JPH0411494B2 - - Google Patents
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- JPH0411494B2 JPH0411494B2 JP58180802A JP18080283A JPH0411494B2 JP H0411494 B2 JPH0411494 B2 JP H0411494B2 JP 58180802 A JP58180802 A JP 58180802A JP 18080283 A JP18080283 A JP 18080283A JP H0411494 B2 JPH0411494 B2 JP H0411494B2
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Description
本発明は、表面硬度が高く、かつ施釉適性、転
写性および耐水性にすぐれた釉薬組成物に関す
る。 近年、陶磁器等の製造分野においては、省資
源、省エネルギー等の理由により、焼成工程の一
部を省いたり、または施釉後の運搬時の破損など
を少なくするために釉薬スラリーに合成樹脂水性
分散液を配合した釉薬組成物が使用されている。 しかし、従来使用されている合成樹脂水性分散
液は、表面張力が低く、この分散液を釉薬スラリ
ーに配合して得られる釉薬組成物は泡の発生等に
より、締焼き面のスプレー施釉にしか使用できな
いという難点を有している。 この起泡を少なくするために、合成樹脂水性分
散液に消泡剤を添加した合成樹脂水性分散液を釉
薬スラリーに配合する方法が試みられている。し
かし、この方法は、合成樹脂水性分散液が通常有
する30〜40ダイン/cm程度の表面張力を40〜50ダ
イン/cmに高めることができるが、起泡性の改良
効果は十分満足すべきものではない。また、この
方法は、釉薬スラリーに消泡剤を含む合成樹脂水
性分散液を配合すると、素焼面に施釉した際、ハ
ジキや消泡剤の分離等が発生するという問題点を
有する。 本発明者等は、上記従来の釉薬組成物が有する
欠点を改良すべく鋭意研究を行なつた結果、疎水
性のスチレンとアクリル酸エステルを水性媒体中
で共重合して得られる表面張力が少なくとも60ダ
イン/cmの合成樹脂水性分散液と釉薬を配合して
なる釉薬組成物は実質的に起泡はなく、締焼き面
以外の素焼面にも使用できることを見い出し、本
発明に至つた。 本発明の釉薬組成物は、実質的に起包性がない
ため、スプレー施釉に限らず、デイツピング施釉
を行なつても素地面に泡が残ることがない。ま
た、本発明の釉薬組成物を素地面に施釉すると、
釉薬と釉薬、あるいは釉薬と素地面が強く接着す
るため、種々の有用な特性を発現することができ
る。例えば、締焼きあるいは素地面に、釉掛けし
た場合、釉薬と素地面が強く接着しているため、
運搬時における破損などが減少する。また、焼成
工程を省いて絵付けすることが可能であり、焼成
中の釉飛びも少なくすることができる。 本発明において使用される釉薬とは、通常金属
の素地や素焼の陶磁器の表面にかけるために用い
られるものであり、具体例としては長石、珪石、
硼砂、硼酸、珪酸鉛、粘土、螢石、酸化錫、ソー
ダ灰、石灰石、鉛丹、カオリン、硝石、フリツ
ト、亜鉛華、炭酸マグネシウム、炭酸カリ、炭酸
バリウム、酸化チタン、、タルク、木炭、ワラ炭
等があげられる。これらの釉薬は通常これに水を
加えてスラリーまたは懸濁液の形にして使用され
る。 本発明において使用される疎水性のスチレンと
アクリル酸エステルを水性媒体中で共重合して得
られる合成樹脂水性分散液は、少なくとも60ダイ
ン/cm、好ましくは60〜72ダイン/cmの表面張力
を有するものであればいずれの方法で製造された
ものでも使用することができる。 本発明で使用されるアクリル酸エステルとして
は、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸オクチル等が挙げら
れ、その中でアクリル酸2−エチルヘキシルが好
適である。スチレンとアクリル酸エステルとの混
合割合はスチレンの含量が10〜80重量%であるこ
とが好ましい。 合成樹脂水性分散液を製造する方法は常法に従
い、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパー
オキサイド、ターシヤリーブチルパーベンゾエー
ト等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリ
ル、アゾビスジメチルバレロニトリル等のアゾ化
合物、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の
無機過酸化物またはこれらの無機過酸化物とアミ
ン等のごとき還元剤との組合せからなるレドツク
ス触媒および必要に応じて連鎖移動剤その他の添
加剤の存在下に撹拌しつつ温度30〜90℃の範囲で
行なわれる。 重合反応の進行の程度は、サンプリング等通常
の方法によつて知ることができる。 このようにして得られた合成樹脂水性分散液
は、表面張力が60ダイン/cm以上と高くて起泡性
が極めて少ないため、使用に当つて消泡剤を添加
する必要もなく、従つて消泡剤の副次的作用を受
けることはない。 表面張力が60ダイン/cm未満の合成樹脂水性分
散液を釉薬に配合した場合は、デイツピング法で
は施釉面に泡が残つて十分な転写ができないとい
う欠点を有する。 合成樹脂水性分散液の配合量は、一般には釉薬
100重量部に対して4〜30重量部であるが、使用
目的によつてはその配合量を上記範囲内で変動さ
せることが好ましい。例えば運搬時の破損を減少
させる目的で釉薬組成物を使用する場合は、釉薬
100重量部に対して合成樹脂水性分散液を4〜10
重量部配合することが好ましい。また、焼成工程
を省略する目的で釉薬組成物を使用する場合は、
釉薬100重量部に対して、合成樹脂水性分散液を
10〜30重量部配合することが好ましい。 本発明の釉薬組成物は、表面高度が高く、かつ
施釉適正、転写性および耐水性にすぐれていると
ころから金属の素地や素地の陶磁器の釉薬として
有利に使用することができる。 以下、実施例をあげて本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例 石灰釉スラリー(固形分50%、比重1.43)の固
形分100重量部に対して、第1表に示した合成樹
脂水性分散液5重量部を配合した釉薬組成物を石
灰釉用素陶器にデイツピング法により施釉した
後、温度20℃湿度65%の恒温室で24時間乾燥し
た。施釉適性、乾燥終了後の製品の転写性、給水
時間および表面硬度は第2表に示した通りであつ
た。
写性および耐水性にすぐれた釉薬組成物に関す
る。 近年、陶磁器等の製造分野においては、省資
源、省エネルギー等の理由により、焼成工程の一
部を省いたり、または施釉後の運搬時の破損など
を少なくするために釉薬スラリーに合成樹脂水性
分散液を配合した釉薬組成物が使用されている。 しかし、従来使用されている合成樹脂水性分散
液は、表面張力が低く、この分散液を釉薬スラリ
ーに配合して得られる釉薬組成物は泡の発生等に
より、締焼き面のスプレー施釉にしか使用できな
いという難点を有している。 この起泡を少なくするために、合成樹脂水性分
散液に消泡剤を添加した合成樹脂水性分散液を釉
薬スラリーに配合する方法が試みられている。し
かし、この方法は、合成樹脂水性分散液が通常有
する30〜40ダイン/cm程度の表面張力を40〜50ダ
イン/cmに高めることができるが、起泡性の改良
効果は十分満足すべきものではない。また、この
方法は、釉薬スラリーに消泡剤を含む合成樹脂水
性分散液を配合すると、素焼面に施釉した際、ハ
ジキや消泡剤の分離等が発生するという問題点を
有する。 本発明者等は、上記従来の釉薬組成物が有する
欠点を改良すべく鋭意研究を行なつた結果、疎水
性のスチレンとアクリル酸エステルを水性媒体中
で共重合して得られる表面張力が少なくとも60ダ
イン/cmの合成樹脂水性分散液と釉薬を配合して
なる釉薬組成物は実質的に起泡はなく、締焼き面
以外の素焼面にも使用できることを見い出し、本
発明に至つた。 本発明の釉薬組成物は、実質的に起包性がない
ため、スプレー施釉に限らず、デイツピング施釉
を行なつても素地面に泡が残ることがない。ま
た、本発明の釉薬組成物を素地面に施釉すると、
釉薬と釉薬、あるいは釉薬と素地面が強く接着す
るため、種々の有用な特性を発現することができ
る。例えば、締焼きあるいは素地面に、釉掛けし
た場合、釉薬と素地面が強く接着しているため、
運搬時における破損などが減少する。また、焼成
工程を省いて絵付けすることが可能であり、焼成
中の釉飛びも少なくすることができる。 本発明において使用される釉薬とは、通常金属
の素地や素焼の陶磁器の表面にかけるために用い
られるものであり、具体例としては長石、珪石、
硼砂、硼酸、珪酸鉛、粘土、螢石、酸化錫、ソー
ダ灰、石灰石、鉛丹、カオリン、硝石、フリツ
ト、亜鉛華、炭酸マグネシウム、炭酸カリ、炭酸
バリウム、酸化チタン、、タルク、木炭、ワラ炭
等があげられる。これらの釉薬は通常これに水を
加えてスラリーまたは懸濁液の形にして使用され
る。 本発明において使用される疎水性のスチレンと
アクリル酸エステルを水性媒体中で共重合して得
られる合成樹脂水性分散液は、少なくとも60ダイ
ン/cm、好ましくは60〜72ダイン/cmの表面張力
を有するものであればいずれの方法で製造された
ものでも使用することができる。 本発明で使用されるアクリル酸エステルとして
は、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸オクチル等が挙げら
れ、その中でアクリル酸2−エチルヘキシルが好
適である。スチレンとアクリル酸エステルとの混
合割合はスチレンの含量が10〜80重量%であるこ
とが好ましい。 合成樹脂水性分散液を製造する方法は常法に従
い、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパー
オキサイド、ターシヤリーブチルパーベンゾエー
ト等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリ
ル、アゾビスジメチルバレロニトリル等のアゾ化
合物、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の
無機過酸化物またはこれらの無機過酸化物とアミ
ン等のごとき還元剤との組合せからなるレドツク
ス触媒および必要に応じて連鎖移動剤その他の添
加剤の存在下に撹拌しつつ温度30〜90℃の範囲で
行なわれる。 重合反応の進行の程度は、サンプリング等通常
の方法によつて知ることができる。 このようにして得られた合成樹脂水性分散液
は、表面張力が60ダイン/cm以上と高くて起泡性
が極めて少ないため、使用に当つて消泡剤を添加
する必要もなく、従つて消泡剤の副次的作用を受
けることはない。 表面張力が60ダイン/cm未満の合成樹脂水性分
散液を釉薬に配合した場合は、デイツピング法で
は施釉面に泡が残つて十分な転写ができないとい
う欠点を有する。 合成樹脂水性分散液の配合量は、一般には釉薬
100重量部に対して4〜30重量部であるが、使用
目的によつてはその配合量を上記範囲内で変動さ
せることが好ましい。例えば運搬時の破損を減少
させる目的で釉薬組成物を使用する場合は、釉薬
100重量部に対して合成樹脂水性分散液を4〜10
重量部配合することが好ましい。また、焼成工程
を省略する目的で釉薬組成物を使用する場合は、
釉薬100重量部に対して、合成樹脂水性分散液を
10〜30重量部配合することが好ましい。 本発明の釉薬組成物は、表面高度が高く、かつ
施釉適正、転写性および耐水性にすぐれていると
ころから金属の素地や素地の陶磁器の釉薬として
有利に使用することができる。 以下、実施例をあげて本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例 石灰釉スラリー(固形分50%、比重1.43)の固
形分100重量部に対して、第1表に示した合成樹
脂水性分散液5重量部を配合した釉薬組成物を石
灰釉用素陶器にデイツピング法により施釉した
後、温度20℃湿度65%の恒温室で24時間乾燥し
た。施釉適性、乾燥終了後の製品の転写性、給水
時間および表面硬度は第2表に示した通りであつ
た。
【表】
【表】
【表】
次に、第1表に示した合成樹脂水性分散液No
−5を用いて、第3表に示したごとくに配合量を
変えた以外は、前記方法と同様に行なつた。施釉
適性、乾燥終了後の製品の転写性、吸水時間およ
び表面硬度は第3表に示した通りであつた。
−5を用いて、第3表に示したごとくに配合量を
変えた以外は、前記方法と同様に行なつた。施釉
適性、乾燥終了後の製品の転写性、吸水時間およ
び表面硬度は第3表に示した通りであつた。
【表】
【表】
第2表および第3表から明らかなごとく、表面
張力が60ダイン/cm以上の合成樹脂水性分散液を
配合した釉薬組成物は、デイツピング施釉におい
ても起泡がなく、合成樹脂水性分散液を4重量部
以上配合した時、転写性も良く、また合成樹脂水
性分散液の配合量が増すにつれ吸水時間が長くな
り、表面硬度が高くなり、釉薬組成物として極め
てすぐれていることが分る。
張力が60ダイン/cm以上の合成樹脂水性分散液を
配合した釉薬組成物は、デイツピング施釉におい
ても起泡がなく、合成樹脂水性分散液を4重量部
以上配合した時、転写性も良く、また合成樹脂水
性分散液の配合量が増すにつれ吸水時間が長くな
り、表面硬度が高くなり、釉薬組成物として極め
てすぐれていることが分る。
Claims (1)
- 1 釉薬と、疎水性のスチレンとアクリル酸エス
テルを水性媒体中で共重合して得られる表面張力
が少なくとも60ダイン/cmの合成樹脂水性分散液
を、釉薬100重量部に対して4〜30重量部配合し
てなる釉薬組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18080283A JPS6077146A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 釉薬組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18080283A JPS6077146A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 釉薬組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6077146A JPS6077146A (ja) | 1985-05-01 |
JPH0411494B2 true JPH0411494B2 (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=16089596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18080283A Granted JPS6077146A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 釉薬組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6077146A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2812336B2 (ja) * | 1988-11-01 | 1998-10-22 | 旭硝子株式会社 | ペースト組成物 |
GB9713831D0 (en) * | 1997-06-30 | 1997-09-03 | Fry Metals Inc | Sealing glass paste for cathode ray tubes |
US10388493B2 (en) * | 2011-09-16 | 2019-08-20 | Lam Research Corporation | Component of a substrate support assembly producing localized magnetic fields |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52139111A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-19 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Additives for glazes |
JPS5473812A (en) * | 1977-11-25 | 1979-06-13 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Enamel composition |
JPS5476611A (en) * | 1977-11-30 | 1979-06-19 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Enamel composition |
JPS55140734A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Matsushita Electric Works Ltd | Glaze composition for enamel |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18080283A patent/JPS6077146A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52139111A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-19 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Additives for glazes |
JPS5473812A (en) * | 1977-11-25 | 1979-06-13 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Enamel composition |
JPS5476611A (en) * | 1977-11-30 | 1979-06-19 | Nitto Chemical Industry Co Ltd | Enamel composition |
JPS55140734A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Matsushita Electric Works Ltd | Glaze composition for enamel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6077146A (ja) | 1985-05-01 |
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