JPH04113885A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光情報記録媒体における記録層または反射層
等を形成する透明基板に関する。

〔従来の技術〕

ビデオディスクで代表される光情報記録媒体に使用され
る基板は、例えば、特開昭６３−１７３２４４号公報に
開示されているように、スタンパ−を用い、射出成形等
により作製した樹脂性レプリカ、または、ガラス基板等
に２　Ｐ　（Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｍｅｒ）法により作
製した基板を用いている。

また、ガラス基板に直接ピットあるいはグループを形成
した基板も用いられている。

しかし、前記方法によれば、スタンパ作製、ピット転写
の最適化等に多大な時間、費用を要すため、大量生産に
は適するが、一方、作製サイクルが短く、かつ、多品種
少量を必要とするものに対しては有効ではない。

さらに、２Ｐ法はピット（凹凸）底面が下地ガラス表面
でなく樹脂層となるので、平坦性に欠ける現象が生じや
すく、再生信号の信頼性に欠ける問題がある。

また、ガラス基板を置棚した基板においては、基板の均
質性がピット深さに大きく影響を与えるため、特殊仕様
の基板を必要とする等の問題がある。

前記欠点を解消する方法として、ガラス基板にフォトレ
ジストを形成し、該レジストに信号ピットを形成する方
法がある。

しかし、この方法では、フォトレジストの耐熱性が低い
（約１５０℃）ので、ビデオディスク、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ等の再生専用型には有効であるが、追記型あるいは
書き換え可能型のような記録膜を形成するディスクに対
しては次のような問題がある。

すなわち、記録膜を形成したディスクでは、再生専用型
ディスクよりも高パワーのレーザービーム照射を行う。

このため、膜面はレジストの耐熱温度を超える約２５０
℃に達し、レーザー照射部のレジストが変形してしまう
という問題が生じる。

従来技術では前記問題に対し、配慮されていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、作製サイクルの短縮、費用低減、また
は耐熱性という観点からは配慮されていない。

本発明の目的は、上記従来技術で、配慮されていない低
コストで耐熱性に富んだ光情報記録媒体を提供すること
である。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、ピットを基板上に形成する材料として、記
録時の温度に耐えられる高耐熱性樹脂を用い、かつ、こ
のピットの底面は、基板の表面となる光情報記録媒体に
よって達成できる。

〔作用〕

上記目的を達成するための作用を第２図を用いて説明す
る。

従来技術によるレプリカと同一寸法のガラス基板１上に
本発明の高耐熱性樹脂２を回転塗布法によりピット深さ
分形成する（同図Ａ）。

次に、樹脂層２上に従来技術と同様フォトレジスト（マ
スク材）３を形成した後、レーザー露光装置（カッティ
ング装置）でピット４を形成する（同図Ｂ）。

次に、前記フォトレジスト３をマスク材としてドライエ
ツチング法により、前記高耐熱性樹脂層にレジストに形
成したピットを転写した後、レジスト３を除去する（同
図Ｃ）。

前記方法で得たガラスダイレクト板は、従来技術で問題
となっている低耐熱性および作製サイクルの短縮が図ら
れる。

したがって、追記型あるいは、書き換え型光ディスク等
の記録膜形成型の基板として使用できる。

前記方法で得た凹凸層作製にはスタンパが不要である。

また、レジスト耐熱（約１５０℃）に対し、例えばポリ
イミド系樹脂を用いた場合は、約３５０〜４００℃の耐
熱性がある。また、形成する凹凸の底面は下地となるガ
ラス表面となるので、底面不均一による信号のノイズ低
減にも効果がある。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図を用いて説明する。

（実施例１） 本発明の高耐熱性凹凸層材料としてポリイミド系樹脂を
用いて行った例について第３図を用いて説明する。

外径φ１３０ｍｍ、内径φ１５ｍｍ、厚さｔｌ、２ｍｍ
のガラス基板１にポリイミド径樹脂２　（ＰＩＱ：ＩＥ
Ｉ立化酸化成製光学的厚さがλ／４（λ：再再生学レー
ザ波長８３０ｎｍ　）となるように回転塗布法により形
成し、これを約３５０℃で熱処理して縮合重合させた（
同図Ａ）。

次に、マスク材（フォトレジスト）３（膜厚約１４００
人ニジブレー社製ＭＰシリーズ）とＰＩＱ２との接合層
としてＡ１５を約０．１μｍ形成した。

前記基板をレーザー露光装置を用いて、前記マスク材３
にピット４を形成しく同図Ｃ）、このマスク材３をマス
クとして、プラズマエツチング法でＡｌ、ＰＩＱをエツ
チングし、さらにＡＩを除去して所望の光情報記録媒体
用基板を得た（同図Ｄ）。

なお、前記高耐熱性樹脂であるポリイミド系樹脂２とマ
スク材３との接合層５として設けたＡＩのエツチング、
および高耐熱性樹脂２のエツチングには、それぞれ、Ｂ
Ｃｌ３．　ＣＦ、、０２の３種混合ガス、ＣＦ、　、０
２の２種混合ガスを用いた。

上記実施例によれば従来技術で問題となるスタンパ作製
が不要であり、作製サイクル等が縮小され、かつピット
底面が下地ガラス表面となるため再生信号の品質が向上
した光情報記録媒体を得ることができた。

（実施例２） 上記実施例１では、光情報記録媒体１枚ごとにレーザー
露光して行った例について説明した。

さらに生産性向上を図るため、前記ガラス基板上にＣｒ
を形成し、この上にフォトレジストを形成した後、実施
例１と同様Ｃｒにして、ピットを形成した。

そして、この基板をマスクとして、前記実施例１の高耐
熱性樹脂およびフォトレジストを形成した基板に一括露
光（ＬＳＩ技術に同じ）を行い、所望の光情報記録媒体
を得た。

本実施例においては、前記実施例１と同じ効果が得られ
ることはいうまでもなく、実施例１より量産性に富んだ
基板が得られる。

なお上記実施例では、下地基板材料としてガラスを用い
たが、ガラス基板以外の透明基板を用いてもよいこと、
またピット（凹凸）形成層もＰＩＱである必要はないこ
とはいうまでもない。

さらに、前記実施例における高耐熱性樹脂自体が感光性
材料であって、該樹脂へマスク材を用いてピット転写す
る工程を省いたものにおいても本発明は有効である。

〔発明の効果〕

本発明は以上説明したように、従来技術で問題となって
いる。作製サイクル、コストの縮小が図られる。また、
ピット形成層を高耐熱性樹脂とすることにより、追記型
あるいは書き換え可能光ディスク等に用いられる記録膜
の上昇温度（約２５０℃）まで耐えることのできる光情
報記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す光情報記録媒体の断面
図、第２図および第３図は本発明を説明するための工程
図である。 １・・・基板　　　　　　　２・・・高耐熱性樹脂４１
図 力５図 閉２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に形成されたピットから光情報を得る光ディ
   スクにおいて、前記ピットを基板上に形成する材料とし
   て、記録時の温度に耐えられる高耐熱性樹脂を用い、か
   つ、このピットの底面は前記基板の表面となることを特
   徴とする光情報記録媒体。 ２、請求項１記載のピット形成層は、感光性材料である
   ことを特徴とする光情報記録媒体。 ３、請求項１または２記載のピット層は、ポリイミド系
   であることを特徴とする光情報記録媒体。