JPH04112445A - 電子分光分折装置 - Google Patents
電子分光分折装置Info
- Publication number
- JPH04112445A JPH04112445A JP2231134A JP23113490A JPH04112445A JP H04112445 A JPH04112445 A JP H04112445A JP 2231134 A JP2231134 A JP 2231134A JP 23113490 A JP23113490 A JP 23113490A JP H04112445 A JPH04112445 A JP H04112445A
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- electron
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- electron beam
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Links
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
試料面に励起線を照射したとき、試料から放出される電
子の持っているエネルギーを分析(分光)することによ
り、試料の成分2g、子結合状態等についての情報が得
られる。このような試料の表面分析法として、試料をX
線とか紫外線で照射したとき試料から放出される光電子
を分光する光電子分光分析法とか試料に電子線を照射し
たとき試料から放射される種々な電子例えば2次電子。
子の持っているエネルギーを分析(分光)することによ
り、試料の成分2g、子結合状態等についての情報が得
られる。このような試料の表面分析法として、試料をX
線とか紫外線で照射したとき試料から放出される光電子
を分光する光電子分光分析法とか試料に電子線を照射し
たとき試料から放射される種々な電子例えば2次電子。
反射電子、オージェ電子等をその有するエネルギーによ
って選別検出する分析法がある。本発明はこのような電
子分光分析装置特に光電子分光分析装置に関する。
って選別検出する分析法がある。本発明はこのような電
子分光分析装置特に光電子分光分析装置に関する。
(従来の技術)
光電子分光法では試料表面の元素組成が分かり、試料表
面の元素分布を知ることができる。所で試料表面の元素
分布を知るためには、成る特定の元素より放射される光
電子による試料表面の像を形成する必要がある。このた
め通常は、試料面の所定範囲をX&!で照射し、電子レ
ンズ系で、試料面から放出される光電子による試料面の
像を形成し、この像面に入射スリットを位置させて電子
エネルギー分析器を配置し、この入射スリット面上で光
電子の像をX 、 y 2方向に移動させる光電子偏向
電極を電子レンズ系内に設けて、相対的に入射スリット
により光電子像を走査するようにしている。
面の元素分布を知ることができる。所で試料表面の元素
分布を知るためには、成る特定の元素より放射される光
電子による試料表面の像を形成する必要がある。このた
め通常は、試料面の所定範囲をX&!で照射し、電子レ
ンズ系で、試料面から放出される光電子による試料面の
像を形成し、この像面に入射スリットを位置させて電子
エネルギー分析器を配置し、この入射スリット面上で光
電子の像をX 、 y 2方向に移動させる光電子偏向
電極を電子レンズ系内に設けて、相対的に入射スリット
により光電子像を走査するようにしている。
(発明が解決しようとする課題)
上述した従来の電子分光分析装置では、試料面の元素分
布像が得られるのみで、試料表面の全体像が得られない
ため、試料表面の外観的な状態と元素分布の関係を明ら
かにしたり、元素分析を行うべき場所を適切に選択する
ことが難しかった。
布像が得られるのみで、試料表面の全体像が得られない
ため、試料表面の外観的な状態と元素分布の関係を明ら
かにしたり、元素分析を行うべき場所を適切に選択する
ことが難しかった。
従って本発明は光電子分光分析装置で試料面の同じ場所
の全体像をも観察可能にしようとするものである。
の全体像をも観察可能にしようとするものである。
(課題を解決するための手段)
試料面を照射するX線、紫外線等の電磁波源と、試料面
より放出される光電子による試料面の像を形成する電子
光学系と、同電子光学系の像面に入射スリットを位置さ
せた電子エネルギー分析器と、上記電子光学系内に配置
されたx、y走査用電子偏向手段と、試料面に電子ビー
ムを収束照射せしめる電子線源と、上記電子偏向手段と
同期して、電子エネルギー分析器が1こらむ試料面上の
点を上記電子ビームが照射するように同電子ビームを偏
向させる手段とよりなる電子分光分析装置を提供する。
より放出される光電子による試料面の像を形成する電子
光学系と、同電子光学系の像面に入射スリットを位置さ
せた電子エネルギー分析器と、上記電子光学系内に配置
されたx、y走査用電子偏向手段と、試料面に電子ビー
ムを収束照射せしめる電子線源と、上記電子偏向手段と
同期して、電子エネルギー分析器が1こらむ試料面上の
点を上記電子ビームが照射するように同電子ビームを偏
向させる手段とよりなる電子分光分析装置を提供する。
更に上述装置において2次電子検出器を付設し、2次電
子検出信号を映像表示させるようにした。
子検出信号を映像表示させるようにした。
(作用)
本発明は従来の光電子分光分析装置で試料面の光電子像
の走査と同期して電子ビームによる走査をも行い得るよ
うlこしたものである。電子ビームで試料面を照射すれ
ば試料面からは2次電子とか反射電子等が放出され、そ
の放出点は試料面上でエネルギー分析器かにらんでいる
点と一致しているので、2次電子等もエネルギー分析器
で検出され、映像化することができる。光電子のエネル
ギーは元素により特定されているが、2次電子2反射電
子等は広いエネルギー範囲(こ分布しているので、試料
面に電磁波を照射している間でも、エネで、試料面に電
磁波を照射している間でも、エネルギー分析器の選別エ
ネルギーを変えることにより光電子と2次電子等とを区
別して検出することができ、エネルギー分析器により、
2次電子と反射電子(反射電子は高エネルギー)とを区
別して検出することができる。従って試料面の同一場所
の光電子像と2次電子像或は反射電子像とを略々同時に
観察することが可能となる。
の走査と同期して電子ビームによる走査をも行い得るよ
うlこしたものである。電子ビームで試料面を照射すれ
ば試料面からは2次電子とか反射電子等が放出され、そ
の放出点は試料面上でエネルギー分析器かにらんでいる
点と一致しているので、2次電子等もエネルギー分析器
で検出され、映像化することができる。光電子のエネル
ギーは元素により特定されているが、2次電子2反射電
子等は広いエネルギー範囲(こ分布しているので、試料
面に電磁波を照射している間でも、エネで、試料面に電
磁波を照射している間でも、エネルギー分析器の選別エ
ネルギーを変えることにより光電子と2次電子等とを区
別して検出することができ、エネルギー分析器により、
2次電子と反射電子(反射電子は高エネルギー)とを区
別して検出することができる。従って試料面の同一場所
の光電子像と2次電子像或は反射電子像とを略々同時に
観察することが可能となる。
もちろん電磁波と電子ビームを同時に試料に照射しなく
ても、相互切換えて照射し、両方の像を別々に観察して
も、試料面の形状像と元素分布或は状態分布の関係を知
る上では同じように有効である。更に別途2次電子検出
器を付設しておくと試料面の同じ場所の更1こ映像分解
能の良い走査型電子顕微鏡像をも得ることが可能となる
。
ても、相互切換えて照射し、両方の像を別々に観察して
も、試料面の形状像と元素分布或は状態分布の関係を知
る上では同じように有効である。更に別途2次電子検出
器を付設しておくと試料面の同じ場所の更1こ映像分解
能の良い走査型電子顕微鏡像をも得ることが可能となる
。
(実施例)
第1図に本発明の一実施例を示す。図で1は2重球面電
極型電子エネルギー分析器で、11はその入射スリット
、12は電子検出器であり、2は試料Sから放射される
光電子による試料面の像を入射スリット11の存る面上
に形成する電子光学系であり、22はこの電子光学系内
に配置されたx、y方向電子偏向電極である。3は試料
面にX線を照射するX線源、4は試料面に電子ビームe
を収束させる電子線源、5は電子ビームを試料面上でx
、y方向に偏向させる偏向コイルである。
極型電子エネルギー分析器で、11はその入射スリット
、12は電子検出器であり、2は試料Sから放射される
光電子による試料面の像を入射スリット11の存る面上
に形成する電子光学系であり、22はこの電子光学系内
に配置されたx、y方向電子偏向電極である。3は試料
面にX線を照射するX線源、4は試料面に電子ビームe
を収束させる電子線源、5は電子ビームを試料面上でx
、y方向に偏向させる偏向コイルである。
6は試料Sの側方に配置された2次電子検出器である。
7はx、y方向走査信号発生回路、Sは走査信号発生回
路7の出力信号を偏向コイル5の偏向信号電流に変換す
る信号変換回路で、10は試料面の光電子像を映出する
CRT、13は試料から放射される2次電子による試料
面像を映出するCRTである。映像信号切換スイッチに
より、CRTIOによって光電子像と2次電子像を切換
え表示させるようにしてCRT13は無しにしてもよい
。CRTIo、13は走査信号発生回路7の出力により
、試料面の走査と同期して作動せしめられる。14はエ
ネルギー分析B1に印加する電圧を発生する電圧源で、
エネルギー分析器に印加する電圧を変えことにより、電
子検出器12に入射する電子の初エネルギーを変えるこ
とができる。
路7の出力信号を偏向コイル5の偏向信号電流に変換す
る信号変換回路で、10は試料面の光電子像を映出する
CRT、13は試料から放射される2次電子による試料
面像を映出するCRTである。映像信号切換スイッチに
より、CRTIOによって光電子像と2次電子像を切換
え表示させるようにしてCRT13は無しにしてもよい
。CRTIo、13は走査信号発生回路7の出力により
、試料面の走査と同期して作動せしめられる。14はエ
ネルギー分析B1に印加する電圧を発生する電圧源で、
エネルギー分析器に印加する電圧を変えことにより、電
子検出器12に入射する電子の初エネルギーを変えるこ
とができる。
上述実施例において、エネルギー分析器1の電圧源の出
力電圧を試料面からの2次電子を検出し得る適当な電圧
に設定して、電子ビームeにより試料面を走査すると、
CRTIOに試料面の2次電子像が得られる。そこでそ
の像を見ながら試料Sを移動させ、分析しようと思う個
所を探し、その個所をCRTIOの視野中心に持って来
て、試料面にX線を照射し、電子ビームの照射を止めて
エネルギー分析器の電圧源14の出力電圧を分布を調べ
ようとする元素の光電子が検出できる電圧に設定すると
、CRTIOには目的元素の分布を示す像が表示される
。この構成により随時光電子像と2次電子像を切換えて
観察することができる。
力電圧を試料面からの2次電子を検出し得る適当な電圧
に設定して、電子ビームeにより試料面を走査すると、
CRTIOに試料面の2次電子像が得られる。そこでそ
の像を見ながら試料Sを移動させ、分析しようと思う個
所を探し、その個所をCRTIOの視野中心に持って来
て、試料面にX線を照射し、電子ビームの照射を止めて
エネルギー分析器の電圧源14の出力電圧を分布を調べ
ようとする元素の光電子が検出できる電圧に設定すると
、CRTIOには目的元素の分布を示す像が表示される
。この構成により随時光電子像と2次電子像を切換えて
観察することができる。
第2図は特に光電子像と2次電子像との同時観察を可能
にした本発明の他の実施例の回路部分を示す。この実施
例は装置の主要部の構成は第1図の実施例と同じで、信
号処理の仕方が上述実施例と異るものである。エネルギ
ー分析器1の電子検出器12の出力信号はバイパスフィ
ルタHFとローパスフィルタLFを通して二つに分けら
れ、HFを通った信号がCRTIOに印加され、LFを
通った信号がCRT13に印加される。CRTI3には
切換えスイッチSwを通して2次電子検出器6の出力信
号を印加することができる。
にした本発明の他の実施例の回路部分を示す。この実施
例は装置の主要部の構成は第1図の実施例と同じで、信
号処理の仕方が上述実施例と異るものである。エネルギ
ー分析器1の電子検出器12の出力信号はバイパスフィ
ルタHFとローパスフィルタLFを通して二つに分けら
れ、HFを通った信号がCRTIOに印加され、LFを
通った信号がCRT13に印加される。CRTI3には
切換えスイッチSwを通して2次電子検出器6の出力信
号を印加することができる。
試料面に電子ビームeとX線とを同時照射していると、
試料面からは光電子と2次電子等とが同時に発生してい
る。試料面から放射される電子のエネルギースペクトル
の低エネルギー領域は第3図に示すように、2次電子の
ゆるやかな山の上に光電子の小さなビークPが乗った形
になっている。この山の高さは試料面を電子ビームeで
走査するのに従い、試料面の形状によって変動し、ビー
クPの高さはそのビークを現わしている元素の分布によ
って変化している。エネルギー分析器1の電圧源14の
出力を上記したビークPのエネルギーを中心に成る輻に
相当する範囲で電子ビームeのX方向走査周期より充分
高い周期で振動させると、電子検出器12の出力信号の
高周波成分の振幅は上記したビークPの高さを表わし、
低周波成分は第3図の2次電子の山のビークPが存る位
置の高さを表わすので、CRTloには元素分布像が、
CRT13には同じ場所の2次電子像が夫々同時に映出
される。バイパスフィルタHFO所は電圧源14の電圧
の振動周期に合わせたロックインアンプにしておくこと
により、電子検出器12の出力をより厳密に光電子信号
と2次電子信号とに弁別することができる。
試料面からは光電子と2次電子等とが同時に発生してい
る。試料面から放射される電子のエネルギースペクトル
の低エネルギー領域は第3図に示すように、2次電子の
ゆるやかな山の上に光電子の小さなビークPが乗った形
になっている。この山の高さは試料面を電子ビームeで
走査するのに従い、試料面の形状によって変動し、ビー
クPの高さはそのビークを現わしている元素の分布によ
って変化している。エネルギー分析器1の電圧源14の
出力を上記したビークPのエネルギーを中心に成る輻に
相当する範囲で電子ビームeのX方向走査周期より充分
高い周期で振動させると、電子検出器12の出力信号の
高周波成分の振幅は上記したビークPの高さを表わし、
低周波成分は第3図の2次電子の山のビークPが存る位
置の高さを表わすので、CRTloには元素分布像が、
CRT13には同じ場所の2次電子像が夫々同時に映出
される。バイパスフィルタHFO所は電圧源14の電圧
の振動周期に合わせたロックインアンプにしておくこと
により、電子検出器12の出力をより厳密に光電子信号
と2次電子信号とに弁別することができる。
(発明の効果〉
本発明電子分光分析装置は上述したような構成で、試料
面の光電子像と共に同じ場所の試料面の状態をより分解
能の高い映像で表現する2次電子或は反射電子像をも併
せて観察することができるので、試料面の分析を行いた
い個所の選定が容易になり、試料面の状態と元素分布と
の関係の調査を容易正確に行うことができるようになっ
た。
面の光電子像と共に同じ場所の試料面の状態をより分解
能の高い映像で表現する2次電子或は反射電子像をも併
せて観察することができるので、試料面の分析を行いた
い個所の選定が容易になり、試料面の状態と元素分布と
の関係の調査を容易正確に行うことができるようになっ
た。
第1図は本発明の一実施例装置の構成を示すブロック図
、第2図は他の実施装置の要部を示すブロック図、第3
図は同実施例の動作を説明するグラフである。 1・・・電子エネルギー分析器、2・・・電子光学系、
21・・・偏向電極、3・・・X線源、4・・・電子線
源、5・・・偏向コイル、6・・・2次電子検出器、7
・・・走査信号発生回路、10.13・・・CRT、1
4・・・エネルギー分析器lの電圧源。 代理人 弁理士 縣 浩 介
、第2図は他の実施装置の要部を示すブロック図、第3
図は同実施例の動作を説明するグラフである。 1・・・電子エネルギー分析器、2・・・電子光学系、
21・・・偏向電極、3・・・X線源、4・・・電子線
源、5・・・偏向コイル、6・・・2次電子検出器、7
・・・走査信号発生回路、10.13・・・CRT、1
4・・・エネルギー分析器lの電圧源。 代理人 弁理士 縣 浩 介
Claims (2)
- (1)試料面を照射するX線、紫外線等の電磁波源と、
試料面より放出される光電子による試料面の像を形成す
る電子光学系と、同電子光学系の像面に入射スリットを
位置させた電子エネルギー分析器と、上記電子光学系内
に配置されたx、y走査用電子偏向手段と、試料面に電
子ビームを収束照射せしめる電子線源と、上記電子偏向
手段と同期して、電子エネルギー分析器がにらむ試料面
上の点を上記電子ビームが照射するように同電子ビーム
を偏向させる手段とよりなる電子分光分析装置。 - (2)2次電子検出器を付設し、2次電子検出信号を映
像表示させるようにした請求項1記載の電子分光分析装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2231134A JPH04112445A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 電子分光分折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2231134A JPH04112445A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 電子分光分折装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04112445A true JPH04112445A (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=16918816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2231134A Pending JPH04112445A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 電子分光分折装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04112445A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07183343A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Nec Corp | X線光電子分光分析装置 |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP2231134A patent/JPH04112445A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07183343A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Nec Corp | X線光電子分光分析装置 |
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