JPS5919891B2 - 光学繊維の製造方法 - Google Patents
光学繊維の製造方法Info
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- JPS5919891B2 JPS5919891B2 JP12332376A JP12332376A JPS5919891B2 JP S5919891 B2 JPS5919891 B2 JP S5919891B2 JP 12332376 A JP12332376 A JP 12332376A JP 12332376 A JP12332376 A JP 12332376A JP S5919891 B2 JPS5919891 B2 JP S5919891B2
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- optical fiber
- powder
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- molded
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/0128—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass
- C03B37/01282—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass by pressing or sintering, e.g. hot-pressing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコア用ロッドをつくる手段に特徴をもたせた光
学繊維の製造方法に関する。
学繊維の製造方法に関する。
光通信のための伝送路を形成する光学繊維は、その代表
的基本構造として、第１図イ、口に示すような断面内屈
折率分布を呈しており、同図イの５１型と略称するステ
ップインデックス型光学繊維は、コア部とクラッド部の
屈折率が階段状に変化し、また、同図口のＧＩ型と略称
するグレイデッドインデックス型光学繊維はコア部とク
ラッド部の屈折率が双曲線状の分布状態となつている。
的基本構造として、第１図イ、口に示すような断面内屈
折率分布を呈しており、同図イの５１型と略称するステ
ップインデックス型光学繊維は、コア部とクラッド部の
屈折率が階段状に変化し、また、同図口のＧＩ型と略称
するグレイデッドインデックス型光学繊維はコア部とク
ラッド部の屈折率が双曲線状の分布状態となつている。
これらの光学繊維は、高純度の５１０２を母材としてＧ
ｅｏ２、ｐ２ｏ５、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２等のドーパント
濃度分布を制御することによつて所要の屈折率を付与す
るのが一般である。従来では、上記のような所要屈折率
分布の光学繊維を製造するのに、二重ルツボ法、ロッド
・イン・チューブ法、熱拡散により修飾イオンの相互置
換効果を利用したイオン置換法、火炎加水分解または熱
分解反応を利用した気相反応法等により実施していたが
、二重ルツボ法による場合、低軟化点の多成分ガラスで
構成される光学繊維の製造には適するものの、ＳｉＯ２
を主成分とする低損失の光学繊維製造においてはルツボ
を構成する適当な高温耐熱材料が得難いため、当該方法
による実施が困難であると共にＧＩ型光学繊維の製造も
困難となつていた。
ｅｏ２、ｐ２ｏ５、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２等のドーパント
濃度分布を制御することによつて所要の屈折率を付与す
るのが一般である。従来では、上記のような所要屈折率
分布の光学繊維を製造するのに、二重ルツボ法、ロッド
・イン・チューブ法、熱拡散により修飾イオンの相互置
換効果を利用したイオン置換法、火炎加水分解または熱
分解反応を利用した気相反応法等により実施していたが
、二重ルツボ法による場合、低軟化点の多成分ガラスで
構成される光学繊維の製造には適するものの、ＳｉＯ２
を主成分とする低損失の光学繊維製造においてはルツボ
を構成する適当な高温耐熱材料が得難いため、当該方法
による実施が困難であると共にＧＩ型光学繊維の製造も
困難となつていた。
また、ロッド・イン・チューブ法では、ルツボにより溶
融された多成分ガラスを用いる同法の不完全さから、い
かにして高品質のコア用ロッドを得るかといつた本質的
な問題が解消されておらず、さらにＧＩ型光学繊維の製
造に適しているとされるイオン置換法の場合は、熱拡散
によつて所要修飾イオン濃度分布を実現するのに長時間
の熱処理を要して量産性に欠ける難点があつた。
融された多成分ガラスを用いる同法の不完全さから、い
かにして高品質のコア用ロッドを得るかといつた本質的
な問題が解消されておらず、さらにＧＩ型光学繊維の製
造に適しているとされるイオン置換法の場合は、熱拡散
によつて所要修飾イオン濃度分布を実現するのに長時間
の熱処理を要して量産性に欠ける難点があつた。
さらに、ＧＩ型、ＳＩ型、双方の光学繊維製造が可能で
ある気相反応法中の熱分解反応を利用した製造法では、
高品質の反応性成物が得られてもその沈着速度が遅いと
いう欠点があり、また、同法中の火炎加水分解反応を用
いた製造法では、反応性成物の沈着と事後の透明ガラス
化処理とが二工程に分かれてしまい、しかも残存０Ｈ基
を完全に除去するのに困難性がある他、この気相反応法
による場合は、上記何れの方法を採用したとしても、プ
リフオームロツドを一本ずつ製造することによる非能率
性のため、量産には適さなかつた。
ある気相反応法中の熱分解反応を利用した製造法では、
高品質の反応性成物が得られてもその沈着速度が遅いと
いう欠点があり、また、同法中の火炎加水分解反応を用
いた製造法では、反応性成物の沈着と事後の透明ガラス
化処理とが二工程に分かれてしまい、しかも残存０Ｈ基
を完全に除去するのに困難性がある他、この気相反応法
による場合は、上記何れの方法を採用したとしても、プ
リフオームロツドを一本ずつ製造することによる非能率
性のため、量産には適さなかつた。
本発明は上記の諸問題点に鑑み、ＳＩ型、ＧＩ型、双方
の光学繊維が製造できる方法を提供し、同法の工程制御
性、実施化の簡硬性、量産性等を向上せんとするもので
ある。本発明はコア用ロツドを得る手段と、該コア用ロ
ツドの外周にクラツド用外層を形成してプリフオームロ
ツドを得る手段と、該プリフオームロツドを紡糸して光
学繊維を得る手段とよりなる光学繊維の製造方法におい
て、上記コア用ロツドを得るとき、気相反応により生成
された光学物質の粉末をプラスチツク容器内に充填かつ
密封して該光学物質粉末を充填ロツドとなし、つぎにプ
ラスチツク容器全体に外部から液圧をかけることにより
その内部の充填ロツドを加圧成形して成形ロツドとなし
、その後、プラスチツク容器から取り出さ Ｊれた成形
ロツドを加熱して焼結すると共にさらに透明ガラス化し
てコア用ロツドを得ることを特徴とする。
の光学繊維が製造できる方法を提供し、同法の工程制御
性、実施化の簡硬性、量産性等を向上せんとするもので
ある。本発明はコア用ロツドを得る手段と、該コア用ロ
ツドの外周にクラツド用外層を形成してプリフオームロ
ツドを得る手段と、該プリフオームロツドを紡糸して光
学繊維を得る手段とよりなる光学繊維の製造方法におい
て、上記コア用ロツドを得るとき、気相反応により生成
された光学物質の粉末をプラスチツク容器内に充填かつ
密封して該光学物質粉末を充填ロツドとなし、つぎにプ
ラスチツク容器全体に外部から液圧をかけることにより
その内部の充填ロツドを加圧成形して成形ロツドとなし
、その後、プラスチツク容器から取り出さ Ｊれた成形
ロツドを加熱して焼結すると共にさらに透明ガラス化し
てコア用ロツドを得ることを特徴とする。
以下、本発明の製造方法を図面、実施例などに基づき具
体的に説明する。
体的に説明する。
第２図は屈折率分布の平担なＳＩ型光学繊維の製造につ
き、その工程を示したものである。
き、その工程を示したものである。
同図に示す製造方法では、はじめ充填ロツド１ａを形成
する。この充填ロツド１ａの詳細は第３図に示す通り
４であつて、蓋体２，２′を有する可撓性プラスチツク
製の筒型容器３内にＳｉＯ２など、気相反応により生成
された光学物質の粉末４を充填すると共に閉蓋状態の該
容器両端部にシール５，５′を施し、同容器３内におい
て当該充填ロツド１ａを形成する。
する。この充填ロツド１ａの詳細は第３図に示す通り
４であつて、蓋体２，２′を有する可撓性プラスチツク
製の筒型容器３内にＳｉＯ２など、気相反応により生成
された光学物質の粉末４を充填すると共に閉蓋状態の該
容器両端部にシール５，５′を施し、同容器３内におい
て当該充填ロツド１ａを形成する。
つぎに、このようにして形成した充填ロツド１ａを加圧
処理するが、この加圧に際しては、第４図の如き静水を
注入したセル６内に前記容器３を入れ、該セル６内に密
接するラム７により圧力媒体としての静水を加圧し、こ
れにより粉末４からなる充填ロツド１ａを容器３内に卦
いて円柱状に固結成形するのである。
処理するが、この加圧に際しては、第４図の如き静水を
注入したセル６内に前記容器３を入れ、該セル６内に密
接するラム７により圧力媒体としての静水を加圧し、こ
れにより粉末４からなる充填ロツド１ａを容器３内に卦
いて円柱状に固結成形するのである。
この加圧により、円柱状の成形ロツド１ｂが得られるが
、この際の加圧成形性は粉末４の粒度と圧力制御によつ
て定まる。
、この際の加圧成形性は粉末４の粒度と圧力制御によつ
て定まる。
例えば、こ＼で用いるＳｉＯ２粉末の場合、その粒度を
４００メツシユにすると、３０００〜４０００１＜９／
／Ｃｌｌの加圧によつて外径２０ｍ』長さ１５０ｍ７！
程度の成形ロツドが得られる。
４００メツシユにすると、３０００〜４０００１＜９／
／Ｃｌｌの加圧によつて外径２０ｍ』長さ１５０ｍ７！
程度の成形ロツドが得られる。
このとき、バルクＳｉＯ２の密度（２．２０９／ｄ）に
対し、成形ロツドは０．６〜０．７の相対密度にまで達
する。さらに該ロツドの屈折率に関し、ドーパントとし
てＧｅＯ２を用いた例では、ＳｌＣｌ４とＧｅＣ２４の
濃度比を制御した気相反応によつて生成できるＳｉＯ２
・ＧｅＯ２系粉末を液圧成形することにより、所要屈折
率の成形ロツドを得るのが望ましく、また、この他の手
段としては、別個に生成されたＳｉＯ２およびＧｅＯ２
粉末を所要比率で均一混合し、これによつても所要屈折
率の成形ロツドが得られるｏ上述した成形手段の場合、
ブラスチツク製容器全体にかかる均一な液圧によりその
内部の充填ロツド１ａが均一に圧縮成形されることとな
り、したがつてこれにより得られる成形ロツド１ｂは全
体にわたり粗密のない均質な成形物となり、事後の焼結
、透明ガラス化も良好に行なえる。
対し、成形ロツドは０．６〜０．７の相対密度にまで達
する。さらに該ロツドの屈折率に関し、ドーパントとし
てＧｅＯ２を用いた例では、ＳｌＣｌ４とＧｅＣ２４の
濃度比を制御した気相反応によつて生成できるＳｉＯ２
・ＧｅＯ２系粉末を液圧成形することにより、所要屈折
率の成形ロツドを得るのが望ましく、また、この他の手
段としては、別個に生成されたＳｉＯ２およびＧｅＯ２
粉末を所要比率で均一混合し、これによつても所要屈折
率の成形ロツドが得られるｏ上述した成形手段の場合、
ブラスチツク製容器全体にかかる均一な液圧によりその
内部の充填ロツド１ａが均一に圧縮成形されることとな
り、したがつてこれにより得られる成形ロツド１ｂは全
体にわたり粗密のない均質な成形物となり、事後の焼結
、透明ガラス化も良好に行なえる。
つぎに、プラスチツク容器３から取り出された上記の成
形ロツド１ｂは約１１００℃の電気炉中一で２〜５時間
焼結処理され、焼結ロツド１ｃとなる〇こ＼でのロツド
は、その焼結処理によつて強化され、事後の取扱いに｝
いて損傷を生じない充分な強度を付与されると共に４０
０メツシユＳｉＯ２粉末から形成した当該焼結ロツド１
ｃであれば、前述した相対密度も０．９〜０．９５程度
にまで高められる〇また、ドーパントとして例えばＧｅ
Ｏ２を含むＳｉＯ２−ＧｅＯ２系ロツドの場合、ＧｅＯ
２濃度を増すに従い、より低い温度での焼結処理が可能
となり、また出発材料としての粉末粒度がより微細であ
る場合も同様に焼結条件が緩和される。
形ロツド１ｂは約１１００℃の電気炉中一で２〜５時間
焼結処理され、焼結ロツド１ｃとなる〇こ＼でのロツド
は、その焼結処理によつて強化され、事後の取扱いに｝
いて損傷を生じない充分な強度を付与されると共に４０
０メツシユＳｉＯ２粉末から形成した当該焼結ロツド１
ｃであれば、前述した相対密度も０．９〜０．９５程度
にまで高められる〇また、ドーパントとして例えばＧｅ
Ｏ２を含むＳｉＯ２−ＧｅＯ２系ロツドの場合、ＧｅＯ
２濃度を増すに従い、より低い温度での焼結処理が可能
となり、また出発材料としての粉末粒度がより微細であ
る場合も同様に焼結条件が緩和される。
このようにして得た焼結ロツド１ｃは、つぎの工程で透
明ガラス化加熱処理が施される。
明ガラス化加熱処理が施される。
第５図は当該処理装置の１例を示しており、該装置とし
ての加熱炉８は、上方にガス入口９下方にガス出口１０
を有すると共にその胴部外周には ｌ加熱用の誘導コイ
ル１１が巻設してあり、さらにＮ２｝よびアルゴンガス
等の不活性ガスを注入する該加熱炉８内には黒鉛製筒１
２が内装してある。
ての加熱炉８は、上方にガス入口９下方にガス出口１０
を有すると共にその胴部外周には ｌ加熱用の誘導コイ
ル１１が巻設してあり、さらにＮ２｝よびアルゴンガス
等の不活性ガスを注入する該加熱炉８内には黒鉛製筒１
２が内装してある。
そしてこの装置により・暁結ロッド１ｃを透明ガラス化
処理を施す場合は、炉内部が不活性ガス置換？れ、外部
より誘導加熱される加熱炉８内に卦いて、充分高温に達
した黒鉛製筒１２内に焼結ロツド１ｃを緩徐に挿入し、
該挿入速度に対応しながら残存ガスを脱気して該焼結ロ
ツド１ｃを透明ガラス化ロツド１ｄにする。このとき、
焼結ロツド１ｃがＳｉＯ２ｌＯＯ％からなる場合、炉心
温度を１７００〜２００００Ｃ、挿入速度を１〜２ｍｍ
／／Ｔｆｔ！７とする処理操作により、気泡のない透明
ガラスロツド１ｄを得る。
処理を施す場合は、炉内部が不活性ガス置換？れ、外部
より誘導加熱される加熱炉８内に卦いて、充分高温に達
した黒鉛製筒１２内に焼結ロツド１ｃを緩徐に挿入し、
該挿入速度に対応しながら残存ガスを脱気して該焼結ロ
ツド１ｃを透明ガラス化ロツド１ｄにする。このとき、
焼結ロツド１ｃがＳｉＯ２ｌＯＯ％からなる場合、炉心
温度を１７００〜２００００Ｃ、挿入速度を１〜２ｍｍ
／／Ｔｆｔ！７とする処理操作により、気泡のない透明
ガラスロツド１ｄを得る。
上記により得られる透明ガラスロツド１ｄを光 ｊ学繊
維のコアを形成するロツド、つまりコア用ロツドとする
のであつて、以下該ロツド１ｄをコア用ロツドと称す。
維のコアを形成するロツド、つまりコア用ロツドとする
のであつて、以下該ロツド１ｄをコア用ロツドと称す。
より具体的な実施例として、ＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４の
気相反応によつて生成されたＳｉＯ２−ＧｅＯ２系の粉
末をシリコーンゴムチユーブ（プラスチツク製容器）内
に充填し、シールを施した後、これを第４図のごとくセ
ル内に収容すると共に液体加圧により３０００１＜９／
ＤｌｌＯ分間加圧した。
気相反応によつて生成されたＳｉＯ２−ＧｅＯ２系の粉
末をシリコーンゴムチユーブ（プラスチツク製容器）内
に充填し、シールを施した後、これを第４図のごとくセ
ル内に収容すると共に液体加圧により３０００１＜９／
ＤｌｌＯ分間加圧した。
その後、シリコーンゴムチユーブをセル内から取り出し
、？らに当該チユーブを解体して外径２０ｍ７１Ｌ１長
さ１５０ｍｍの成形ロツド１ｂを得た。つぎに上記成形
ロツド１ｂを電気炉中で１１０００Ｃ２時間焼結し、焼
結ロツド１ｃ．！−レこれによジ半透明の焼結ロツド１
ｃが得られたが、これを第５図のようにして透明ガラス
化し、ＧｅＯ２−ＳｉＯ２ガラスからなるコア用ロツド
１ｄとした。
、？らに当該チユーブを解体して外径２０ｍ７１Ｌ１長
さ１５０ｍｍの成形ロツド１ｂを得た。つぎに上記成形
ロツド１ｂを電気炉中で１１０００Ｃ２時間焼結し、焼
結ロツド１ｃ．！−レこれによジ半透明の焼結ロツド１
ｃが得られたが、これを第５図のようにして透明ガラス
化し、ＧｅＯ２−ＳｉＯ２ガラスからなるコア用ロツド
１ｄとした。
な卦、透明ガラス化の条件は炉心温度１７００℃とし、
ロツド挿入速度２ｍｕ．／／Ｉｎｉｌｌとした。
ロツド挿入速度２ｍｕ．／／Ｉｎｉｌｌとした。
このコア用ロツド１ｄは、光学繊維としての厳密な断面
形状を得るために、研削研磨等の整形処理を施す。以上
のようにして形成されたコア用ロッド１ｄを用いて光学
繊維を製造するに際しては、その外周に形成するクラツ
ド層の形成手段に依存し、種種の工程を経るようになる
が、これの１例として火炎加水分解反応を用いて該クラ
ツド層を形成する場合はつぎのようになる。
形状を得るために、研削研磨等の整形処理を施す。以上
のようにして形成されたコア用ロッド１ｄを用いて光学
繊維を製造するに際しては、その外周に形成するクラツ
ド層の形成手段に依存し、種種の工程を経るようになる
が、これの１例として火炎加水分解反応を用いて該クラ
ツド層を形成する場合はつぎのようになる。
第６図のよう（ごコア用ロツド１ｄを回転状態にＬ１酸
水素炎卦よび原料ガスを含むキヤリアガス、つまりこれ
らの混合体を、噴射ノズル１３を介して前記回転状態の
ロツド外周に噴射し、これによりコア用ロツド１ｄの外
周にクラツド層となる光学物質粉末の付着層を形成し、
末処理クラツド付ロツド１ｅとするのである。
水素炎卦よび原料ガスを含むキヤリアガス、つまりこれ
らの混合体を、噴射ノズル１３を介して前記回転状態の
ロツド外周に噴射し、これによりコア用ロツド１ｄの外
周にクラツド層となる光学物質粉末の付着層を形成し、
末処理クラツド付ロツド１ｅとするのである。
さらに該ロツド１ｅを第５図で示したと同様の熱処理装
置に緩徐に内挿して同ロツド１ｅの未処理クラツド層を
透明ガラス化？せ、プリフオームロツド１ｆを得る。
置に緩徐に内挿して同ロツド１ｅの未処理クラツド層を
透明ガラス化？せ、プリフオームロツド１ｆを得る。
このようにして得たプリフオームロツド１ｅを紡糸する
ことにより、ＧｅＯ２−ＳｉＯ２ガラスをコアとし、Ｓ
ｉＯ２ガラスをクラツドとするＳＩ型の光学繊維を得た
。
ことにより、ＧｅＯ２−ＳｉＯ２ガラスをコアとし、Ｓ
ｉＯ２ガラスをクラツドとするＳＩ型の光学繊維を得た
。
な卦、上記に｝いてクラツド層を形成するのに火炎加水
分解反応を用いた例を示したが、この他の方法として、
例えば、静水加圧により、コア用ロツドの外周にクラツ
ド層を形成する方法、さらにはクラツド層形成用として
別個に透明ガラスパイプを形成し、該パイプ内にコア用
ロツドを内装するロツド・イン・チユーブ法等が採用で
きる。
分解反応を用いた例を示したが、この他の方法として、
例えば、静水加圧により、コア用ロツドの外周にクラツ
ド層を形成する方法、さらにはクラツド層形成用として
別個に透明ガラスパイプを形成し、該パイプ内にコア用
ロツドを内装するロツド・イン・チユーブ法等が採用で
きる。
つぎに屈折率分布が双曲線状となるＧＩ型光学繊維の製
造方法を第７図の各工程により説明する。はじめ複層中
空ロツド１′ａを形成する。この複層中空ロツドＶａは
第８図に示す通りであつて、所定の屈折率を現出させる
よう成分調整された光学物質粉末（気相反応により生成
）を液圧成形法により薄層の内筒状に形成し、この成形
と事後の焼結、整形とを繰り返すことにより、該複層中
空ロツドＶａを得る〇つまり、液圧成形法により、黒鉛
製円柱１４の外周に円筒状となる光学的物質粉末の第１
層Ｘ１を形成し、該層Ｘ１を焼結処理した後、これを研
削等による整形加工により均一層厚に整形し以下これを
繰り返して第２層Ｘ２から第２０層Ｘ２Ｏまでを積層形
成するのであり、この際、各層の屈折率が所定値になる
ようその光学物質粉末は成分調整される。
造方法を第７図の各工程により説明する。はじめ複層中
空ロツド１′ａを形成する。この複層中空ロツドＶａは
第８図に示す通りであつて、所定の屈折率を現出させる
よう成分調整された光学物質粉末（気相反応により生成
）を液圧成形法により薄層の内筒状に形成し、この成形
と事後の焼結、整形とを繰り返すことにより、該複層中
空ロツドＶａを得る〇つまり、液圧成形法により、黒鉛
製円柱１４の外周に円筒状となる光学的物質粉末の第１
層Ｘ１を形成し、該層Ｘ１を焼結処理した後、これを研
削等による整形加工により均一層厚に整形し以下これを
繰り返して第２層Ｘ２から第２０層Ｘ２Ｏまでを積層形
成するのであり、この際、各層の屈折率が所定値になる
ようその光学物質粉末は成分調整される。
この成分調整は、ＧｅＯ２をドーバントとした場合を例
にとると、コアの中心部を形成する第１層Ｘ，のＧｅＯ
，含有率が１０％、クラツド側に位置する第２０層Ｘ２
Ｏ（７）ＧｅＯ２含有率が０％になるよう、その間のＧ
ｅＯ２濃度を段階的に変化づせる。
にとると、コアの中心部を形成する第１層Ｘ，のＧｅＯ
，含有率が１０％、クラツド側に位置する第２０層Ｘ２
Ｏ（７）ＧｅＯ２含有率が０％になるよう、その間のＧ
ｅＯ２濃度を段階的に変化づせる。
このようにして得た複層中空ロツド「ａには透明ガラス
化処理が施されると共に同処理後、酸素雰囲気中での加
熱により黒鉛製円柱１４が除去されて該ロツド「ａは真
の中空状となり、そして該ロッド１′ａが加圧されて中
空部が閉塞されることによりコア用ロツド１′ａが得ら
れる。以下は実施例１と同様にしてプリ・フオームロツ
ドＶｆが形成され、このプリフオームロツド「ｆを紡糸
することによりＧＩ型の光学繊維１′ｇを得る。
化処理が施されると共に同処理後、酸素雰囲気中での加
熱により黒鉛製円柱１４が除去されて該ロツド「ａは真
の中空状となり、そして該ロッド１′ａが加圧されて中
空部が閉塞されることによりコア用ロツド１′ａが得ら
れる。以下は実施例１と同様にしてプリ・フオームロツ
ドＶｆが形成され、このプリフオームロツド「ｆを紡糸
することによりＧＩ型の光学繊維１′ｇを得る。
以上説明した通り、本発明方法によるときはＧＩ型、Ｓ
Ｉ型いずれの光学繊維製造にも適用できるだけでなく、
従来の各法と比べてもつぎのような優れた効果が得なれ
る。
Ｉ型いずれの光学繊維製造にも適用できるだけでなく、
従来の各法と比べてもつぎのような優れた効果が得なれ
る。
１）多成分ガラスを用いる二重ルツボ法、ロツド・イン
・チユーブ法などでは、多成分ガラスを用いているが故
、伝送特性の高い光学繊維が得られないが、本発明方法
では気相反応により生成された光学物質の粉末をコア用
ロツドの素材とするのでＶＡＤ法、各種ＣＶＤ法と同等
の伝送特性をもつ光学繊維が得られる。
・チユーブ法などでは、多成分ガラスを用いているが故
、伝送特性の高い光学繊維が得られないが、本発明方法
では気相反応により生成された光学物質の粉末をコア用
ロツドの素材とするのでＶＡＤ法、各種ＣＶＤ法と同等
の伝送特性をもつ光学繊維が得られる。
１１）従来のＶＡＤ法（気相軸付法）、０ＶＤ法（外付
ＣＶＤ法）では気相反応法を用いるものの、これにより
生成された粉末に熱接着性をもたせて粉末堆積を行なう
ので、高温でのガラス合成が要求され、その結果、ドー
パントが揮散しやすいとか、気相原料の濃度、供給速度
を高めても堆積しない粉末が多く生じてガラス収率が悪
くなるとか、かりに堆積？れたとしても堆積物の熱膨脹
歪みによりこれが破損してしまうといつた問題があり、
したがつて堆積物の成長は遅速化せざるを得ず、一方、
ＭＣＶＤ法（内付ＣＶＤ法）では粉末の堆積と同時に透
明ガラス化を行なうので過剰に粉末が生成されたりする
と、透明ガラス化されないものが生じ、したがつてＭＣ
ＶＤ法ではＡＤ法や０ＶＤ法よりもさらに気相原料濃度
を低下せざるを得ず、そのためガラスの堆積成長速度が
遅くなり、量産には適さないが、本発明方法では、堆積
あるいは堆積と透明ガラス化など、これらを行なうこと
なく気相反応により粉末を生成すればよいから、低温下
において、しかも気相原料の供給量を多くして粉末を収
率高く量産することができ、これにより量産のメドが立
ち、もちろんドーバントの揮散も起らず、事後の工程と
併せることにより所定の特定をもつ光学繊維が得られる
。
ＣＶＤ法）では気相反応法を用いるものの、これにより
生成された粉末に熱接着性をもたせて粉末堆積を行なう
ので、高温でのガラス合成が要求され、その結果、ドー
パントが揮散しやすいとか、気相原料の濃度、供給速度
を高めても堆積しない粉末が多く生じてガラス収率が悪
くなるとか、かりに堆積？れたとしても堆積物の熱膨脹
歪みによりこれが破損してしまうといつた問題があり、
したがつて堆積物の成長は遅速化せざるを得ず、一方、
ＭＣＶＤ法（内付ＣＶＤ法）では粉末の堆積と同時に透
明ガラス化を行なうので過剰に粉末が生成されたりする
と、透明ガラス化されないものが生じ、したがつてＭＣ
ＶＤ法ではＡＤ法や０ＶＤ法よりもさらに気相原料濃度
を低下せざるを得ず、そのためガラスの堆積成長速度が
遅くなり、量産には適さないが、本発明方法では、堆積
あるいは堆積と透明ガラス化など、これらを行なうこと
なく気相反応により粉末を生成すればよいから、低温下
において、しかも気相原料の供給量を多くして粉末を収
率高く量産することができ、これにより量産のメドが立
ち、もちろんドーバントの揮散も起らず、事後の工程と
併せることにより所定の特定をもつ光学繊維が得られる
。
１１１）本発明方法では気相反応により生成された粉末
を加圧成形するとき、その粉末をプラスチツク製の容器
内に入れて液圧成形するから、均一に圧縮成形された成
形ロッドが得られ、したがつてその後の焼結や透明ガラ
ス化においても気泡を発生することのない良品質のもの
が得られる０
を加圧成形するとき、その粉末をプラスチツク製の容器
内に入れて液圧成形するから、均一に圧縮成形された成
形ロッドが得られ、したがつてその後の焼結や透明ガラ
ス化においても気泡を発生することのない良品質のもの
が得られる０
第１図のイ、口はＳＩ型、ＧＩ型光学繊維における断面
内屈折率分布を示す説明図、第２図は本発明の第１実施
例における各工程説明図（プロツクダイヤグラム）、第
３図は同実施例に｝ける充填ロツド形成を示す断面図、
第４図は同実施例に訃ける成形ロツドの加工状態を示す
断面説明図、第５図は同実施例におけるコア用ロツドの
加工状態を示す略断面図、第６図は同実施例に卦ける未
処理クラツドの加工状態を示す略示説明図、第７図は本
発明の第２実施例を示す各工程説明図（プロツクダイヤ
グラム）、第８図は同実施例における複層中空ロツドの
加工状態を示す略示断面説明図である〇１ｄ，１′ｄ・
・・・・・コア用ロツド、１ｆ，１′ｆ・・・・・・プ
リフオームロツド、１ｇ，１′ｇ・・・・・・光学繊維
、３・・・・・・ブラスチツク製の容器、４・・・・・
・光学物質の粉末。
内屈折率分布を示す説明図、第２図は本発明の第１実施
例における各工程説明図（プロツクダイヤグラム）、第
３図は同実施例に｝ける充填ロツド形成を示す断面図、
第４図は同実施例に訃ける成形ロツドの加工状態を示す
断面説明図、第５図は同実施例におけるコア用ロツドの
加工状態を示す略断面図、第６図は同実施例に卦ける未
処理クラツドの加工状態を示す略示説明図、第７図は本
発明の第２実施例を示す各工程説明図（プロツクダイヤ
グラム）、第８図は同実施例における複層中空ロツドの
加工状態を示す略示断面説明図である〇１ｄ，１′ｄ・
・・・・・コア用ロツド、１ｆ，１′ｆ・・・・・・プ
リフオームロツド、１ｇ，１′ｇ・・・・・・光学繊維
、３・・・・・・ブラスチツク製の容器、４・・・・・
・光学物質の粉末。
Claims (1)
- １ コア用ロッドを得る手段と、該コア用ロッド用外層
を形成してプリフオームロツドを得る手段と、該プリフ
オームロツドを紡糸して光学繊維を得る手段とよりなる
光学繊維の製造方法において、上記コア用ロッドを得る
とき、気相反応により生成された光学物質の粉末をプラ
スチック製容器内に充填かつ密封して該光学物質粉末を
充填ロッドとなし、つぎにプラスチック製容器全体に外
部から液圧をかけることによりその内部の充填ロッドを
加圧形成して成形ロッドとなし、その後、プラスチック
製容器から取り出された成形ロッドを加熱して焼結する
と共にさらに透明ガラス化してコア用ロッドを得ること
を特徴とする光学繊維の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12332376A JPS5919891B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | 光学繊維の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12332376A JPS5919891B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | 光学繊維の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5348536A JPS5348536A (en) | 1978-05-02 |
| JPS5919891B2 true JPS5919891B2 (ja) | 1984-05-09 |
Family
ID=14857701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12332376A Expired JPS5919891B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | 光学繊維の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5919891B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62140193U (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-04 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5244485A (en) * | 1991-04-30 | 1993-09-14 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a silica glass preform |
| JP4495838B2 (ja) * | 2000-08-07 | 2010-07-07 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 |
-
1976
- 1976-10-14 JP JP12332376A patent/JPS5919891B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62140193U (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5348536A (en) | 1978-05-02 |
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