JPH04134323A - 光書き込み型液晶表示素子 - Google Patents
光書き込み型液晶表示素子Info
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- JPH04134323A JPH04134323A JP2255980A JP25598090A JPH04134323A JP H04134323 A JPH04134323 A JP H04134323A JP 2255980 A JP2255980 A JP 2255980A JP 25598090 A JP25598090 A JP 25598090A JP H04134323 A JPH04134323 A JP H04134323A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光書き込み型液晶表示素子に関し、特に投射型
の液晶表示装置に用いられる光書き込み型液晶表示素子
に関する。
の液晶表示装置に用いられる光書き込み型液晶表示素子
に関する。
［従来の技術］
投射型の液晶表示装置に用いられる従来の光書き込み型
液晶表示素子（液晶ライトバルブ）は、第６図に示すご
とき断面を有している。即ち、−方のガラス基板ＬＬａ
上に透明電極１２２が形成され、この透明電極１２ａ上
に非晶質水素化シリコン（ａ−５ｉ：Ｈ）からなる光導
電体層１３が形成されている。この光導電体層１３上に
炭素、銀等の金属薄膜を用いた光吸収層１４が形成され
ている。この光吸収層１４上には二酸化チタン／二酸化
ケイ素、硫化亜鉛／フッ化マグネシウム等の多層膜から
なる誘電体ミラー１５が形成されている。この誘電体ミ
ラー１５の上にポリイミド膜を分子配向処理してなる配
向膜１６ａが形成されている。また、他方のガラス基板
１１ｂ上に透明電極１２ｂが形成され、この透明電極１
２ｂ上に配向膜１６ｂが形成されている。
液晶表示素子（液晶ライトバルブ）は、第６図に示すご
とき断面を有している。即ち、−方のガラス基板ＬＬａ
上に透明電極１２２が形成され、この透明電極１２ａ上
に非晶質水素化シリコン（ａ−５ｉ：Ｈ）からなる光導
電体層１３が形成されている。この光導電体層１３上に
炭素、銀等の金属薄膜を用いた光吸収層１４が形成され
ている。この光吸収層１４上には二酸化チタン／二酸化
ケイ素、硫化亜鉛／フッ化マグネシウム等の多層膜から
なる誘電体ミラー１５が形成されている。この誘電体ミ
ラー１５の上にポリイミド膜を分子配向処理してなる配
向膜１６ａが形成されている。また、他方のガラス基板
１１ｂ上に透明電極１２ｂが形成され、この透明電極１
２ｂ上に配向膜１６ｂが形成されている。
このようなガラス基板１１１及び１１ｂがスペーサ１８
を介して貼り合わされ、これら配向膜１６ａ及び１６ｂ
の間に液晶が封入されて液晶層１７が形成されている。
を介して貼り合わされ、これら配向膜１６ａ及び１６ｂ
の間に液晶が封入されて液晶層１７が形成されている。
また、ガラス基板１１ａ及びｌｌｂの透明電極１２を及
び１２ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐ
ための反射防止膜１９ａ及び１９ｂがそれぞれ形成され
ている。透明電極１２ａ及び１２ｂ間には交流電源２０
が接続されている。
び１２ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐ
ための反射防止膜１９ａ及び１９ｂがそれぞれ形成され
ている。透明電極１２ａ及び１２ｂ間には交流電源２０
が接続されている。
ガラス基板１１ａ側からレーザ光Ｌ１が入射されると、
光導電体層１３の光の当たった領域のインピーダンスが
減少し、交流電源２０から印加された電圧が液晶層１７
に加わって液晶の配向が変化する。
光導電体層１３の光の当たった領域のインピーダンスが
減少し、交流電源２０から印加された電圧が液晶層１７
に加わって液晶の配向が変化する。
光導電体層１３の光の当たらない領域では、インピーダ
ンスが変化しないため液晶が初期の配向を保持する。そ
の結果、液晶表示素子に画像が書き込まれることとなる
。このように画像が書き込まれた液晶表示素子のガラス
基板１１ｂ側から偏光板を介して光Ｒ１を入射すると、
液晶層１７により偏光方向が変化せしめられ誘電体ミラ
ー１５で反射された反射光Ｒ２が再び偏光板を通ってス
クリーン上に投影される。
ンスが変化しないため液晶が初期の配向を保持する。そ
の結果、液晶表示素子に画像が書き込まれることとなる
。このように画像が書き込まれた液晶表示素子のガラス
基板１１ｂ側から偏光板を介して光Ｒ１を入射すると、
液晶層１７により偏光方向が変化せしめられ誘電体ミラ
ー１５で反射された反射光Ｒ２が再び偏光板を通ってス
クリーン上に投影される。
この場合、誘電体ミラー１５は、液晶表示素子に書き込
まれている画像を読み出すための入射光を反射させて外
部へ出射させると共にこの入射光を高い反射率で反射さ
せることにより光導電体層１３への入射を防止するため
に設けられている。また、光吸収層１４は、書き込みに
用いられるレーザ光の光導電体層への再反射を防止する
と共に誘電体ミラー１５を透過した読み出し用の投影光
を遮断するために設けられている。
まれている画像を読み出すための入射光を反射させて外
部へ出射させると共にこの入射光を高い反射率で反射さ
せることにより光導電体層１３への入射を防止するため
に設けられている。また、光吸収層１４は、書き込みに
用いられるレーザ光の光導電体層への再反射を防止する
と共に誘電体ミラー１５を透過した読み出し用の投影光
を遮断するために設けられている。
［発明が解決しようとする課題］
このように光書き込み型液晶表示素子を投射型として用
いる場合、反射層は必要不可欠の要素であり、この反射
層は導電率を小さくするために絶縁膜を用いた誘電体ミ
ラーで形成される。通常、このような誘電体ミラーは絶
縁膜を多層蒸着して形成される。しかしながら、絶縁膜
を多層蒸着することは、製造工程の煩雑化を招くのみな
らずセル構成が非常に複雑となる。
いる場合、反射層は必要不可欠の要素であり、この反射
層は導電率を小さくするために絶縁膜を用いた誘電体ミ
ラーで形成される。通常、このような誘電体ミラーは絶
縁膜を多層蒸着して形成される。しかしながら、絶縁膜
を多層蒸着することは、製造工程の煩雑化を招くのみな
らずセル構成が非常に複雑となる。
従って本発明の目的は、製造工程を簡略化できると共に
セル構成が簡単な光書き込み型液晶表示素子を提供する
ことにある。
セル構成が簡単な光書き込み型液晶表示素子を提供する
ことにある。
［課題を解決するための手段］
上述の目的を達成する本発明の要旨は、第１の透明基板
と、第１の透明基板上に形成された第１の透明電極層と
、第１の透明電極層上に形成された光導電体層と、光導
電体層上に形成された光吸収層と、光吸収層上に形成さ
れておりコレステリック液晶の高分子膜からなる反射層
と、第２の透明基板と、第２の透明基板上に形成された
第２の透明電極層と、この第２の透明電極層及び反射層
間に挿入された液晶層とを備えたことにある。
と、第１の透明基板上に形成された第１の透明電極層と
、第１の透明電極層上に形成された光導電体層と、光導
電体層上に形成された光吸収層と、光吸収層上に形成さ
れておりコレステリック液晶の高分子膜からなる反射層
と、第２の透明基板と、第２の透明基板上に形成された
第２の透明電極層と、この第２の透明電極層及び反射層
間に挿入された液晶層とを備えたことにある。
［作用コ
反射層が円偏光二色性のあるコレステリック液晶の高分
子膜から形成されているので、この反射層の形成が非常
に容易となり、全体の製造工程を簡略化できる。しかも
セル構成が簡単となる。
子膜から形成されているので、この反射層の形成が非常
に容易となり、全体の製造工程を簡略化できる。しかも
セル構成が簡単となる。
［実施例コ
以下図面により本発明の詳細な説明する。
東１図は、本発明の一実施例としての光書き込み型液晶
表示素子（液晶ライトバルブ）の断面図を示す。
表示素子（液晶ライトバルブ）の断面図を示す。
同図に示すように、本発明の第１の透明基板に対応する
ガラス基板２１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及びＳｎＯ２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜２２ａが積層さ
れている。この透明電極膜２２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板２１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
ガラス基板２１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及びＳｎＯ２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜２２ａが積層さ
れている。この透明電極膜２２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板２１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
透明電極膜２２ａ上には、非晶質水素化シリコン（ａ−
３ｔ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層２３が
積層されている。この光導電体層２３は、シランガス（
ＳｉＨ４）、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズマＣ
ＶＤ法で形成される。
３ｔ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層２３が
積層されている。この光導電体層２３は、シランガス（
ＳｉＨ４）、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズマＣ
ＶＤ法で形成される。
光導電体層２３上には、有機膜の一種であるカーボン分
散系の塗料による光吸収層２４が積層されている。この
光吸収層２４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ１比抵抗１０７Ω・Ｃｍで、可視域の透過率が約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層２４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい。
散系の塗料による光吸収層２４が積層されている。この
光吸収層２４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ１比抵抗１０７Ω・Ｃｍで、可視域の透過率が約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層２４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい。
なお、本出願人はこのような光吸収層を有する光書き込
み型液晶表示素子について、特願平２−１１３４５３号
（平成２年４月２７日出願）により既に提案している。
み型液晶表示素子について、特願平２−１１３４５３号
（平成２年４月２７日出願）により既に提案している。
光吸収層２４上には、円偏光二色性の高分子コレステリ
ック液晶を用いた反射層２５が形成されている。この反
射層２５の積層は、以下のようにして行われる。
ック液晶を用いた反射層２５が形成されている。この反
射層２５の積層は、以下のようにして行われる。
まず、ポリ−Ｄ−グルタミン酸ｎ−ブチルエステルを溶
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルム２５Ｌを作成する。膜厚が約０．２
ｍｍ、屈折率が約１．５、屈折率の異方性が約０．１で
あるため、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５０ｎ
ｍ±２０ｎｍの光のうち左旋性成分を反射するように設
定されている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０°
回転したときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ＝
ｎ’ｐ’ｃｏｓθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐは
ピッチ、θは光の入射角）により特定の波長の光を選択
的に反射することができる。同様にしてポリ−Ｌ−グル
タミン酸ｎ−ブチルエステルを用いて右旋性成分を反射
するように設定した高分子液晶フィルム２５Ｓを作成す
る。このように作成した高分子液晶フィルム２５Ｌ及び
２５３を２枚合わせて波長５５０ｎｍ±２０ｎｍの光を
反射させることができる反射層（ノツチフィルタ）２５
を光吸収層２４上に積層する。
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルム２５Ｌを作成する。膜厚が約０．２
ｍｍ、屈折率が約１．５、屈折率の異方性が約０．１で
あるため、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５０ｎ
ｍ±２０ｎｍの光のうち左旋性成分を反射するように設
定されている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０°
回転したときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ＝
ｎ’ｐ’ｃｏｓθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐは
ピッチ、θは光の入射角）により特定の波長の光を選択
的に反射することができる。同様にしてポリ−Ｌ−グル
タミン酸ｎ−ブチルエステルを用いて右旋性成分を反射
するように設定した高分子液晶フィルム２５Ｓを作成す
る。このように作成した高分子液晶フィルム２５Ｌ及び
２５３を２枚合わせて波長５５０ｎｍ±２０ｎｍの光を
反射させることができる反射層（ノツチフィルタ）２５
を光吸収層２４上に積層する。
反射層２５上には、液晶層２６が積層されている。
この液晶層２６としては、散乱型の液晶複合膜が用いら
れる。液晶複合膜は、ＵＶ重合性化合物である２官能性
アクリレート（ＨＸ−６２０：日本化薬株式会社製）３
０ｗｔ％とネマチック液晶（ＺＬＩ−３２０１−０００
：メルク社製）７０ｗｔ％と少量の重合開始剤（Ｄａｒ
ｏｃｕｒｅｌ１７３：メルク社製）とを混合した均一溶
液を作って濾過し、この濾過溶液を反射層２５上に１０
μｍの膜厚てスピナー塗布した後、紫外線露光すること
によって形成される。
れる。液晶複合膜は、ＵＶ重合性化合物である２官能性
アクリレート（ＨＸ−６２０：日本化薬株式会社製）３
０ｗｔ％とネマチック液晶（ＺＬＩ−３２０１−０００
：メルク社製）７０ｗｔ％と少量の重合開始剤（Ｄａｒ
ｏｃｕｒｅｌ１７３：メルク社製）とを混合した均一溶
液を作って濾過し、この濾過溶液を反射層２５上に１０
μｍの膜厚てスピナー塗布した後、紫外線露光すること
によって形成される。
この液晶層２６上に、対向透明電極膜２２ｂ及びガラス
基板２１ｂの積層体が積層されている。この積層体は、
本発明の第２の透明基板に対応するガラス基板２１ｂ上
に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜２２ｂを積層
して形成されている。透明電極膜２２ｂは、本発明の第
２の透明電極層に対応しており、ガラス基板２Ｉｂ上に
スパッタ法で形成されている。ガラス基板２１ａ及び２
１ｂの透明電極２２ａ及び２２ｂと反対側の表面には、
ガラス面での反射を防ぐための反射防止膜２７ａ及び２
７ｂがそれぞれ蒸着により形成されている。透明電極膜
２２ａ及び２２ｂ間には交流電源２８から交流電圧が印
加されるように構成されている。
基板２１ｂの積層体が積層されている。この積層体は、
本発明の第２の透明基板に対応するガラス基板２１ｂ上
に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜２２ｂを積層
して形成されている。透明電極膜２２ｂは、本発明の第
２の透明電極層に対応しており、ガラス基板２Ｉｂ上に
スパッタ法で形成されている。ガラス基板２１ａ及び２
１ｂの透明電極２２ａ及び２２ｂと反対側の表面には、
ガラス面での反射を防ぐための反射防止膜２７ａ及び２
７ｂがそれぞれ蒸着により形成されている。透明電極膜
２２ａ及び２２ｂ間には交流電源２８から交流電圧が印
加されるように構成されている。
交流電圧が供給されている状態で、ガラス基板２１ａ側
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層２３のインピーダンスが低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層２７に印加され、これによって
液晶分子の配向を変化させる。一方、光のあたらない領
域では光導電体層２３のインピーダンスが変化せず、液
晶層２７の液晶分子は初期配向を維持する。その結果、
入射光に応じた画像が液晶層２７に形成されることとな
る。
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層２３のインピーダンスが低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層２７に印加され、これによって
液晶分子の配向を変化させる。一方、光のあたらない領
域では光導電体層２３のインピーダンスが変化せず、液
晶層２７の液晶分子は初期配向を維持する。その結果、
入射光に応じた画像が液晶層２７に形成されることとな
る。
光吸収層２４として用いたカーボン分散系の塗料は、本
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。反射層（ノツチフィルタ）２５のピッチ
は、重合時の温度、溶媒、又は液晶材料と溶媒との混合
比によって容易に変えることができ、このことにより反
射させる波長も任意に変えることができる。従って、本
実施例の反射層を複数組み合わせてカラー化することが
可能である。左旋性と右旋性との順序は逆であってもよ
い。
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。反射層（ノツチフィルタ）２５のピッチ
は、重合時の温度、溶媒、又は液晶材料と溶媒との混合
比によって容易に変えることができ、このことにより反
射させる波長も任意に変えることができる。従って、本
実施例の反射層を複数組み合わせてカラー化することが
可能である。左旋性と右旋性との順序は逆であってもよ
い。
液晶層２６の液晶表示モードとしては、本実施例で示し
た液晶複合膜の他に、動的散乱モード、ゲストホストモ
ード、又は相転移モードを利用できる。
た液晶複合膜の他に、動的散乱モード、ゲストホストモ
ード、又は相転移モードを利用できる。
第２図は、第１図に示した光書き込み型液晶表示素子を
光変調器として用いた投射型の液晶表示装置の一例の概
略構成図である。
光変調器として用いた投射型の液晶表示装置の一例の概
略構成図である。
同図において、３１は第１図に示した光書き込み型液晶
表示素子であり、この光書き込み型液晶表示素子３１に
は画像があらかじめ形成されている。
表示素子であり、この光書き込み型液晶表示素子３１に
は画像があらかじめ形成されている。
即ち、上述したように、レーザ光３２がガラス基板２１
ａ（第１図）側からレンズ３３を介して印加されること
によって画像形成があらかじめ行われている。なお、書
き込み光としては、レーザ光の他にＣＲＴやフラットパ
ネルデイスプレィ（液晶、ＰＤＰ、ＬＥＤ等）からの光
を用いてもよい。
ａ（第１図）側からレンズ３３を介して印加されること
によって画像形成があらかじめ行われている。なお、書
き込み光としては、レーザ光の他にＣＲＴやフラットパ
ネルデイスプレィ（液晶、ＰＤＰ、ＬＥＤ等）からの光
を用いてもよい。
光源３４からの光は、レンズ３５、ミラー３６、及びレ
ンズ３７を介して液晶表示素子３１のガラス基板２１ｂ
（第１図）側に入射される。液晶層２７の液晶分子が
初期配向にある部分では、この入射光は散乱されレンズ
３７へは到達しない。このため、スクリーン３９上では
この部分が暗状態となる。一方、液晶分子の配向が変化
している部分では、液晶層２７が透明となるため、入射
光のうち特定の波長（５５Ｑｎｍ±２０ｎｍ）の光は反
射層２５によって反射され、レンズ３７を介して投影レ
ンズ３８に印加されて拡大され、スクリーン３９へ投影
される。従って、光書き込み型液晶表示素子３１に書き
込まれている画像がスクリーン３９へ投影されることと
なる。
ンズ３７を介して液晶表示素子３１のガラス基板２１ｂ
（第１図）側に入射される。液晶層２７の液晶分子が
初期配向にある部分では、この入射光は散乱されレンズ
３７へは到達しない。このため、スクリーン３９上では
この部分が暗状態となる。一方、液晶分子の配向が変化
している部分では、液晶層２７が透明となるため、入射
光のうち特定の波長（５５Ｑｎｍ±２０ｎｍ）の光は反
射層２５によって反射され、レンズ３７を介して投影レ
ンズ３８に印加されて拡大され、スクリーン３９へ投影
される。従って、光書き込み型液晶表示素子３１に書き
込まれている画像がスクリーン３９へ投影されることと
なる。
この第２図の投影型表示装置では、後述する第４図の投
影型表示装置で用いる偏光ビームスプリッタが不要のた
め、スクリーン３９上の像がその分明るくなる。
影型表示装置で用いる偏光ビームスプリッタが不要のた
め、スクリーン３９上の像がその分明るくなる。
第３図は、本発明の他の実施例としての光書き込み型液
晶表示素子の断面図を示す。
晶表示素子の断面図を示す。
同図に示すように、本発明の第１の透明基板に対応する
ガラス基板４１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及び５ｎ０２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜４２ｇが積層さ
れている。この透明電極膜４２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板４１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
ガラス基板４１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及び５ｎ０２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜４２ｇが積層さ
れている。この透明電極膜４２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板４１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
透明電極膜４２ａ上には、非晶質水素化シリコン（ａ−
Ｓｉ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層４３が
積層されている。この光導電体層４３は、シランガス（
ｓ ｉＨ４） 、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズ
マＣＶＤ法で形成される。
Ｓｉ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層４３が
積層されている。この光導電体層４３は、シランガス（
ｓ ｉＨ４） 、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズ
マＣＶＤ法で形成される。
光導電体層４３上には、有機膜の一種であるカーボン分
散系の塗料による光吸収層４４が積層されている。この
光吸収層４４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ１比抵抗１０７Ω・ｃｍで、可視域の透過率が約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層４４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい（特願平２−１１３４５３
号）。
散系の塗料による光吸収層４４が積層されている。この
光吸収層４４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ１比抵抗１０７Ω・ｃｍで、可視域の透過率が約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層４４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい（特願平２−１１３４５３
号）。
光吸収層４４上には、円偏光二色性の高分子コレステリ
ック液晶を用いた反射層４５が形成されている。この反
射層４５の積層は、以下のようにして行われる。
ック液晶を用いた反射層４５が形成されている。この反
射層４５の積層は、以下のようにして行われる。
まず、ポリ−Ｄ−グルタミン酸ｎ−ブチルエステルを溶
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルム４５Ｌを作成する。膜厚が約０．２
ｍｍ、屈折率が約１．５、屈折率の異方性が約０．１で
あるため、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５Ｑｎ
ｍ±２０ｎｍの光のうち左旋性成分を・反射するように
設定されている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０
°回転したときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ
＝ｎ−ｐ’ｃｏｓθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐ
はピッチ、θは光の入射角）により特定の波長の光を選
択的に反射することができる。同様にしてポリ−Ｌ−グ
ルタミン酸ｎ−ブチルエステルを用いて右旋性成分を反
射するように設定した高分子液晶フィルム４５Ｓを作成
する。このように作成した高分子液晶フィルム４５Ｌ及
び４５Ｓを２枚合わせて波長５５０ｎｍ±２０ｎｍの光
を反射させることができる反射層（ノツチフィルタ）４
５を光吸収層４４上に積層する。
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルム４５Ｌを作成する。膜厚が約０．２
ｍｍ、屈折率が約１．５、屈折率の異方性が約０．１で
あるため、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５Ｑｎ
ｍ±２０ｎｍの光のうち左旋性成分を・反射するように
設定されている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０
°回転したときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ
＝ｎ−ｐ’ｃｏｓθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐ
はピッチ、θは光の入射角）により特定の波長の光を選
択的に反射することができる。同様にしてポリ−Ｌ−グ
ルタミン酸ｎ−ブチルエステルを用いて右旋性成分を反
射するように設定した高分子液晶フィルム４５Ｓを作成
する。このように作成した高分子液晶フィルム４５Ｌ及
び４５Ｓを２枚合わせて波長５５０ｎｍ±２０ｎｍの光
を反射させることができる反射層（ノツチフィルタ）４
５を光吸収層４４上に積層する。
反射層４５上には、配向膜４６ａが積層されている。
この配向膜４６ａは、ポリイミド膜をスピンコードによ
って形成した後、ラビングによる分子配向処理が施され
てなる。
って形成した後、ラビングによる分子配向処理が施され
てなる。
この配向膜４６ａと、配向膜４６ｂ１透明電極膜４２ｂ
及びガラス基板４１ｂの積層体とが、同図に示すように
二つのスペーサ４７を介して貼合わされる。
及びガラス基板４１ｂの積層体とが、同図に示すように
二つのスペーサ４７を介して貼合わされる。
配向膜４６ｂ１透明電極膜４２ｈ及びガラス基板４１ｂ
の積層体は、本発明の第２の透明基板に対応するガラス
基板４１ｂ上に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜
４２ｂを積層し、その上に配向膜４６ｈを上述の方法に
よって積層することによって形成されている。透明電極
膜４２ｂは、本発明の第２の透明電極層に対応しており
、ガラス基板ＪＴｏ上にスパッタ法で形成されている。
の積層体は、本発明の第２の透明基板に対応するガラス
基板４１ｂ上に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜
４２ｂを積層し、その上に配向膜４６ｈを上述の方法に
よって積層することによって形成されている。透明電極
膜４２ｂは、本発明の第２の透明電極層に対応しており
、ガラス基板ＪＴｏ上にスパッタ法で形成されている。
配向膜４６ａ及び４６ｂ間の空間の厚みは約６μｍであ
り、この空間に液晶が注入され封止されて液晶層４８が
形成される。液晶としては、フェニルシクロヘキサン系
ネマチック液晶が用いられる。なお、本実施例の光書き
込み型液晶表示素子の動作モードとしては、ハイブリッ
ド電界効果モードが用いられる。
り、この空間に液晶が注入され封止されて液晶層４８が
形成される。液晶としては、フェニルシクロヘキサン系
ネマチック液晶が用いられる。なお、本実施例の光書き
込み型液晶表示素子の動作モードとしては、ハイブリッ
ド電界効果モードが用いられる。
ガラス基板４１ａ及び４１ｂの透明電極４２ａ及び４２
ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐための
反射防止膜４９ａ及び４９ｂがそれぞれ蒸着により形成
されている。透明電極膜４２ａ及び４２ｂ間には交流電
源５０から交流電圧が印加されるように構成されている
。
ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐための
反射防止膜４９ａ及び４９ｂがそれぞれ蒸着により形成
されている。透明電極膜４２ａ及び４２ｂ間には交流電
源５０から交流電圧が印加されるように構成されている
。
光吸収層４４として用いたカーボン分散系の塗料は、本
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。
液晶層４８の液晶表示モードとして、ネマチック液晶を
用いる場合は本実施例で示したハイブリッド電界効果モ
ードの他に、ツィステッドネマチックモード、電界誘起
複屈折モードを利用できる。
用いる場合は本実施例で示したハイブリッド電界効果モ
ードの他に、ツィステッドネマチックモード、電界誘起
複屈折モードを利用できる。
また液晶としてはこのほかに、強誘電性液晶、反強誘電
性液晶、又はエレクトロクリニック効果を有するスメク
チック液晶も利用できる。
性液晶、又はエレクトロクリニック効果を有するスメク
チック液晶も利用できる。
交流電圧が供給されている状態で、ガラス基板４１ａ側
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層４３のインピーダンスか低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層４８に印加され、これによって
液晶分子の配向を変化させる。一方、光のあたらない領
域では光導電体層４３のインピーダンスが変化せず、液
晶層４８の液晶分子は初期配向を維持する。その結果、
入射光に応じた画像が液晶層４８に形成されることとな
る。
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層４３のインピーダンスか低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層４８に印加され、これによって
液晶分子の配向を変化させる。一方、光のあたらない領
域では光導電体層４３のインピーダンスが変化せず、液
晶層４８の液晶分子は初期配向を維持する。その結果、
入射光に応じた画像が液晶層４８に形成されることとな
る。
第４図は、第３図に示した光書き込み型液晶表示素子を
光変調器として用いた投射型の液晶表示装置の一例の概
略構成図である。
光変調器として用いた投射型の液晶表示装置の一例の概
略構成図である。
同図において、５１は第３図に示した光書き込み型液晶
表示素子であり、この光書き込み型液晶表示素子５１に
は画像があらかじめ形成されている。
表示素子であり、この光書き込み型液晶表示素子５１に
は画像があらかじめ形成されている。
即ち、上述したように、レーザ光５２がガラス基板４１
ａ （第３図）側からレンズ５３を介して印加される
ことによって画像形成があらかじめ行われている。なお
、書き込み光としては、レーザ光の他にＣＲＴやフラッ
トパネルデイスプレィ（液晶、ＦＤＰ、ＬＥＤ等）から
の光を用いてもよい。
ａ （第３図）側からレンズ５３を介して印加される
ことによって画像形成があらかじめ行われている。なお
、書き込み光としては、レーザ光の他にＣＲＴやフラッ
トパネルデイスプレィ（液晶、ＦＤＰ、ＬＥＤ等）から
の光を用いてもよい。
光源５４からの光は、レンズ５５、及び偏光ビームスプ
リッタ５６を介して液晶表示素子５１のガラス基板４１
ｂ（第３図）側に入射される。液晶層４８の液晶分子が
初期配向にある部分では、この入射光に対して偏光方向
が変化しないから反射層４５で反射された特定の波長の
光は偏光ビームスプリッタ５６を透過しない。このため
、スクリーン５８上ではこの部分が暗状態となる。一方
、液晶分子の配向が変化している部分を透過した反射光
は電気光学効果によって偏光方向が変化するため反射層
４５で反射された光は偏光ビームスプリッタ５６を透過
することができる。この透過した光は、投影レンズ５７
に印加されて拡大され、スクリーン５８へ投影される。
リッタ５６を介して液晶表示素子５１のガラス基板４１
ｂ（第３図）側に入射される。液晶層４８の液晶分子が
初期配向にある部分では、この入射光に対して偏光方向
が変化しないから反射層４５で反射された特定の波長の
光は偏光ビームスプリッタ５６を透過しない。このため
、スクリーン５８上ではこの部分が暗状態となる。一方
、液晶分子の配向が変化している部分を透過した反射光
は電気光学効果によって偏光方向が変化するため反射層
４５で反射された光は偏光ビームスプリッタ５６を透過
することができる。この透過した光は、投影レンズ５７
に印加されて拡大され、スクリーン５８へ投影される。
従って、光書き込み型液晶表示素子５１に書き込まれて
いる画像がスクリーン５８へ投影されることとなる。
いる画像がスクリーン５８へ投影されることとなる。
第５図は、本発明のさらに他の実施例としての光書き込
み型液晶表示素子の断面図を示す。
み型液晶表示素子の断面図を示す。
同図に示すように、本発明の第１の透明基板に対応する
ガラス基板６１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及びＳｎＯ２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜６２ａが積層さ
れている。この透明電極膜６２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板６１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
ガラス基板６１ａ上に、ＩＴＯ透明導電膜及びＳｎＯ２
透明導電膜の積層体からなる透明電極膜６２ａが積層さ
れている。この透明電極膜６２ａは、本発明の第１の透
明電極層に対応しており、ガラス基板６１ａ上にスパッ
タ法で形成されている。
透明電極膜６２ａ上には、非晶質水素化シリコン（ａ−
Ｓｉ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層６３が
積層されている。この光導電体層６３は、シランガス（
ＳｉＨ４）、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズマＣ
ＶＤ法で形成される。
Ｓｉ：Ｈ）からなる膜厚が約３μｍの光導電体層６３が
積層されている。この光導電体層６３は、シランガス（
ＳｉＨ４）、水素ガス（Ｈ２）を原料とし、プラズマＣ
ＶＤ法で形成される。
光導電体層６３上には、有機膜の一種であるカーボン分
散系の塗料による光吸収層６４が積層されている。この
光吸収層６４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ、比抵抗１０−Ω・ｃｍで、可視域の透過率か約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層６４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい（特願平２−１１３４５３
号）。
散系の塗料による光吸収層６４が積層されている。この
光吸収層６４は、カーボン分散系の塗料をスピナーを用
いて塗布し、露光により光重合させた後、２２０℃で１
時間焼成することによって形成する。カーボン分散系の
塗料は、アクリル系の樹脂にカーボンブラックを分散さ
せることによって形成されるものであり、膜厚的１．０
μｍ、比抵抗１０−Ω・ｃｍで、可視域の透過率か約０
゜１％である。この種のカーボン系の塗料は、分散して
いるカーボンの量に応じて透過率及び比抵抗がそれぞれ
変化する。光吸収層６４としてカーボン系の塗料を使用
する場合、透過率が０．５％以下、比抵抗１０６Ω・ｃ
ｍ以上であることが望ましい（特願平２−１１３４５３
号）。
光吸収層６４上には、反射層６５が形成される。この反
射層６５は、高分子コレステリック液晶層６５Ｓと低分
子コレステリック液晶層６５Ｌとからなり、この低分子
コレステリック液晶層６５Ｌは本発明の液晶層をも兼ね
ている。高分子コレステリック液晶層６５Ｓの積層は、
以下のようにして行われる。
射層６５は、高分子コレステリック液晶層６５Ｓと低分
子コレステリック液晶層６５Ｌとからなり、この低分子
コレステリック液晶層６５Ｌは本発明の液晶層をも兼ね
ている。高分子コレステリック液晶層６５Ｓの積層は、
以下のようにして行われる。
まず、ポリ−Ｌ−グルタミン酸ｎ−ブチルエステルを溶
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルムである高分子コレステリック液晶層
６５Ｓを光吸収層６４上に積層する。膜厚が約０．２ｍ
ｍ。
媒であるトリエチレングリコールジメタクリレートに混
合させ、攪拌しながら光増感剤としてベンゾフェノンを
添加し、２枚のガラス基板の間に挟持し、一定温度の下
で紫外線露光することによりプレナー配向で重合させた
高分子液晶フィルムである高分子コレステリック液晶層
６５Ｓを光吸収層６４上に積層する。膜厚が約０．２ｍ
ｍ。
屈折率が約１．５、屈折率の異方性が約０．１であるた
め、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５０ｎｍ±２
０ｎｍの光のうち右旋性成分を反射するように設定され
ている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０°回転し
たときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ＝ｎ・ｐ
・ＣＯＳθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐはピッチ
、θは光の入射角）により特定の波長の光を選択的に反
射することができる。
め、ピッチを０．３７μｍに設定し波長５５０ｎｍ±２
０ｎｍの光のうち右旋性成分を反射するように設定され
ている。ただし、ピッチは液晶の螺旋が３６０°回転し
たときの長さであり、ブラッグの反射条件（λ＝ｎ・ｐ
・ＣＯＳθ、ここでλは波長、ｎは屈折率、ｐはピッチ
、θは光の入射角）により特定の波長の光を選択的に反
射することができる。
この高分子コレステリック液晶層６５Ｓ上に、低分子コ
レステリック液晶層６５Ｌを積層する。低分子コレステ
リック液晶としては、コレステリックオレイルカーボネ
ート（ＣＯＣ）を用い、２周波駆動が可能なように分子
短軸方向に塩素を有する３員環以上の構造のネマチック
液晶（３０９０：ロシュ社製）を混合させて用いる。た
だし、低分子コレステリック液晶と高分子コレステリッ
ク液晶とのピッチと屈折率との積（ｐ−ｎ）は一致して
おり、その螺旋方向は互いに逆である。また、低分子コ
レステリック液晶層のセル厚は６μｍであり、高分子コ
レステリック液晶層のセル厚は０゜２ｍｍである。
レステリック液晶層６５Ｌを積層する。低分子コレステ
リック液晶としては、コレステリックオレイルカーボネ
ート（ＣＯＣ）を用い、２周波駆動が可能なように分子
短軸方向に塩素を有する３員環以上の構造のネマチック
液晶（３０９０：ロシュ社製）を混合させて用いる。た
だし、低分子コレステリック液晶と高分子コレステリッ
ク液晶とのピッチと屈折率との積（ｐ−ｎ）は一致して
おり、その螺旋方向は互いに逆である。また、低分子コ
レステリック液晶層のセル厚は６μｍであり、高分子コ
レステリック液晶層のセル厚は０゜２ｍｍである。
この低分子コレステリック液晶層６５Ｌに、透明電極膜
６２ｂ及びガラス基板６１ｂの積層体とか積層される。
６２ｂ及びガラス基板６１ｂの積層体とか積層される。
透明電極膜６２ｂ及びガラス基板６１ｂの積層体は、本
発明の第２の透明基板に対応するガラス基板６１．ｂ上
に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜６２ｂを積層
することによって形成されている。透明電極膜６２ｂは
、本発明の第２の透明電極層に対応しており、ガラス基
板６１ｂ上にスパッタ法で形成されている。
発明の第２の透明基板に対応するガラス基板６１．ｂ上
に、ＩＴＯ透明導電膜からなる透明電極膜６２ｂを積層
することによって形成されている。透明電極膜６２ｂは
、本発明の第２の透明電極層に対応しており、ガラス基
板６１ｂ上にスパッタ法で形成されている。
ガラス基板６１ａ及び５１ｂの透明電極６２ａ及び６２
ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐための
反射防止膜６７ａ及び６７ｂがそれぞれ蒸着により形成
されている。透明電極膜６２ａ及び６２ｂ間には交流電
源６８から交流電圧が印加されるように構成されている
。
ｂと反対側の表面には、ガラス面での反射を防ぐための
反射防止膜６７ａ及び６７ｂがそれぞれ蒸着により形成
されている。透明電極膜６２ａ及び６２ｂ間には交流電
源６８から交流電圧が印加されるように構成されている
。
光吸収層６４として用いたカーボン分散系の塗料は、本
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。
実施例ではアクリル系樹脂を用いているが、光重合性の
ものとしてポリイミド、又はポリアミドを利用すること
ができ、熱重合性のものとしてエポキシ樹脂を利用する
ことができる。
本実施例では、高分子コレステリック液晶として右旋性
のものを用い、低分子コレステリック液晶として左旋性
のものを用いているが、左旋性の高分子コレステリック
液晶右旋性の低分子コレステリック液晶と組み合わせを
利用することが可能である。
のものを用い、低分子コレステリック液晶として左旋性
のものを用いているが、左旋性の高分子コレステリック
液晶右旋性の低分子コレステリック液晶と組み合わせを
利用することが可能である。
交流電圧が供給されている状態で、ガラス基板６１ａ側
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層６３のインピーダンスが低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層（低分子コレステリック液晶層
）６５Ｌに印加され、これによって液晶分子の配向を変
化させる。一方、光のあたらない領域では光導電体層６
３のインピーダンスが変化せず、液晶層６５Ｌの液晶分
子は初期配向を維持する。つまり本実施例では、設定し
た波長の光を反射するように構成されており、液晶に電
圧がかかるとこれがくずれて入射光は液晶層６５Ｌで散
乱される。その結果、入射光に応じた画像が液晶層５５
Ｌに形成されることとなる。画像の消去は、高周波を印
加することにより可能である。
からレーザ光Ｌ１が入射されると、光のあたった領域で
は光導電体層６３のインピーダンスが低下し、供給され
ている交流電圧が液晶層（低分子コレステリック液晶層
）６５Ｌに印加され、これによって液晶分子の配向を変
化させる。一方、光のあたらない領域では光導電体層６
３のインピーダンスが変化せず、液晶層６５Ｌの液晶分
子は初期配向を維持する。つまり本実施例では、設定し
た波長の光を反射するように構成されており、液晶に電
圧がかかるとこれがくずれて入射光は液晶層６５Ｌで散
乱される。その結果、入射光に応じた画像が液晶層５５
Ｌに形成されることとなる。画像の消去は、高周波を印
加することにより可能である。
第５図に示した光書き込み型液晶表示素子を光変調器と
して用いる投射型の液晶表示装置は第２図に示したもの
と同じであり、動作もほぼ同様であるため説明は省略す
る。
して用いる投射型の液晶表示装置は第２図に示したもの
と同じであり、動作もほぼ同様であるため説明は省略す
る。
以上述べた実施例では、透明基板としてガラス基板を用
いているが、オプティカルファイバで構成されるファイ
バプレートを用いて透明基板を構成してもよい。
いているが、オプティカルファイバで構成されるファイ
バプレートを用いて透明基板を構成してもよい。
［発明の効果コ
以上詳細に説明したように本発明によれば、反射層が円
偏光二色性のあるコレステリック液晶の高分子膜から形
成されているので、この反射層の形成が非常に容易とな
り、全体の製造工程を簡略化でき、しかもセル構成が簡
単な光書き込み型液晶表示素子を得ることができる。
偏光二色性のあるコレステリック液晶の高分子膜から形
成されているので、この反射層の形成が非常に容易とな
り、全体の製造工程を簡略化でき、しかもセル構成が簡
単な光書き込み型液晶表示素子を得ることができる。
第１図は本発明の一実施例の構成を示す断面図、第２図
は第１図の光書き込み型液晶表示素子を光変調器として
用いた投射型の液晶表示装置の概略構成図、第３図は本
発明の他の実施例の構成を示す断面図、第４図は第３図
の光書き込み型液晶表示素子を光変調器として用いた投
射型の液晶表示装置の概略構成図、第５図は本発明のさ
らに他の実施例の構成を示す断面図、第６図は従来の光
書き込み型液晶表示素子の構成を示す断面図である。 ２１ａ ｚ ２１ｂ 、 ４１ａ 、 ４１ｂ Ｎ ６
１ａ 、 ６１ｂ −−・−ガラス基板、２２ａ ％
２２ｂ 、 ４２ａ ｓ ４２ｂ 、 ６２ａ 、、
６２ｂ ・・・・・・透明電極膜、２３．４３．６３・
・・・・・光導電体層、２４．４４．６４・・・・・・
光吸収層、２５．４５・・・・・・反射層、２５Ｓ１２
５Ｌ ｓ ４５Ｓ ｓ ４５Ｌ・・・・・・高分子液晶
フィルム、２６．４８・・・・・・液晶層、２７ａ ｓ
２７ｂ −、４９ａ 、４９ｂ ｓ ６７ａ ５６７
ｂ・・・・・・配向膜、２８．５０．６８・・・・・・
交流電源、３１．５１・・・・・・光書き込み型液晶表
示素子、４７．６６・・・・・・スペーサ、６５Ｓ・・
・・・・高分子コレステリック液晶層、６５Ｌ・・・・
・・低分子コレステリック液晶層。 を 烟へ３４ 第２図 ６只 第３図 第４図 第５ 図 第６図
は第１図の光書き込み型液晶表示素子を光変調器として
用いた投射型の液晶表示装置の概略構成図、第３図は本
発明の他の実施例の構成を示す断面図、第４図は第３図
の光書き込み型液晶表示素子を光変調器として用いた投
射型の液晶表示装置の概略構成図、第５図は本発明のさ
らに他の実施例の構成を示す断面図、第６図は従来の光
書き込み型液晶表示素子の構成を示す断面図である。 ２１ａ ｚ ２１ｂ 、 ４１ａ 、 ４１ｂ Ｎ ６
１ａ 、 ６１ｂ −−・−ガラス基板、２２ａ ％
２２ｂ 、 ４２ａ ｓ ４２ｂ 、 ６２ａ 、、
６２ｂ ・・・・・・透明電極膜、２３．４３．６３・
・・・・・光導電体層、２４．４４．６４・・・・・・
光吸収層、２５．４５・・・・・・反射層、２５Ｓ１２
５Ｌ ｓ ４５Ｓ ｓ ４５Ｌ・・・・・・高分子液晶
フィルム、２６．４８・・・・・・液晶層、２７ａ ｓ
２７ｂ −、４９ａ 、４９ｂ ｓ ６７ａ ５６７
ｂ・・・・・・配向膜、２８．５０．６８・・・・・・
交流電源、３１．５１・・・・・・光書き込み型液晶表
示素子、４７．６６・・・・・・スペーサ、６５Ｓ・・
・・・・高分子コレステリック液晶層、６５Ｌ・・・・
・・低分子コレステリック液晶層。 を 烟へ３４ 第２図 ６只 第３図 第４図 第５ 図 第６図
Claims (1)
- 第１の透明基板と、該第１の透明基板上に形成された第
１の透明電極層と、該第１の透明電極層上に形成された
光導電体層と、該光導電体層上に形成された光吸収層と
、該光吸収層上に形成されておりコレステリック液晶の
高分子膜からなる反射層と、第２の透明基板と、該第２
の透明基板上に形成された第２の透明電極層と、該第２
の透明電極層及び前記反射層間に挿入された液晶層とを
備えたことを特徴とする光書き込み型液晶表示素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2255980A JPH04134323A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 光書き込み型液晶表示素子 |
| US07/764,519 US5305129A (en) | 1990-09-26 | 1991-09-24 | Liquid crystal display device of optical writing type having a carbon dispersed light absorbing layer and a cholesteric reflector |
| DE69123119T DE69123119T2 (de) | 1990-09-26 | 1991-09-25 | Lichtadressierte Flüssigkristallanzeige |
| EP91308731A EP0478299B1 (en) | 1990-09-26 | 1991-09-25 | Liquid crystal display element of optical writing type |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2255980A JPH04134323A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 光書き込み型液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134323A true JPH04134323A (ja) | 1992-05-08 |
Family
ID=17286236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2255980A Pending JPH04134323A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 光書き込み型液晶表示素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5305129A (ja) |
| EP (1) | EP0478299B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04134323A (ja) |
| DE (1) | DE69123119T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0710726U (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-14 | 帝人株式会社 | 液晶光学表示素子 |
| US5841494A (en) * | 1996-06-26 | 1998-11-24 | Hall; Dennis R. | Transflective LCD utilizing chiral liquid crystal filter/mirrors |
| US5929956A (en) * | 1996-11-28 | 1999-07-27 | U.S Philips Corporation | Reflection type diffusing liquid crystal display with selective reflecting means located between the substrates |
Families Citing this family (9)
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|---|---|---|---|---|
| JP2680484B2 (ja) * | 1991-05-20 | 1997-11-19 | シャープ株式会社 | 光書き込み型液晶表示装置 |
| JP2774424B2 (ja) * | 1992-12-07 | 1998-07-09 | シャープ株式会社 | 画像入力一体型表示装置 |
| EP0642050B1 (en) * | 1993-09-02 | 2002-01-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Spatial light modulator, method of production thereof and projection type display |
| US5627666A (en) * | 1994-07-27 | 1997-05-06 | Board Of Regents Of The University Of Colorado | Liquid crystal phase modulator using cholesteric circular polarizers |
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| KR100694574B1 (ko) * | 2000-10-25 | 2007-03-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 콜레스테릭 액정 컬러필터를 이용한 반사형 액정표시장치및 그의 제조방법 |
| KR100790353B1 (ko) * | 2001-05-11 | 2008-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
| JP2003091004A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置および電子機器 |
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| US4941735A (en) * | 1989-03-02 | 1990-07-17 | University Of Colorado Foundation, Inc. | Optically addressable spatial light modulator |
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| JPH0833549B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1996-03-29 | シャープ株式会社 | 光書き込み型液晶表示素子 |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP2255980A patent/JPH04134323A/ja active Pending
-
1991
- 1991-09-24 US US07/764,519 patent/US5305129A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-25 DE DE69123119T patent/DE69123119T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-25 EP EP91308731A patent/EP0478299B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0478299A3 (en) | 1992-11-19 |
| DE69123119D1 (de) | 1996-12-19 |
| DE69123119T2 (de) | 1997-04-10 |
| US5305129A (en) | 1994-04-19 |
| EP0478299A2 (en) | 1992-04-01 |
| EP0478299B1 (en) | 1996-11-13 |
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