JPH04133433U - 半導体ウエーハ洗浄装置 - Google Patents

半導体ウエーハ洗浄装置

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JPH04133433U
JPH04133433U JP3982191U JP3982191U JPH04133433U JP H04133433 U JPH04133433 U JP H04133433U JP 3982191 U JP3982191 U JP 3982191U JP 3982191 U JP3982191 U JP 3982191U JP H04133433 U JPH04133433 U JP H04133433U
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tank
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良二 福与
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関西日本電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 半導体ウェーハの洗浄装置の水洗槽１の外壁
中段部に純水供給部２，槽下部に排水管６を設ける。 【効果】 水洗槽外壁中段部より純水を供給し、洗浄後
の純水を上昇流と下降流とに振り分けてそれぞれ槽の上
部と下部より排水する。これにより純水の槽内での滞留
時間を短縮化することができ、そのことにより洗浄効率
を上げることが可能となる。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この考案は半導体ウェーハ洗浄装置に関し、特に純水洗浄槽の構造の改良に関 する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の半導体ウェーハ洗浄装置の純水ディップ式水洗槽は、図３およ び図４に示すように、水洗槽１の下部の給水管３から純水を半導体ウェーハ９に あて、ウェーハ９の表面に付着した粒子，水溶性イオン等の不純物を除去し、上 昇流によりこれら不純物と共に純水をオーバーフローにて排出する構造となって いた。なお、図において４は純水流量調整バルブ，５は純水流量計である。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、上記の従来の水洗槽１の構造は、洗浄液である純水の流れが上昇流 のみであるため、水洗槽１の内で均一に洗浄できない欠点があった。すなわち、 水洗槽１の下部においては新鮮な純粋で洗浄できるが、水洗槽１の上部では洗浄 済の粒子，イオン等の不純物を含む純水で洗浄するため水洗槽１の下部と比較し て洗浄力が低下する。このためウェーハ９全体を完全に洗浄するためには多量の 純水が必要であった。
【０００４】 また重量のある粒子は上昇流で排出されず、水洗槽１の内に滞留する欠点があ った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この考案の半導体ウェーハ洗浄装置における水洗槽には、水洗槽の中段部に純 水供給部および水洗槽下部に排水管が設けられている。また、必要に応じて純水 供給部と排水管にはそれぞれ流量を調整するための開度調整バルブと流量計を有 する。
【０００６】
【作用】
上記の構成によると、水洗槽の中段部の純水供給部から供給される純水を、槽 下部（排水管）および槽上部（オーバーフロー）に振り分けて排水することがで きる。排水の槽下部および槽上部への振り分けの調整は、必要に応じて設けられ た排水管の流量調整バルブによりおこない、振り分け量の確認は純水供給部およ び排水管の流量計の値によりおこなうのが望ましい。この場合、例えば純水供給 部および排水管の流量をそれぞれＱ１，Ｑ２とすれば、 排水振り分け比（槽上部排水／槽下部排水）＝（Ｑ１−Ｑ２）／Ｑ２ となるので、流量計と流量調整バルブとにより定量的な排水の振り分け比の確認 および調整が可能となる。
【０００７】
【実施例】
以下、この考案について図面を参照して説明する。図１はこの考案の一実施例 である半導体ウェーハ洗浄装置の水洗槽部分の斜視図、図２はそのフロー図であ り、水流の様子を示す。
【０００８】 各図において、純水は純水流量計５，純水流量調整バルブ４を経由して水洗槽 １の中段部に取り付けられた純水供給部２に送られる。純水供給部２では細かい 多数の穴から被洗浄物である半導体ウェーハ９に純水を均等にあてる。そして、 半導体ウェーハ９を洗浄した純水は上昇流と下降流に別れ、上昇流は水洗槽１の 上部からオーバーフローし、また下降硫は水洗槽１の下部の排水管６より排出さ れる。
【０００９】
【考案の効果】
以上説明したように、この考案は水洗槽における水洗を水洗槽の中段部から上 部および下部に振り分けることにより、純水の滞留時間の短縮化を図ることが可 能となり、洗浄効率の向上による洗浄時間の短縮化，純水使用量の節減，さらに はオーバーフローでは排出しにくい重い粒子の排出ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この考案の一実施例である半導体洗浄装置の
水洗槽部分の斜視図
【図２】 そのフロー図
【図３】 従来の半導体ウェーハ洗浄槽の斜視図
【図４】 そのフロー図
【符号の説明】
１ 水洗槽 ２ 純水供給部 ３ 給水管 ４ 純水流量調整バルブ ５ 純水流量計 ６ 排水管 ７ 排水流量調整バルブ ８ 排水流量計 ９ 半導体ウェーハ（被洗浄物）

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】純水ディップ式水洗槽を有する半導体ウェ
    ーハ洗浄装置において、水洗槽の中段部に純水給水部お
    よび水洗槽の下部に排水管を設けたことを特徴とする半
    導体ウェーハ洗浄装置。
  2. 【請求項２】請求項１の純水供給部および排出管の一方
    または両方に、流量調整バルブを設けたことを特徴とす
    る半導体ウェーハ洗浄装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008311591A (ja) * 2007-06-18 2008-12-25 Sharp Corp 基板処理装置および基板処理方法
CN103900647A (zh) * 2012-12-25 2014-07-02 株式会社东芝 使用电磁流量计的清洗品质管理装置及清洗品质管理方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04137729A (ja) * 1990-09-28 1992-05-12 Nippon Steel Corp ウエハ洗浄装置

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