JPH04112444A - 電子分光分析装置 - Google Patents

電子分光分析装置

Info

Publication number
JPH04112444A
JPH04112444A JP2230017A JP23001790A JPH04112444A JP H04112444 A JPH04112444 A JP H04112444A JP 2230017 A JP2230017 A JP 2230017A JP 23001790 A JP23001790 A JP 23001790A JP H04112444 A JPH04112444 A JP H04112444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron
cma
specimen
electron beam
optical axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2230017A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3055157B2 (ja
Inventor
Hiroyoshi Soejima
啓義 副島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2230017A priority Critical patent/JP3055157B2/ja
Publication of JPH04112444A publication Critical patent/JPH04112444A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3055157B2 publication Critical patent/JP3055157B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〉 本発明は試料に電子ビームを照射したとき試料から放出
される電子のエネルギー分析を行うことにより試料につ
いての分析情報を得る電子分光分析装置に関する。
(従来の技術) 試料に電子ビームを照射したとき試料から放出される電
子のエルギースペクトルは広いエネルギー範囲に広がっ
ているが、低エネルギー領域;こおけるゆるやかな広い
山は2次電子のスペクトルであり、この2次電子のエネ
ルギースペクトルのゆるやかな山に乗って小さなピーク
が検出されろ。
このピークはオージェ電子によるものであって、このオ
ージェ電子を検出することにより試料内の元素の結合状
態等を知ることかできる。従来このオージェ電子を検出
するオージェ電子分光分析装置にはエネルギー分析器と
して感度の良い円筒鏡型エネルギー分析器(CMA)が
用いられている。
上述したCMAは高感度と云う利点はあるが、焦点深度
が浅(視界がせま(て、試料面の分析点を精密にCMA
の焦点位置に合せる必要があり、試料像面を走査しても
極くせまい範囲の分析しかできない。
(発明が解決しようとする課題) 本発明はCMAを用いた電子分光分析装置て試1面の広
い範囲を分析可能にする或は広範囲の低倍率像を得られ
るようにしようとするものである。
(:4Bを解決するための手段) 電子ビームを試料面に照射する電子線源と、電子ビーム
で試料面を走査するように上記電子ビームをx、y方向
に偏向させる偏向手段と、試料面上の一点に焦点位置を
有するC M Aと、このCMAと試料面との間に配置
されたx、y方向の電子偏向手段とを有し、上記電子ビ
ームの試料面照射点が上記CMAの焦点となるように上
記二組の電子偏向手段を同期して作動させるようにした
電子分光分析装置を提供する。
(作用) CMAと試料面との間に電子偏向手段が配置しであるの
で、CMAの光軸は電子偏向手段によって曲げられ、焦
点位置が電子偏向手段の動作によって試料面を走査する
。CMAの自身の像の視界はせまいが、この構成によっ
てCMAの視点が試料面を走査するので、特定のエネル
ギーの電子による広い範囲の試料像を得ることができる
。CMAに入射する電子は試料面を励起線で照射するこ
とにより試料から放出された電子であるから、CMAの
焦点が試料面を走査するだけでは試料面の像は得られな
いが、試料面を照射する電子ビームがCMAの光軸の試
料面走査と同期して試料面を走査し、電子ビーム照射点
とCMAの焦点とか常に一致していることによって試料
綿花等放射される特定エネルギーの電子による試料面の
像が得られるのである。
(実施例) 図面は本発明の一実施例装置を示す。図で1は円筒鏡型
エネルギー分析器(CMA)で、2は電子検出器である
。鎖線AはCMAの光軸で、Sは試料であり、0は光軸
Aと試料面との交点でCMAlの焦点と一致させである
。光軸Aを中心にして、x、y両方位向への電子偏向電
極3が配置しである。4は電子線源で、鎖MEはその光
軸であり、光軸Eは0点で試料面と交わるようにしてあ
り、電子ビームは0点に集束せしめられるようになって
いる。光軸Eを囲んでx、y2方向への電子ビーム偏向
電極5が配置されている。6は走査信号発生器で、その
出力が二組の偏向電極3,5に印加され、CMAIの光
軸Aと電子源4の光軸Eは夫々の偏向電極によって曲げ
られ、両者の試料面との交点は常に一致しながら試料面
を走査する。なお走査信号発生器6の出力は電子ビーム
偏向電極5に直接印加されるのではなく、途中に信号変
換回路7が挿入しである。CMAの光軸Aは試料面に対
して垂直であるから、偏向電極3に印加するX方向、y
方向の走査信号は振幅一定の直線的鋸歯状波形でよいが
、電子線源4の光軸Eは試料面に対し傾いているので、
X方向(図の紙面に垂直)の偏向信号は直線鋸歯状波で
あっても、その振幅がyの増加方向(図矢印y)に段々
小さ(なるようにしなければならないし、y方向走査信
号も直線鋸歯状歯ではX方向走査線のかんか(がyの増
加につれて次第に広がって来るから、信号の値の増加率
がyの増加と共に減少して行(ようになっている必要が
ある。信号変換回路7は上述した要求に合せて走査信号
発生器6の出力信号を変換するものである。
図で8は電子検出器2の出力を増幅するプリアンプ、9
はバイパスフィルタ、10はロックインアンプである。
11はCMAに印加する電圧源で、CMA印加電圧を変
えることにより、CMAを通過して電子検出器2に入射
できる電子のエネルギーが変化する。12は高周波発振
器で、その出力は電圧源11の出力電圧に重畳してCM
Aに印加される。ロックインアンプ10は検出信号の周
波数がこの高周波発振器の出力周波数に合せである。ロ
ックインアンプ10の出力がCRT13に輝度信号とし
て印加され、CRT13は走査信号発生器6の出力によ
り走査されて試料面の像を形成する。
オージェ電子は試料から放出される2次電子の広いゆる
やかなエネルギースペクトルの山に乗った小さなピーク
として存在するので、電子検出器2の出力をそのま\C
RT13に入力しても、試料面の2次電子像が観察され
るだけである。上述構成によってCMAに印加する電圧
を高周波によって浅く変調しておくことにより、オージ
ェ電子のスペクトルビークを中心に小さなエネルギー幅
の範囲を走査し、電子検出器2の出力信号から、上記高
周波と同じ周波数の成分だけをロックインアンプ10で
抽出することによりオージェ電子の検出信号が得られる
ことになる。
14は制御装置であって、種々な制御動作を行っている
が、その中の一つの動作として、CMAIに印加する電
圧源11の出力電圧を変えたとき、それに合せて走査信
号発生器6の出力電圧の振幅を変える動作がある。これ
はCM AO印加電圧を変えると検出される電子のエネ
ルギーが変化するが、電子のエネルギーが異ると、偏向
電極3.5による電子の偏向角が異なってくるから、選
択したエネルギーの如何に関せず、試料面の同じ広さの
範囲を走査できるようにするためである。
上述実施例ではCMAや電子m源の高軸A、Eを曲げる
のに偏向電極3.5を用いているが、これは走査用の偏
向コイルにしてもよいことは云うまでもない。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例装置の構成を示すブロック図であ
る。 1・・・円筒鏡型エネルギー分析器(CMA) 、2・
・電子検出器、3・・・偏向電極、4・・・電子線源、
5・・電子ビーム偏向電極、S・・・試料、6・・・走
査信号発生器、7・・・信号変換回路、8・・・プリア
ンプ、9・・・バイパスフィルタ、10・・・ロックイ
ンアンプ、11・・・CM Aの印加電圧源、12・・
・高周波発振器、13・・・CRT、14・・・制御装
置。 代理人  弁理士 縣  浩 介

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子ビームを試料面に照射する電子線源と、電子ビーム
    で試料面を走査するように上記電子ビームをx、y方向
    に偏向させる偏向手段と、試料上の一点に焦点位置を有
    するCMAと、このCMAと試料面との間に配置された
    x、y方向の電子偏向手段とを有し、上記電子ビームの
    試料面照射点が上記CMAの焦点となるように上記二組
    の電子偏向手段を同期して作動させるようにした電子分
    光分析装置。
JP2230017A 1990-08-30 1990-08-30 電子分光分析装置 Expired - Fee Related JP3055157B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2230017A JP3055157B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 電子分光分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2230017A JP3055157B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 電子分光分析装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04112444A true JPH04112444A (ja) 1992-04-14
JP3055157B2 JP3055157B2 (ja) 2000-06-26

Family

ID=16901271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2230017A Expired - Fee Related JP3055157B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 電子分光分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3055157B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8486595B2 (en) 2009-09-10 2013-07-16 Ricoh Company, Ltd. Image bearing member, image forming apparatus, and process cartridge

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8486595B2 (en) 2009-09-10 2013-07-16 Ricoh Company, Ltd. Image bearing member, image forming apparatus, and process cartridge

Also Published As

Publication number Publication date
JP3055157B2 (ja) 2000-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001194305A (ja) 蛍光相関分光解析装置
WO2022091234A1 (ja) 荷電粒子ビーム装置および試料観察方法
JPH04112444A (ja) 電子分光分析装置
JPH0712755A (ja) 電子線装置の調整方法および装置
JPS5811569B2 (ja) デンシブンコウソウチ
JPH0119804Y2 (ja)
JP2001167726A (ja) 仕事関数像生成装置
JPH11326205A (ja) レーザブレイクダウン分光分析装置
JPH0723878B2 (ja) X線光電子分光装置
JPH02145950A (ja) X線光電子分析装置
JPH04112445A (ja) 電子分光分折装置
JPS6233546B2 (ja)
JPH10213556A (ja) 表面元素分析装置及び分析方法
SU1091251A1 (ru) Способ микроанализа гетерофазных объектов
JPS5814038A (ja) 電子ビ−ムマクロアナライザを用いた鋼板分析装置
JP2001236916A (ja) 電子線装置
JPH01274050A (ja) X線光電子分析装置
JPS627974B2 (ja)
JPS62108443A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0782828B2 (ja) 微小部分分析装置
JPS5945173B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPS59159057A (ja) X線光電子分光装置
JPS61281954A (ja) 光電子分析装置
JPS61184445A (ja) X線光電子分光装置
JPS5851452A (ja) 分析電子顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080414

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090414

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100414

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees