JPH04113589A - 半導体メモリ装置の出力回路 - Google Patents

半導体メモリ装置の出力回路

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JPH04113589A
JPH04113589A JP2231654A JP23165490A JPH04113589A JP H04113589 A JPH04113589 A JP H04113589A JP 2231654 A JP2231654 A JP 2231654A JP 23165490 A JP23165490 A JP 23165490A JP H04113589 A JPH04113589 A JP H04113589A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、相補対接続された出力トランジスタの導通タ
イミングを互いにずらすことにより、出力トランジスタ
を介した貫通電流を遮断するようにした半導体メモリ装
置の出力回路に関する。
[従来の技術] 従来、この種の半導体メモリ装置の出力回路としては、
第3図に示すものが知られている。
図示しないセンスアンプ出力信号(逆信号)SAOUT
は、メモリセルからの読出データがハイレベルのときロ
ウレベルになり、メモリセルからの読み出しデータがロ
ウレベルのときハイレベルになるもので、NOR回路G
I及びNAND回路G2の各一方の入力端に入力されて
いる。
また、出力制御信号DOEは、半導体メモリ装置が待機
時または書込み時、又はアウトプ・ソトイネーブル信号
OE付きの半導体メモリ装置であれば、OE倍信号ハイ
レベルのときノ\イレベルとなり、出力端子をハイイン
ピダンスにするもので、NOR回路G1の他方の入力端
に入力されると共に、インバータ回路IIを介してNA
ND回路G2の他方の入力端に入力されている。
NORゲートG1は、PチャネルMOSトランジスタ(
以下、PMOSトランジスタと呼ぶ)Q fly Q1
0の直列回路と、NチャネルMOSトランジスタ(以下
、NMOSトランジスタと呼ぶ)Q 131 G14の
並列回路とを、電源V。。端子と接地端子との間に直列
接続して構成され、PMOSトランジスタQ、、及びN
MOSトランジスタQ saのゲートにセンスアンプ出
力信号5AOUTを入力すると共に、PMOSトランジ
スタQ□2及びNMOSトランジスタQI3のゲートに
出力制御信号DOEを入力し、PMOSトランジスタQ
、□とNMOSトランジスタQ ll+ G14の共通
接続されたドレインを出力端とするものとなっている。
また、NANDゲートG2は、PMOSトランジスタQ
 1!51 Q +eの並列回路と、NMOSトランジ
スタQ 171 Q+aの直列回路とを電源V。0端子
と接地端子との間に直列接続して構成され、PMOSト
ランジスタQ、e及びNMOSトランジスタQ、8のゲ
ートにセンスアンプ出力信号5AOUTを入力すると共
に、PMOSトランジスタQ15及びNMOSトランジ
スタQ 17のゲートに出力制御信号DOEの反転信号
を入力し、PMOSトランジスタQ 15+ Q +e
とNMOSトランジスタQ 17の共通接続されたドレ
インを出力端とするものとなっている。
NORゲートG□の出力は、インバータ■2を介して出
力段に設けられたPMOSトランジスタQ 21のゲー
トに入力されている。また、NANDゲー)G2の出力
は、インバータI3を介して同じく出力段に設けられた
NMOSトランジスタQ22のゲートに入力されている
。PMOSトランジスタQ 2+とNMOSトランジス
タQ2゜とは、電源V。C端子と接地端子との間に直列
接続されており、その共通接続されたドレインを出力端
子として出力信号DOUTを出力するものとなっている
以下、これら出力段に配置されたトランジスタQ211
Q2゜を、特に出力トランジスタと呼ぶ。
次に、このように構成された従来の半導体メモリ装置の
出力回路の読出動作について説明する。
出力制御信号DOEは、読み出し状態のときにはロウレ
ベルであるため、PMOSトランジスタQ 12及びN
MOSトランジスタQ1□が導通状態となる。これによ
り、NOR回路G1及びNAND回路G2はインバータ
回路として機能する。
ここで、メモリセルからの読出データがハイレベル、即
ち、信号5AOUTがロウレベルになると、NOR回路
回路においてはPMOSトランジスタQ 11が導通状
態、NMOSトランジスタQ 14が非導通状態となる
ので、NOR回路G1の出力点である節点N、のレベル
はハイレベルとなる。
また、NAND回路G2においてはPMOSトランジス
タQ +eが導通状態、NMOSトランジスタQ18が
非導通状態となるので、NAND回路G2の出力点であ
る節点N2はハイレベルとなる。これにより、インバー
タ回路I2.■。の出力点である接点N3.N4は共に
ロウレベルとなるので、出力トランジスタQ 21は導
通状態、出力トランジスタQ2□は非導通状態となり、
出力端子からはハイレベルの出力信号DOUTが読み出
されることになる。
一方、メモリセルからの読出データがロウレベル、即ち
、信号5AOUTがハイレベルの場合、NOR回路Gi
においてはPMOSトランジスタQ 1.が非導通状態
、NMOSトランジスタQ 14が導通状態となるので
、節点N、のレベルはロウレベルとなる。また、NAN
D回路G2においてはPMOSトランジスタQ seが
非導通状態、NMOSトランジスタQ18が導通状態と
なるので、節点N2はロウレベルとなる。これにより、
接点N31N4は共にハイレベルとなるので、出力トラ
ンジスタQ21は非導通状態、出力トランジスタQ2□
は導通状態となり、出力端子からはロウレベルの出力信
号DOUTが読み出されることになる。
ところで、この種の出力回路においては、読み出し時に
出力トランジスタQ211 G2゜を介して流れる貫通
電流を遮断するために、一般に、第4図に示すような順
序関係を満たすように各トランジスタのサイズを決定し
ている。
即ち、ハイ読み出し時には、第4図(a)に示すように
、節点N4のレベルが出力(NMO8)トランジスタQ
2□のしきい値電圧v7Nより低くなる時刻、即ち、出
力トランジスタQ2□が非導通状態となる時刻TIにお
いて、節点N3のレベルが電源電圧Vcc  IVTP
I (但し、VTPは出力トランジスタQ21のしきい
値電圧)となるように、節点N3の立ち下がりタイミン
グを節点N4の立ち下がりタイミングよりも遅らせる。
これにより、出力トランジスタQ2□lQ2□が同時に
導通状態となるのを防止して、貫通電流を遮断している
また、ロウ読み出し時には、第4図(b)に示すように
、節点N3のレベルがVo。−IVTPIより高くなる
時刻、即ち、出力トランジスタQ21が非導通状態とな
る時刻T2において、節点N4のレベルがVTNとなる
ように節点N4の立ち上がりタイミングを節点N3の立
ち上がりタイミングよりも遅らせる。これにより、出力
トランジスタQ211Q2□が同時に導通状態となるの
を防止して、貫通電流を遮断している。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述した従来の半導体メモリ装置の出力
回路では、製造工程のばらつきにより各トランジスタの
サイズ比が設計値に対してばらつくことが多く、前述し
たようなタイミング関係を満足することができず、結局
、データ続出時に出力トランジスタに貫通電流が流れて
しまうという問題点がある。
また、このばらつきを考慮した設計を行って各トランジ
スタのサイズ比を設定すると、前述した立ち上がり及び
立ち下がりの時間差が大きくなってしまい、アクセスが
遅れてしまうという問題点があった。
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって
、製造ばらつきの影響を受けずに出力トランジスタの貫
通電流を確実に遮断することができると共に、高速読出
動作が可能な半導体メモリ装置の出力回路を提供するこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係る半導体メモリ装置の出力回路は、高電位電
源端子と出力端子との間に接続されたPチャネルMOS
トランジスタからなる第1の出力トランジスタと、前記
出力端子と低電位電源端子との間に接続されたNチャネ
ルMOSトランジスタからなる第2の出力トランジスタ
と、メモリからの読出データに従って前記第1の出力ト
ランジスタのゲートレベルを制御する第1のゲート制御
回路と、前記メモリからの読出データに従って前記第2
の出力トランジスタのゲートレベルを制御する第2のゲ
ート制御回路とを有し、前記第1のゲート制御回路は、
前記第2の出力トランジスタのゲートレベルを入力しこ
のゲートレベルが立ち下がったことを条件としてその出
力を立ち下げるものであり、前記第2のゲート制御回路
は、前記第1の出力トランジスタのゲートレベルを入力
しこのゲートレベルが立ち上がったことを条件としてそ
の出力を立ち上げるものであることを特徴とする。
[作用] 本発明によれば、第1の出力トランジスタのゲートレベ
ルを制御する第1のゲート制御回路は、第2の出力トラ
ンジスタのゲートレベルが立ち下がったことを条件とし
てその出力を立ち下げるものであるから、ハイ読み出し
時には、第1の出力トランジスタのゲートレベルは、第
2の出力トランジスタのゲートレベルがロウレベルへ転
じたのちにロウレベルへと転じる。
また、第2の出力トランジスタのゲートレベルを制御す
る第2のゲート制御回路は、第1の出力トランジスタの
ゲートレベルが立ち上がったことを条件としてその出力
を立ち上げるものであるから、ロウレベル読み出し時に
は、第2の出力トランジスタのゲートレベルは、第1の
出力トランジスタのゲートレベルがハイレベルに転じた
のちにハイレベルへと転じる。
このように、本発明によれば、第1および第2の出力ト
ランジスタのゲートレベルの変化のタイミングが論理的
に決定される。このため、従来のように、トランジスタ
のサイズ比によってタイミングが変化するということが
なく、MOSトランジスタの製造ばらつきが生じても、
常に上述したタイミング関係を満足することができるの
で、出力トランジスタを介して流れる貫通電流を確実に
遮断することが可能となる。
また、このように、出力トランジスタのゲートレベルの
変化点のタイミングが論理的に決定されていることによ
り、上述したタイミングを考慮して出力トランジスタの
サイズ比を設定する必要がなくなるので、立ち上がり及
び立ち下がりの時間差が必要以上に大きくなるのを防止
することができ、高速アクセスが可能になる。
[実施例コ 次に、添付の図面を参照して本発明の実施例について説
明する。
第1図は本発明の第1の実施例に係る半導体メモリ装置
の出力回路を示す回路図である。なお、第1図において
、第3図に示した従来の回路と同一部分にば同一符号を
付し、重複する部分の説明は省略する。
この実施例の回路が第3図に示した従来の回路と異なる
点は、NOR回路回路及びNAND回路G2の各出力点
から出力トランジスタQ 211 Q22の各ゲートに
至るまでの回路構成である。
即ち、NOR回路回路の出力は、CMOSインバータを
構成するPMOSトランジスタQ 31及びNMOSト
ランジスタQ3゜の共通接続されたゲートに入力されて
いる。また、NMOSトランジスタQ3□のソースと接
地端子との間にはNMOSトランジスタQ 33が介挿
されている。
また、NAND回路G2の出力は、CMOSインバータ
を構成するPMOSトランジスタQ 34及びNMOS
トランジスタQ 35の共通接続されたゲートに入力さ
れている。また、PMOSトランジスタQ 34のソー
スと電源V。0端子との間にはPMOSトランジスタQ
3Bが介挿されている。
トランジスタQ3□lQ3゜のドレインは、出力トラン
ジスタQ 21のゲートに接続されると共に、インバー
タ回路■4を介して2MOSトランジスタQ 311の
ゲートに接続されている。また、トランジスタQ 34
1 Q 35のドレインは、出力トランジスタQ2゜の
ゲートに接続されると共に、インバータエ。を介してN
MO6トランジスタQ3Gのゲートに接続されている。
この実施例では、トランジスタQ3t+ Q3□。
G33及びインバータ回路工、によって、出力トランジ
スタQ2+のゲートレベルを制御する第1のゲート制御
回路が構成され、トランジスタQ34゜Q 351 G
313及びインバータ回路I4によって、出力トランジ
スタQ2□のゲートレベルを制御する第2のゲート制御
回路が構成されている。
次に、このように構成された本実施例に係る半導体メモ
リ装置の出力回路の読み出し動作について説明する。
ます、メモリセルからの読み出しデータがロウレベルか
らハイレベルへと変化するハイ読み出し時の動作につい
て説明する。
この場合には、センスアンプ出力信号5AOUTがロウ
レベルになるので、NOR回路回路においては2MOS
トランジスタQ□1が導通状態、NMOSトランジスタ
Q 14が非導通状態となり、NOR回路G1の出力点
である節点N、のレベルはハイレベルとなる。また、N
AND回路G2においては2MOSトランジスタQse
が導通状態、NMOSトランジスタQtaが非導通状態
となるので、NAND回路G2の出力点である節点N2
はハイレベルとなる。
節点N2のレベルがハイレベルへ転じると、NMOSト
ランジスタQ 35が導通状態となるため、節点N4の
レベルはハイレベルからロウレベルへと転じ、出力トラ
ンジスタQ2□は非導通状態となる。一方、このとき、
節点N、のレベルがハイレベルへと転じるため、NMO
SトランジスタQ 32は導通状態となるが、NMOS
トランジスタQ3゜と直列接続されたNMOSトランジ
スタQ33のゲートレベルが、節点N4のロウレベル転
換時までロウレベルを維持しているため、NMOSトラ
ンジスタQ3Gは非導通状態のままであり、節点N3も
ハイレベルのままである。
続いて、節点N4のレベルがロウレベルへと転じ、更に
インバータ回路I5の出力がハイレベルへに転じると、
NMOSトランジスタQ33のゲートレベルがハイレベ
ルとなるので、NMOSトランジスタG33は導通状態
となる。これにより、節点N3のレベルはハイレベルか
らロウレベルへと転じ、出力トランジスタQ21が導通
状態となるので、出力信号DOUTはハイレベルとなる
次に、メモリセルからの読み出しデータがハイレベルか
らロウレベルへと変化するロウレベル読出時の動作につ
いて説明する。
この場合には、センスアンプ出力信号5AOUTがハイ
レベルになるので、NOR回路G1においては2MOS
トランジスタQ1tが非導通状態、NMOSトランジス
タQ 14が導通状態となり、NOR回路G1の出力点
である節点N□のレベルはロウレベルとなる。また、N
AND回路G2においては2MOSトランジスタQ +
eが非導通状態、NMOSトランジスタQtaが導通状
態となるので、NAND回路G2の出力点である節点N
2はロウレベルとなる。
節点N sのレベルがロウレベルへ転じると、2MOS
トランジスタQ 31が導通状態となるため、節点N3
のレベルはロウレベルからハイレベルへと転じ、出力ト
ランジスタQ 21は非導通状態となる。一方、このと
き、節点N2のレベルがロウレベルへと転じるため、P
MOSトランジスタQ34は導通状態となるが、2MO
SトランジスタQ34と直列接続された2MOSトラン
ジスタQ[lのゲートレベルが、節点N3のハイレベル
転換時までハイレベルを維持しているため、2MOSト
ランジスタQ3eは非導通状態のままであり、節点N4
もロウレベルのままである。
続いて、節点N3のレベルがハイレベルへト転じ、更に
インバータ回路I4の出力がロウレベルへに転じると、
PMOSトランジスタQ3Bのゲートレベルがロウレベ
ルとなるので、PMOSトランジスタQ3Bは導通状態
となる。これにより、節点N4のレベルはロウレベルか
ら71イレベルへと転じ、出力トランジスタQ2゜が導
通状態となるので、出力信号DOUTはロウレベルとな
る。
以上説明したように、本実施例では、ノ\イ読み出し時
には節点N4がロウレベルへ転じてから節点N3がロウ
レベルへ転じ、また、ロウレベル読み出し時には節点N
3がノ\イレベルへ転じてから節点N4がハイレベルへ
転じるというように、出力トランジスタQ21+Q2□
のゲートレベルの変化のタイミングが論理的に決定され
る。このため、従来のように、トランジスタのサイズ比
によってタイミングが変化するということがなく、MO
Sトランジスタの製造ばらつきが生じても、常に上述し
たタイミング関係を満足することができるので、出力ト
ランジスタQ211Q2□を介して流れる貫通電流を確
実に遮断することが可能となる。
また、このように、出力トランジスタQ21゜G2゜の
ゲートレベルの変化点のタイミングが論理的に決定され
ていることにより、上述したタイミングを考慮して出力
トランジスタのサイズ比を設定する必要がなくなるので
、立ち上がり及び立ち下がりの時間差が必要以上に大き
くなるのを防止することができ、高速アクセスが可能に
なる。
第2図は、本発明の第2の実施例に係る半導体メモリ装
置の出力回路を示す回路図である。なお、第2図におい
て、第1図に示した第1の実施例の回路と同一部分にば
同一符号を付し、重複する部分の説明は省略する。
この回路が、先の実施例と異なる点は、インバータI4
.I5を除去し、NOR回路G1の出力側に接続された
NMOSトランジスタQ32のゲートと、これと直列に
接続されたNMOSトランジスタQ33のゲートとを接
続すると共に、NMOSトランジスタQ 33のドレイ
ンを節点N4に接続することにより、第1のゲート制御
回路を構成し、また、NAND回路G2の出力側に接続
されたPMOSトランジスタQ 34のゲートと、これ
と直列に接続されたPMOSトランジスタQ 3Bのゲ
ートとを接続すると共に、PMOSトランジスタQ 3
Bのドレインを節点N3に接続することにより第2のゲ
ート制御回路を構成した点である。
次に、このように構成された本実施例に係る半導体メモ
リ装置の出力回路の読み出し動作について説明する。
まず、メモリセルからの読み出しデータがロウレベルか
らハイレベルへと変化するハイ読み出し動作について説
明する。
この場合には、センスアンプ出力信号5AOUTがロウ
レベルになるので、前述と同様に、NOR回路G1の出
力点である節点N1及びNAND回路G2の出力点であ
る節点N2は、共にロウレベルからハイレベルへと転じ
る。これにより、NMOSトランジスタQ 331 G
35が導通状態となる。
ここで、節点N4はNMOSトランジスタQ32のソー
ス及びNMOSトランジスタQ33のドレインと共通に
接続されているため、節点N4のレベルはNMOSトラ
ンジスタQ 331 G35によってハイレベルからロ
ウレベルへ転じる。このとき、節点N 4のレベルをV
 N4、節点N、のレベルをVNI、NMOSトランジ
スタQ3゜のしきい値電圧をVTQ32とすると、vN
4が、VN4≦VNI  V丁032となるまでの間は
、NMOSトランジスタQ 32は非導通状態であるた
め、節点N3のレベルはハイレベルのままである。そし
て、上式を満足するレベルまで節点N4のレベルが十分
に下がったとき、NMOSトランジスタQ3□が導通状
態となり、節点N3のレベルはハイレベルからロウレベ
ルへと変化し始める。これにより、出力トランジスタQ
2□が導通状態、出力トランジスタQ2□が非導通状態
となり、出力信号DOUTとしてハイレベルが読み出さ
れる。
次に、メモリセルからの読み出しデータがハイレベルか
らロウレベルへと変化するロウ読み出し動作について説
明する。
この場合には、センスアンプ出力信号5AOUTがハイ
レベルになるので、前述と同様に、NOR回路G□の出
力点である節点N1及びNAND回路G2の出力点であ
る節点N2は、共に71イレベルからロウレベルへと転
じる。これにより、2MOSトランジスタQ 31+ 
Q 3eが導通状態となる。
ここで、節点N3は2MOSトランジスタQ 34のソ
ース及び2MOSトランジスタQ 36のドレインと共
通に接続されているため、節点N3のレベルは2MOS
トランジスタQ 311 Q38によってロウレベルか
らハイレベルへ転じる。このとき、節点N3のレベルを
VN3、節点N2のレベルをVN□、2MOSトランジ
スタQ 34のしきい値電圧をVTQ34(!:すルト
、■N3が、V N3 i: V N2 + V TQ
34 トなるまでの間は、2MOSトランジスタQ34
は非導通状態であるため、節点N4のレベルはロウレベ
ルのままである。そして、上式を満足するレベルまで節
点N3のレベルが十分に上がったとき、2MOSトラン
ジスタQ 34が導通状態となり、節点N 4のレベル
はロウレベルからハイレベルへと変化し始める。これに
より、出力トランジスタQ 21が非導通状態、出力ト
ランジスタQ2□が導通状態となり、出力信号DOUT
としてロウレベルが読み出される。
このように、第2の実施例によっても、節点N3.N4
のレベル変化のタイミングが論理的に決定されるので、
第1の実施例と同様の効果を得ることが可能である。
[発明の効果コ 以上説明したように本発明は、第1及び第2のゲート制
御回路により、第1及び第2の出力トランジスタのゲー
トレベルの変化点のタイミングを論理的に制御するよう
にしたことにより、MOSトランジスタの製造ばらつき
が生じても、確実に貫通電流を遮断することが可能であ
る。また、これにより、第1及び第2の出力トランジス
タのゲートレベルの変化点のタイミングを設計上、大き
くずらす必要がないので、データ読み出し時にアクセス
が遅れるという不具合も防止することができるという効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例に係る半導体メモリ装置
の出力回路の回路図、第2図は本発明の第2の実施例に
係る半導体メモリ装置の出力回路の回路図、第3図は従
来の半導体メモリ装置の出力回路の回路図、第4図は同
出力回路における読出時のタイミングを示す波形図であ
る。 G、;NOR回路、G2;NAND回路、■1〜I5;
インバータ回路、Q□t+ Q 121 Q 151Q
 16+ Q211 Q311 Q+34I Q38;
 PチャネルMOSトランジスタ、Q131 QI41
 Q171 Q181 Q2□。 Q3□+ Q3G1 Q35;NチャネルMOSトラン
ジスタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高電位電源端子と出力端子との間に接続されたP
    チャネルMOSトランジスタからなる第1の出力トラン
    ジスタと、前記出力端子と低電位電源端子との間に接続
    されたNチャネルMOSトランジスタからなる第2の出
    力トランジスタと、メモリからの読出データに従って前
    記第1の出力トランジスタのゲートレベルを制御する第
    1のゲート制御回路と、前記メモリからの読出データに
    従って前記第2の出力トランジスタのゲートレベルを制
    御する第2のゲート制御回路とを有し、前記第1のゲー
    ト制御回路は、前記第2の出力トランジスタのゲートレ
    ベルを入力しこのゲートレベルが立ち下がったことを条
    件としてその出力を立ち下げるものであり、前記第2の
    ゲート制御回路は、前記第1の出力トランジスタのゲー
    トレベルを入力しこのゲートレベルが立ち上がったこと
    を条件としてその出力を立ち上げるものであることを特
    徴とする半導体メモリ装置の出力回路。
  2. (2)前記第1のゲート制御回路は、そのゲートを共通
    入力端としそのドレインを共通出力端とする相補対接続
    された第1のPチャネルMOSトランジスタ及び第1の
    NチャネルMOSトランジスタと、前記第1のNチャネ
    ルMOSトランジスタのソースと前記低電位電源端子と
    の間に接続された第2のNチャネルMOSトランジスタ
    と、その入力端が前記第2の出力トランジスタのゲート
    に接続されその出力端が前記第2のNチャネルMOSト
    ランジスタのゲートに接続された第1のインバータ回路
    とを備えたものであり、前記第2のゲート制御回路は、
    そのゲートを共通入力端としそのドレインを共通出力端
    とする相補対接続された第2のPチャネルMOSトラン
    ジスタ及び第3のNチャネルMOSトランジスタと、前
    記第2のPチャネルMOSトランジスタのソースと前記
    高電位電源端子との間に接続された第3のPチャネルM
    OSトランジスタと、その入力端が前記第1の出力トラ
    ンジスタのゲートに接続されその出力端が前記第3のP
    チャネルMOSトランジスタのゲートに接続された第2
    のインバータ回路とを備えたものであることを特徴とす
    る請求項1に記載の半導体メモリ装置の出力回路。
  3. (3)前記第1のゲート制御回路は、そのゲートを共通
    入力端としそのドレインを共通出力端とする相補対接続
    された第1のPチャネルMOSトランジスタ及び第1の
    NチャネルMOSトランジスタと、前記第1のNチャネ
    ルMOSトランジスタのソースと前記低電位電源端子と
    の間に接続されると共にそのゲートが前記共通入力端に
    接続されそのドレインが前記第2の出力トランジスタの
    ゲートに接続された第2のNチャネルMOSトランジス
    タとを備えたものであり、前記第2のゲート制御回路は
    、そのゲートを共通入力端としそのドレインを共通出力
    端とする相補対接続された第2のPチャネルMOSトラ
    ンジスタ及び第3のNチャネルMOSトランジスタと、
    前記第2のPチャネルMOSトランジスタのソースと前
    記高電位電源端子との間に接続されると共にそのゲート
    が前記共通入力端に接続されそのドレインが前記第1の
    出力トランジスタのゲートに接続された第3のPチャネ
    ルMOSトランジスタとを備えたものであることを特徴
    とする請求項1に記載の半導体メモリ装置の出力回路。
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