JPH04132625A - 屈折率分布型光学素子の製造方法 - Google Patents
屈折率分布型光学素子の製造方法Info
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- JPH04132625A JPH04132625A JP25611290A JP25611290A JPH04132625A JP H04132625 A JPH04132625 A JP H04132625A JP 25611290 A JP25611290 A JP 25611290A JP 25611290 A JP25611290 A JP 25611290A JP H04132625 A JPH04132625 A JP H04132625A
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Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、屈折率分布型光学素子の製造方法に係り、特
に光学レンズなとの製造に適用されるゾル・ゲル法によ
る屈折率分布型光学素子の製造方法に関する。
に光学レンズなとの製造に適用されるゾル・ゲル法によ
る屈折率分布型光学素子の製造方法に関する。
一般に、径方向に屈折率分布を有する屈折率分布型光学
素子の製造方法として、ゾル・ケル法か用いられている
。
素子の製造方法として、ゾル・ケル法か用いられている
。
従来、上記ゾル・ゲル法により、屈折率分布を付与する
方法として、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ
、Ｖｏｌ。
方法として、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ
、Ｖｏｌ。
２２（１９８６）、 ｐｐ、 １１０８〜１１１０．
ｒ−ＧＲＩＮ ＴｉＯ□−３ｉ０２Ｇｌａｓｓ Ｒｏ
ｄｓ Ｐｒｅｐａｒｅｄ ｂｙ ａ ５ｏｌ−Ｇｅｌ
Ｍｅｔｈｏｄ”やＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｎｏｎ−Ｃｒ
ｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏ１ｉｄｓ、Ｖｏｌ、８５（＋
９８６）、ｐｐ、２４４〜２４６． ”Ｐｒｅｐａｒａ
ｔｉｏｎ ｏｆ Ｇｒａｄｉｅｎｔ−Ｉｎｄｅｘ Ｇｌ
ａｓｓ Ｒｏｄｓ ｂｙ ｔｈｅ ５ｏｌ−Ｇｅｌ Ｐ
ｒｏｃｅｓｓ”等に記載される方法か知られている。こ
の方法は、少なくとも一種の金属成分を含有するンリカ
ゾルを調整し、ゲル化させた後に、このウェットケルを
、酸などの上記金属成分を溶解・拡散しつる溶液に浸漬
し、屈折率分布を付与する金属成分を溶出後、乾燥・焼
成するという方法である。
ｒ−ＧＲＩＮ ＴｉＯ□−３ｉ０２Ｇｌａｓｓ Ｒｏ
ｄｓ Ｐｒｅｐａｒｅｄ ｂｙ ａ ５ｏｌ−Ｇｅｌ
Ｍｅｔｈｏｄ”やＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｎｏｎ−Ｃｒ
ｙｓｔａｌｌｉｎｅ ５ｏ１ｉｄｓ、Ｖｏｌ、８５（＋
９８６）、ｐｐ、２４４〜２４６． ”Ｐｒｅｐａｒａ
ｔｉｏｎ ｏｆ Ｇｒａｄｉｅｎｔ−Ｉｎｄｅｘ Ｇｌ
ａｓｓ Ｒｏｄｓ ｂｙ ｔｈｅ ５ｏｌ−Ｇｅｌ Ｐ
ｒｏｃｅｓｓ”等に記載される方法か知られている。こ
の方法は、少なくとも一種の金属成分を含有するンリカ
ゾルを調整し、ゲル化させた後に、このウェットケルを
、酸などの上記金属成分を溶解・拡散しつる溶液に浸漬
し、屈折率分布を付与する金属成分を溶出後、乾燥・焼
成するという方法である。
従来までの溶出法により、屈折率分布付与を行い、得ら
れたガラス体の径方向の屈折率分布を測定すると、第１
０図に示すように、ガラス体中心部で屈折率か高く、周
辺部で低い、屈折率差Δｎとなるものか得られる。この
屈折率差Δｎは、屈折率分布付与のための溶液へのウェ
ットゲルの浸漬時間または溶出液に用いている酸濃度を
変化させることで、例えば第１１図に示すように、制御
することができる。
れたガラス体の径方向の屈折率分布を測定すると、第１
０図に示すように、ガラス体中心部で屈折率か高く、周
辺部で低い、屈折率差Δｎとなるものか得られる。この
屈折率差Δｎは、屈折率分布付与のための溶液へのウェ
ットゲルの浸漬時間または溶出液に用いている酸濃度を
変化させることで、例えば第１１図に示すように、制御
することができる。
しかし、複数の金属成分により屈折率分布の付与を行お
うとするときには、それぞれの金属成分の拡散速度か異
なるために、任意の制御は行えなかった。つまり、金属
成分溶出工程である溶出液への浸漬時間を一方の金属成
分の拡散速度に合わせた場合、もう一方の金属成分の分
布は所望の分布とならず、それぞれの金属成分について
任意の分布を付与することはできなかった。従って、付
与される屈折率および分散の分布を自由に制御すること
がてきないという欠点を有していた。
うとするときには、それぞれの金属成分の拡散速度か異
なるために、任意の制御は行えなかった。つまり、金属
成分溶出工程である溶出液への浸漬時間を一方の金属成
分の拡散速度に合わせた場合、もう一方の金属成分の分
布は所望の分布とならず、それぞれの金属成分について
任意の分布を付与することはできなかった。従って、付
与される屈折率および分散の分布を自由に制御すること
がてきないという欠点を有していた。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、屈折率分布の制御油の自由度を増し、更に複数の金属
成分により屈折率分布を付与する場合に、それぞれの金
属成分に任意の分布を付与することができる屈折率分布
型光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
、屈折率分布の制御油の自由度を増し、更に複数の金属
成分により屈折率分布を付与する場合に、それぞれの金
属成分に任意の分布を付与することができる屈折率分布
型光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の屈折率分布型光学
素子の製造方法は、少なくとも１種類の屈１斤率分布を
付与するための金属成分を含んだゾルを調整する工程と
、前記ゾルをゲル化させた後、分布付与を行う金属成分
の溶出工程を少なくとも１回以上行い、前記溶出工程の
うち少なくとも１回は１種類以上の金属成分を含む溶出
液によりゲル中の金属成分を溶出する工程を有している
。なお、その後、洗浄・乾燥・焼結することにより、最
終的な屈折率分布型光学素子を製造することができる。
素子の製造方法は、少なくとも１種類の屈１斤率分布を
付与するための金属成分を含んだゾルを調整する工程と
、前記ゾルをゲル化させた後、分布付与を行う金属成分
の溶出工程を少なくとも１回以上行い、前記溶出工程の
うち少なくとも１回は１種類以上の金属成分を含む溶出
液によりゲル中の金属成分を溶出する工程を有している
。なお、その後、洗浄・乾燥・焼結することにより、最
終的な屈折率分布型光学素子を製造することができる。
複数の金属成分Ｍ１、Ｍ２により屈折率分布を付与する
ときに、ゲル中に含まれている金属成分を溶出する溶出
液に、少な（とも１種類の金属成分Ｍ、を含有させるこ
とにより、ゲル中の金属成分Ｍ１の溶出か制限される。
ときに、ゲル中に含まれている金属成分を溶出する溶出
液に、少な（とも１種類の金属成分Ｍ、を含有させるこ
とにより、ゲル中の金属成分Ｍ１の溶出か制限される。
このときに、溶出液中に含有させる金属成分Ｍ１の濃度
を変えることにより、ゲル中ての金属成分Ｍ１の濃度分
布を制御することかでき、所望の屈折率分布を付与する
ことができる。
を変えることにより、ゲル中ての金属成分Ｍ１の濃度分
布を制御することかでき、所望の屈折率分布を付与する
ことができる。
溶出液に浸漬する前のゲル中の金属成分の濃度分布は、
第２図に示すとおりである。このゲルを、ゲル中に含ま
れている金属成分Ｍ１の濃度Ｃと、溶出液中の金属成分
Ｍ１の濃度りとが、等しい（Ｃ＝Ｄ）溶液に浸漬したと
き、金属成分Ｍ、は溶出されないが金属成分Ｍ２は溶出
され、第１図に示すように金属成分Ｍ２により濃度分布
か付与され、屈折率分布か形成される。
第２図に示すとおりである。このゲルを、ゲル中に含ま
れている金属成分Ｍ１の濃度Ｃと、溶出液中の金属成分
Ｍ１の濃度りとが、等しい（Ｃ＝Ｄ）溶液に浸漬したと
き、金属成分Ｍ、は溶出されないが金属成分Ｍ２は溶出
され、第１図に示すように金属成分Ｍ２により濃度分布
か付与され、屈折率分布か形成される。
また、ゲル中に含まれている金属成分Ｍ１の濃度Ｃより
溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度が低い（ＣＯＤ）溶液に
浸漬したとき、金属成分Ｍ、の溶出は制限され、金属成
分Ｍ１は溶出液中の濃度以上は溶出されないか金属成分
Ｍ２は溶出され、第３図に示すように金属成分Ｍ１、Ｍ
２により濃度分布か付与され、屈折率分布か形成される
。ここで、溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度りを変えるこ
とにより、金属成分Ｍ１の濃度分布を第１図と第３図に
示した範囲で制御することかてきるので、所望の屈折率
分布を付与することかできる。
溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度が低い（ＣＯＤ）溶液に
浸漬したとき、金属成分Ｍ、の溶出は制限され、金属成
分Ｍ１は溶出液中の濃度以上は溶出されないか金属成分
Ｍ２は溶出され、第３図に示すように金属成分Ｍ１、Ｍ
２により濃度分布か付与され、屈折率分布か形成される
。ここで、溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度りを変えるこ
とにより、金属成分Ｍ１の濃度分布を第１図と第３図に
示した範囲で制御することかてきるので、所望の屈折率
分布を付与することかできる。
さらに、ゲル中に含まれている金属成分Ｍ１の濃度Ｃよ
り溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度りが高い（Ｃ＜Ｄ）溶
液に浸漬したとき、溶出液中の金属成分Ｍ１はゲル内に
入り、ケル中の金属成分Ｍ２は溶出され、第４図に示す
ように金属成分Ｍ１、Ｍ２により濃度分布が付与され、
屈折率分布か形成される。ここで、溶出液中の金属成分
Ｍ、の濃度りを変えることにより、金属成分Ｍｌの濃度
分布を第１図と第４図に示した範囲で制御することかで
きるので、所望の屈折率分布を付与することができる。
り溶出液中の金属成分Ｍ１の濃度りが高い（Ｃ＜Ｄ）溶
液に浸漬したとき、溶出液中の金属成分Ｍ１はゲル内に
入り、ケル中の金属成分Ｍ２は溶出され、第４図に示す
ように金属成分Ｍ１、Ｍ２により濃度分布が付与され、
屈折率分布か形成される。ここで、溶出液中の金属成分
Ｍ、の濃度りを変えることにより、金属成分Ｍｌの濃度
分布を第１図と第４図に示した範囲で制御することかで
きるので、所望の屈折率分布を付与することができる。
なお、これまでに述へてきた金属成分Ｍ３、Ｍ２は２種
類の金属成分に限ったものてはない。また、ゲル中に含
まれていない金属成分を溶出液に含有させたときは、屈
折率分布を付与すると同時に金属成分のゲル内への導入
か行え、工数の削減に有効であることは言うまでもない
。
類の金属成分に限ったものてはない。また、ゲル中に含
まれていない金属成分を溶出液に含有させたときは、屈
折率分布を付与すると同時に金属成分のゲル内への導入
か行え、工数の削減に有効であることは言うまでもない
。
（実施例１）
まず、１５モル？６のＴｉ（○ｎＣ４Ｈ９）４を含有す
るＳ ｉ （ＯＣＨ３）４ １モルに、４．５モルのエ
タノールおよび４モルの１／１００規定のＨＣβ水溶液
を加えて加水分解し、内径２０ｍｍのガラス容器内てケ
ル化させてウェットゲルを作成した。
るＳ ｉ （ＯＣＨ３）４ １モルに、４．５モルのエ
タノールおよび４モルの１／１００規定のＨＣβ水溶液
を加えて加水分解し、内径２０ｍｍのガラス容器内てケ
ル化させてウェットゲルを作成した。
このゲルの一部をＴｉの濃度かケル中てのＴ１の濃度よ
り低いＯ，ｌ ｍｏｌ ／ ＲのＴｉを含む３規定Ｈ（
ｌ水溶液５００ｍｊに２４時間浸漬した。この後、１０
０°Ｃて乾燥を行い、電気炉て１１００°Ｃになるまて
焼結して、ガラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラ
スロッドか得られた。
り低いＯ，ｌ ｍｏｌ ／ ＲのＴｉを含む３規定Ｈ（
ｌ水溶液５００ｍｊに２４時間浸漬した。この後、１０
０°Ｃて乾燥を行い、電気炉て１１００°Ｃになるまて
焼結して、ガラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラ
スロッドか得られた。
このガラスロッドを軸に直角に切断して径方向のＴｉの
濃度分布を測定したところ、第５図に示すように、はぼ
パラポリツクな濃度分布を有しており、さらにこのガラ
スロッドの屈折率分布を測定したところ、中心部の屈折
率か高くかつ周辺部の屈折率か低いパラポリツクな形状
を有していた。
濃度分布を測定したところ、第５図に示すように、はぼ
パラポリツクな濃度分布を有しており、さらにこのガラ
スロッドの屈折率分布を測定したところ、中心部の屈折
率か高くかつ周辺部の屈折率か低いパラポリツクな形状
を有していた。
また、同様の方法で、溶出液中にＴ１を含有させない場
合を第６図に示す。第５図と第６図とを比較すると、中
心部のＴ１の濃度はほぼ同しであるか周辺部での濃度か
異なっており、溶出液中のＴ１の濃度を変えることによ
り分布を所望の形状にすることかできることかわかる。
合を第６図に示す。第５図と第６図とを比較すると、中
心部のＴ１の濃度はほぼ同しであるか周辺部での濃度か
異なっており、溶出液中のＴ１の濃度を変えることによ
り分布を所望の形状にすることかできることかわかる。
（実施例２）
まず、１５モル９６のＺｒ （ＯｎＣ４ＨＩ）４と１５
モル９４５のＴｉ （ＯｎＣ４Ｈ９Ｌを含有する５１（
ＯＣ２Ｈ５）、１モルに、４．５モルのエタノールおよ
び４モルの１／＋００規定ＮＨ，ＯＨ水溶液を加えて加
水分解し、内径２０ｍｍのガラス容器内でゲル化させて
、ウェットゲルを作成した。
モル９４５のＴｉ （ＯｎＣ４Ｈ９Ｌを含有する５１（
ＯＣ２Ｈ５）、１モルに、４．５モルのエタノールおよ
び４モルの１／＋００規定ＮＨ，ＯＨ水溶液を加えて加
水分解し、内径２０ｍｍのガラス容器内でゲル化させて
、ウェットゲルを作成した。
このゲルの一部をＺｒの濃度がゲル中でのＺｒの濃度よ
り低い０． ］ ５ｍｏｌ ／ＥのＺｒを含む３規定Ｈ
２ＳＯ４水溶液に２０時間浸漬した。この後、１００°
Ｃて乾燥し、電気炉て１２００°Ｃになるまて焼結して
ガラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラスロットか
得られた。
り低い０． ］ ５ｍｏｌ ／ＥのＺｒを含む３規定Ｈ
２ＳＯ４水溶液に２０時間浸漬した。この後、１００°
Ｃて乾燥し、電気炉て１２００°Ｃになるまて焼結して
ガラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラスロットか
得られた。
このガラスロッドを軸に直角に切断して径方向のＺｒと
Ｔｉの濃度分布を測定したところ、第７図に示すように
、中心部か高くかつ周辺部が低いパラポリツクな形状を
有していた。
Ｔｉの濃度分布を測定したところ、第７図に示すように
、中心部か高くかつ周辺部が低いパラポリツクな形状を
有していた。
（実施例３）
まず、１５モル％のＺｒ（○ｎｃｔＨｓ）４と１５モル
９６のＴ ｉ （ＯｎＣ４Ｈ９）４を含有する５ｉ（
ＯＣ２Ｈ５）１１モルに、４．５モルのエタノールおよ
び４モルの１／１００規定ＮＨ，ＯＨ水溶液を加えて加
水分解腰内径２０ｍｍのプラス容器内でゲル化させて、
ウェットゲルを作成した。
９６のＴ ｉ （ＯｎＣ４Ｈ９）４を含有する５ｉ（
ＯＣ２Ｈ５）１１モルに、４．５モルのエタノールおよ
び４モルの１／１００規定ＮＨ，ＯＨ水溶液を加えて加
水分解腰内径２０ｍｍのプラス容器内でゲル化させて、
ウェットゲルを作成した。
このゲルの一部をＺｒの濃度かゲル中でのＺｒの濃度よ
り低い０．０５ｍｏｌ ／Ｉ！のＺｒを含む３規定Ｈ２
ＳＯ，水溶液に２０時間浸漬した。この後、１００°Ｃ
て乾燥し、電気炉て１２００°Ｃになるまて焼結してガ
ラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラスロッドか得
られた。
り低い０．０５ｍｏｌ ／Ｉ！のＺｒを含む３規定Ｈ２
ＳＯ，水溶液に２０時間浸漬した。この後、１００°Ｃ
て乾燥し、電気炉て１２００°Ｃになるまて焼結してガ
ラス化したところ、直径約１０ｍｍのガラスロッドか得
られた。
このガラスロッドを軸に直角に切断して径方向のＺｒと
Ｔｉの濃度分布を測定したところ、第８図に示すように
、中心部か高くかつ周辺部か低いパラポリツクな形状を
存していた。
Ｔｉの濃度分布を測定したところ、第８図に示すように
、中心部か高くかつ周辺部か低いパラポリツクな形状を
存していた。
このとき、実施例２と３に示したように、溶出液中のＺ
ｒの濃度を変えることにより、Ｚｒの濃度分布を制御可
能となるため、様々な屈折率分布が得られることは言う
までもない。
ｒの濃度を変えることにより、Ｚｒの濃度分布を制御可
能となるため、様々な屈折率分布が得られることは言う
までもない。
（実施例４）
まず、１５モル９４５のＮｂ（ＯＣ２Ｈ５）５と１５モ
ル９６のＢ（ＯＣ２Ｈ５）３を含有するＳ ｉ （ＯＣ
Ｈ３）。
ル９６のＢ（ＯＣ２Ｈ５）３を含有するＳ ｉ （ＯＣ
Ｈ３）。
１モルに、４．５モルのエタノールおよび４モルの１／
１００規定ＨＣ，ｉ２水溶液を加えて加水分解し、内径
２０ｍｍのガラス容器内でゲル化させて、ウェットケル
を作成した。
１００規定ＨＣ，ｉ２水溶液を加えて加水分解し、内径
２０ｍｍのガラス容器内でゲル化させて、ウェットケル
を作成した。
このゲルをＮｂの濃度かゲル中でのＮｂの濃度より高い
０．３ｍｏｌ／βのＮｂと０．２ ｍｏｌ／ ＩのＮａ
を含む３規定Ｈ（ｌ水溶液に１６時間浸漬した。
０．３ｍｏｌ／βのＮｂと０．２ ｍｏｌ／ ＩのＮａ
を含む３規定Ｈ（ｌ水溶液に１６時間浸漬した。
このケルを１００℃で乾燥を行い、電気炉て９５０°Ｃ
になるまて焼結して、ガラス化したところ、直径約１０
ｍｍのガラスロッドか得られた。
になるまて焼結して、ガラス化したところ、直径約１０
ｍｍのガラスロッドか得られた。
このガラスロットを軸に直角に切断して径方向のＮｂと
Ｂの濃度分布を測定したところ、第９図に示すようなそ
れぞれ下向きに凸と上向きに凸のほぼパラポリツクな濃
度分布を有しており、さらここのガラスロットの屈折率
分布を測定したところ、中心部か低くかつ周辺部か高い
パラポリツクな形状を有していた。また、溶出液にＮａ
を含有させることにより、ゲル浸漬中にＮａを導入する
ことかできた。
Ｂの濃度分布を測定したところ、第９図に示すようなそ
れぞれ下向きに凸と上向きに凸のほぼパラポリツクな濃
度分布を有しており、さらここのガラスロットの屈折率
分布を測定したところ、中心部か低くかつ周辺部か高い
パラポリツクな形状を有していた。また、溶出液にＮａ
を含有させることにより、ゲル浸漬中にＮａを導入する
ことかできた。
なお、上記実施例以外の金属成分の組合せおよび溶出液
中の金属成分の濃度を変化させて使用すれば、その特性
の範囲か広がることは言うまでもない。
中の金属成分の濃度を変化させて使用すれば、その特性
の範囲か広がることは言うまでもない。
以上のように、本発明の方法を用いて、屈折率分布型光
学素子を製造することにより、屈折率分布を付与する金
属成分のそれぞれについて任意の分布を付与することか
できる。そのため、様々な特性を有する屈折率分布型光
学素子を製造することができる。
学素子を製造することにより、屈折率分布を付与する金
属成分のそれぞれについて任意の分布を付与することか
できる。そのため、様々な特性を有する屈折率分布型光
学素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図はケル中の金属成分Ｍ、の濃度Ｃと溶出液中の金
属成分Ｍ、の濃度りとかＣ＝Ｄのときの溶液に浸漬した
場合の金属成分の濃度分布を示すグラフ、第２図は溶出
液に浸漬する前のゲル中の金属成分の濃度分布を示すグ
ラフ、第３図および第４図はそれぞれ濃度Ｃ＞Ｄおよび
Ｃ＜Ｄのときの溶液に浸漬した場合の金属成分の濃度分
布を示すグラフ、第５図は本発明の実施例１て得たガラ
スロッドのＴｉの濃度分布と屈折率分布を示すグラフ、
第６図は実施例１て溶出液中にＴｉを含有させない場合
のＴｉの濃度分布と屈折率分布を示すグラフ、第７図お
よび第８図はそれぞれ本発明の実施例２および実施例３
によるＺｒとＴｉの濃度分布を示すグラフ、第９図は本
発明の実施例４によるＮｂとＢの濃度分布を示すグラフ
、第１Ｏ図は従来法による屈折率分布を示すグラフ、第
１１図は溶出液への浸漬時間を変化させたときの屈折率
分布を示すグラフである。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社／＄呵梵勺Ｃ
恒歴 ぐ嘆鴬勺Ｃ愕趣 第 図 半 経 車 径 第 図 車 イ宅
属成分Ｍ、の濃度りとかＣ＝Ｄのときの溶液に浸漬した
場合の金属成分の濃度分布を示すグラフ、第２図は溶出
液に浸漬する前のゲル中の金属成分の濃度分布を示すグ
ラフ、第３図および第４図はそれぞれ濃度Ｃ＞Ｄおよび
Ｃ＜Ｄのときの溶液に浸漬した場合の金属成分の濃度分
布を示すグラフ、第５図は本発明の実施例１て得たガラ
スロッドのＴｉの濃度分布と屈折率分布を示すグラフ、
第６図は実施例１て溶出液中にＴｉを含有させない場合
のＴｉの濃度分布と屈折率分布を示すグラフ、第７図お
よび第８図はそれぞれ本発明の実施例２および実施例３
によるＺｒとＴｉの濃度分布を示すグラフ、第９図は本
発明の実施例４によるＮｂとＢの濃度分布を示すグラフ
、第１Ｏ図は従来法による屈折率分布を示すグラフ、第
１１図は溶出液への浸漬時間を変化させたときの屈折率
分布を示すグラフである。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社／＄呵梵勺Ｃ
恒歴 ぐ嘆鴬勺Ｃ愕趣 第 図 半 経 車 径 第 図 車 イ宅
Claims (1)
- （１）屈折率分布を付与する金属成分を含むゾルを調製
し、前記ゾルをゲル化させた後、前記金属成分を溶出す
る溶液に前記ゲルを浸漬する工程において、少なくとも
一回は一種類以上の金属成分を含んだ溶出液に浸漬する
ことを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25611290A JP3153814B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
| US08/004,631 US5254148A (en) | 1990-06-20 | 1993-01-14 | Method of manufacturing distributed index optical elements |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25611290A JP3153814B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04132625A true JPH04132625A (ja) | 1992-05-06 |
| JP3153814B2 JP3153814B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=17288063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25611290A Expired - Fee Related JP3153814B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-09-26 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3153814B2 (ja) |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP25611290A patent/JP3153814B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3153814B2 (ja) | 2001-04-09 |
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