース空間を狭くし、被処理
物出槽部空間にのみスプレー手段を設け、該スプ
レー手段によるミストが入槽前の被処理物に影響
を及ぼさないように、前記スプレー空間と被処理
物入槽空間とを仕切る仕切板を前記天井部分から
吊垂状態に設け、該仕切板はコンベア又はハンガ
ーが通過可能な空隙を有する構成にしたことによ
つて、入槽側においてスプレー処理しないため
に、ホスフオフイライト結晶の多い皮膜が化成さ
れ、その後の電着塗装の耐蝕性及び塗料付着性が
良好になると共に、出槽側においてスプレー手段
によつてリン酸塩のカス等を洗い流すので、表面
がきれいに洗浄できると云う優れた効果を奏す
る。
又、ブースの天井を処理槽の底面形状に沿つて
低く形成することによつて、ブース内の空間が狭
くなり、外気による熱の影響を受けることが少な
いばかでなく、特に出槽側のスプレー手段による
ミストの浮游状態が少なく、しかも仕切板を設け
たことによつてスプレー手段のない入槽側に出槽
側からのミストの侵入もなく、最適な条件でリン
酸塩処理が行えると云う優れた効果を奏する。
低く形成することによつて、ブース内の空間が狭
くなり、外気による熱の影響を受けることが少な
いばかでなく、特に出槽側のスプレー手段による
ミストの浮游状態が少なく、しかも仕切板を設け
たことによつてスプレー手段のない入槽側に出槽
側からのミストの侵入もなく、最適な条件でリン
酸塩処理が行えると云う優れた効果を奏する。
第1図は本考案に係るリン酸塩処理装置を略示
的に示した側断面図、第2図は第1図の〜線
に沿う拡大断面図である。 1……ブース、2……処理槽、3……リン酸塩
処理液、4……天井、5……レール、5a……コ
ンベア、6……被処理物、7……入槽側、8……
出槽側、9……スプレー手段、10……仕切板、
10a……間隙、11,12……ダクト、13…
…タンク、14……ダンパー。
的に示した側断面図、第2図は第1図の〜線
に沿う拡大断面図である。 1……ブース、2……処理槽、3……リン酸塩
処理液、4……天井、5……レール、5a……コ
ンベア、6……被処理物、7……入槽側、8……
出槽側、9……スプレー手段、10……仕切板、
10a……間隙、11,12……ダクト、13…
…タンク、14……ダンパー。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 被処理物がコンベアにより入出可能なブース
で構成され、そのブースにリン酸塩処理液槽が
設けられ、該処理液槽底部を前記被処理物が平
行移動するようにコンベアが設けられた浸漬式
リン酸塩処理装置において、前記リン酸塩処理
液槽の天井部分をその処理液槽の底部の形状に
沿つて低く形成することでブース空間を狭く
し、被処理物出槽部空間にのみスプレー手段を
設け、該スプレー手段によるミストが入槽前の
被処理物に影響を及ぼさないように、前記スプ
レー空間と被処理物入槽空間とを仕切る仕切板
を前記天井部分から吊垂状態に設け、該仕切板
はコンベア又はハンガーが通過可能な空隙を有
することを特徴とする浸漬式リン酸塩処理装
置。 (2) 仕切板で仕切られた入槽側空間に排気ダクト
を設けたことを特徴とする前記1項記載の浸漬
式リン酸塩処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10374387U JPH0414453Y2 (ja) | 1987-07-06 | 1987-07-06 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10374387U JPH0414453Y2 (ja) | 1987-07-06 | 1987-07-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6410067U JPS6410067U (ja) | 1989-01-19 |
JPH0414453Y2 true JPH0414453Y2 (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=31334846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10374387U Expired JPH0414453Y2 (ja) | 1987-07-06 | 1987-07-06 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0414453Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2719639B2 (ja) * | 1988-02-26 | 1998-02-25 | 株式会社ケミコート | 金属の浸漬式連続薬液処理法 |
-
1987
- 1987-07-06 JP JP10374387U patent/JPH0414453Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6410067U (ja) | 1989-01-19 |
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