JPH04110755U - 化学気相蒸着装置のワークホルダー - Google Patents

化学気相蒸着装置のワークホルダー

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JPH04110755U
JPH04110755U JP1829291U JP1829291U JPH04110755U JP H04110755 U JPH04110755 U JP H04110755U JP 1829291 U JP1829291 U JP 1829291U JP 1829291 U JP1829291 U JP 1829291U JP H04110755 U JPH04110755 U JP H04110755U
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三千範 岩本
友和 平戸
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株式会社エステツク
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ワークに均一な薄膜を生成できる化学気相蒸着
装置のワークホルダーを提供する。 【構成】ワークホルダー3をパイプ状に形成し、レトル
ト1内に縦置きに配置するとともに、そのワークホルダ
ー3内に、ワーク4を載せる仕切り板5を略水平に設
け、その仕切り板5には、蒸着ガスの流通を許容する細
孔6を穿設形成し、その仕切り板5により、ワークホル
ダー3の内部を、上側の蒸着室7と下側の排気室8とに
分別し、下側の排気室8から真空引きすることにより、
レトルト1内に導入した蒸着ガスを強制的に上側の蒸着
室7に流入させ、仕切り板5上のワーク4に蒸着ガスを
万遍なくゆき渡らせるようにしている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は化学気相蒸着法用のワークホルダーに係り、詳しくは、レトルト内に 配置されて、蒸着ガスにより表面に薄膜を生成させるワークを支持するためのワ ークホルダーに関する。
【0002】
【従来の技術】
各種機械部品等の金属製のワークの表面に薄膜を生成させる方法として化学気 相蒸着法が公知である。これは、ガス状の材料に熱や光、プラズマ等のエネルギ ーを加え、気相のガス分子を分解して基盤状に薄膜として堆積させる技術であり 、例えば、高温に加熱さたレトルト内にワークを配置し、真空引きにより外部か らレトルト内に蒸着ガスを導入・拡散せしめ、そのワークに対して蒸着ガスを半 ば強制的に流過させることにより、ワークの表面に蒸着ガスを被着一体化させる ようにしている。この方法によれば、ガス状の蒸着材料に減圧下で熱エネルギー を加え、ガス分子を分解してワーク表面に比較的に純度の高い均質な薄膜を生成 させることができる。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、この化学気相蒸着法では、ワークをレトルト内に配置した棚状もし くは受け台状に形成されたワークホルダー上に載置していた。そのため、そのワ ークホルダー上のワークと、レトルトの内壁との間には、出し入れに便なるよう に適当な隙間を形成していた。従って、レトルト内に導入された蒸着ガスのうち かなりの量がワークの表面に触れることなく、その隙間を素通りしてしまう傾向 があり、特にワークを密に配置した場合等には、蒸着ガスが各ワークのすみずみ まで充分にゆき渡らず、一部に蒸着むら発生することがあった。
【0004】 本考案は、このような実情に鑑みてなされたもので、ワークの表面に均一な薄 膜を生成させることができる化学気相蒸着装置のワークホルダーを提供すること を目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本考案は、外部からレトルト内に蒸着ガスを導入して、そのレトルト内に配置 したワークホルダー上のワークに蒸着材料を蒸着させるようにした化学気相蒸着 装置のワークホルダーにあって、前記課題を解決するための手段を以下のように 構成している。
【0006】 すなわち、前記ワークホルダーをパイプ状に形成して、前記レトルト内に縦置 きに配置するとともに、前記ワークホルダー内に、ワークを載せる仕切り板を略 水平に設け、前記仕切り板には、蒸着ガスの流通を許容する細孔を穿設形成し、 前記仕切り板により、前記ワークホルダーの内部を、上側の蒸着室と下側の排気 室とに分別している。このような構成により、前記ワークホルダー内の下側の排 気室から真空引きすることにより、前記レトルト内に導入した蒸着ガスを強制的 に上側の蒸着室に流入・拡散させるようにしている。
【0007】
【作用】
ワークホルダー内の下側の排気室から真空引きすることにより、外部からレト ルト内に導入した蒸着ガスを、パイプ状に形成したワークホルダー内の蒸着室に 強制的に流入・拡散させることにより、その蒸着室内の仕切り板上に載せられた ワークに万遍なく蒸着ガスをゆき渡らせ、その表面に蒸着材料を均一に被着一体 化させることができる。
【0008】
【実施例】
以下に、本考案を実施例に基づいて説明する。 本例に示す化学気相蒸着装置のワークホルダーは、ワークの表面に均一な薄膜 を生成させることができるように、以下の如く構成している。 図1に示すように、高温に加熱される釣鐘状のレトルト1が台盤2上に載置さ れ、その内部にパイプ状に形成されたワークホルダー3が縦置きに立設され、そ のワークホルダー3の略中間高さ位置には、ワーク4を載せる仕切り板5が略水 平に設けられている。その仕切り板5には、蒸着ガスの流通を許容する複数の細 孔6(図2参照)が穿設形成され、その仕切り板5によって、ワークホルダー3 の内部が、上側の蒸着室7と下側の排気室8とに上下に二分されている。
【0009】 ワークホルダー3とレトルト1の内壁との間には、蒸着ガスを供給する供給パ イプ9が挿通配置され、その上端を下方に屈曲させてワークホルダー3の上部に 臨ませる一方、その下部をレトルト1を支持している台盤2に貫通固定している 。そして、下側の排気室8下部の台盤2に設けた吸出口10には、真空引きをお こなうための排出パイプ11が接続されている。
【0010】 このような構成により、排出パイプ11からの真空引きにより、レトルト1内 のワークホルダー3の上部に外部から蒸着ガスを導入して、その蒸着ガスを強制 的に上側の蒸着室7に流入・拡散させ、そのワークホルダー3上に載置されてい るワーク4に対して充分にゆき渡らせ、むらのない蒸着をおこなうことができる 。つまり、ワークホルダー3内に導入された蒸着ガスは、その略中間高さ位置に 配置された仕切り板5の上に載置されたワーク4を包むように流過して仕切り板 5の各細孔6を通り、その下部の排気室8に流下する。従って、従来のように、 蒸着ガスが、ワーク4の表面に触れずにそのままその外側を素通りしてしまうよ うな非能率かつ不経済な難点が解消される。
【0011】 詳しく説明すると、装置の全体構成は、図3に示され、反応炉として機能する レトルト1の周囲には加熱ヒータ20,20が設けられ、その上流側には、バブ リング方式により液体の材料を気化させる液体材料供給ユニット14が配置され 、ガス制御ユニット15からマスフローコントローラ(図示省略)を介して高精 度の安定したガスの供給を受け、供給パイプ9を介して、気化した蒸着ガスがレ トルト1内に供給されるようになっている。その蒸着ガスは、ガス制御ユニット 15によって供給されるH2 、N2 、Ar 等のガスと、液体材料供給ユニット1 4から供給されるTi Cl4 等の液体材料とによって生成される金属のハロゲン 化物である。
【0012】 一方、レトルト1の下流側には、真空引きをおこなうための排出パイプ11に 接続されるロータリポンプ16と、その下流側に接続される排ガス処理ユニット 17とが設けられ、レトルト1を経由した蒸着・使用済みの蒸着ガスが外部に放 出されるようになっている。このロータリポンプ16と、レトルト1を加熱する ための加熱ヒータ20は、制御コンピュータ19からの指令により、予め記憶さ れたプログラムに従って制御作動され、ロータリポンプ16はレトルト1内の反 応圧力を減圧下で正確に調整し、加熱ヒータ20はホットウォール方式によりレ トルト1内部の反応雰囲気温度を正確に調整する。なお、レトルト1は1000 ℃を越える高温となるため、常時冷却する必要があり、冷却水を流通させるため の配管21がレトルト1の下部を通り別途配置されている。
【0013】 このレトルト1の内部には、蒸着ガスの拡散をより一層効果的におこなうため に、円形の分散皿12を、縦置きに立設されるパイプ状のワークホルダー3の上 部に支持させて略水平に設け、供給パイプ9の先端部の直下に臨ませている。こ れにより、供給パイプ9から供給される蒸着ガスは、まず、この分散皿12によ ってその周囲に分散され、真空引きによる拡散と相まって蒸着室7内で万遍なく ワーク4上に分散供給されてワーク4の隅々にゆき渡った後、仕切り板5に形成 された複数の細孔6を流下してその下部の排気室8に至る経路を辿る。
【0014】 従って、従来のように、蒸着ガスがワーク4に触れることなくその側を素通り してしまうような、あるいはゆき渡り不良となるような不経済かつ非能率なこと がなくなり、能率よくむらのない蒸着をおこなうことができる。なお、分散皿1 2には、ワークホルダー3の上端に転回自在に支持されるアーム22の先端に取 り付けられて、ワーク4の出し入れに便なるようにしている(図2参照)。
【0015】 そして、ワークホルダー3の下部には、貫通孔13,13を横方向に穿設形成 し(図2参照)、ワークホルダー3とレトルト1の内壁との間に浮遊する水分や 異物等を、蒸着後に排気室8に流下した蒸着ガスとともに、吸出口10から排出 パイプ11を介して外部に放出させ、蒸着室7内の蒸着ガスの純度を常に高く保 つようにして、品質のよい均一な薄膜を生成できるようにしている。
【0016】 一方、蒸着作業が終了すると、ワーク4は、ワークホルダー3とともにレトル ト1から容易に取り出すことができ、作業能率を良好なものとしている。なお、 ワーク4を段積みにする場合には、上下のワーク間に間隔を保てるように、蒸着 ガスの流通を許容するネットや簀子を張ったワーク載台23(図2参照)を用意 して、仕切り板5の上に重ねて載せ、その上にワーク4を置けばよい。
【0017】
【考案の効果】
以上説明したように、本考案の化学気相蒸着装置のワークホルダーは、パイプ 状に形成して、レトルト内に縦置きに配置するとともに、その内部に、ワークを 載せる仕切り板を略水平に設け、その仕切り板には、蒸着ガスの流通を許容する 細孔を穿設形成し、その仕切り板により、ワークホルダーの内部を、上側の蒸着 室と下側の排気室とに分別しているので、下側の排気室から真空引きすることに より、レトルト内に導入した蒸着ガスを、強制的に上側の蒸着室に流入・拡散さ せて万遍なくワークにゆき渡らせ、その表面に均一な薄膜を生成することができ る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の化学気相蒸着装置のワークホルダーを
レトルト内に配置した状態を示す断面図である。
【図2】分散皿を外方に転回させた状態のワークホルダ
ーの部分破断斜視図及びワーク載台の斜視図である。
【図3】装置の全体配置図である。
【符号の説明】
1─レトルト、3─ワークホルダー、4─ワーク、5─
仕切り板、6─細孔、7─蒸着室、8─排気室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部からレトルト内に蒸着ガスを導入し
    て、そのレトルト内に配置されたワークホルダー上のワ
    ークに蒸着材料を蒸着させるようにした化学気相蒸着装
    置に用いられるワークホルダーであって、前記ワークホ
    ルダーがパイプ状に形成されて、前記レトルト内に縦置
    きに配置されるとともに、前記ワークホルダー内に、ワ
    ークを載せる仕切り板が略水平に設けられ、前記仕切り
    板には、蒸着ガスの流通を許容する細孔が穿設形成され
    るとともに、前記仕切り板により、前記ワークホルダー
    の内部が、上側の蒸着室と下側の排気室とに分別され、
    前記ワークホルダー内の下側の排気室から真空引きする
    ことにより、前記レトルト内に導入した蒸着ガスを強制
    的に上側の蒸着室に流入・拡散させるようにしたことを
    特徴とする化学気相蒸着装置のワークホルダー。
JP1991018292U 1991-03-02 1991-03-02 化学気相蒸着装置のワークホルダー Expired - Lifetime JP2566440Y2 (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58206119A (ja) * 1982-05-27 1983-12-01 Agency Of Ind Science & Technol 薄膜生成装置
JPS6033352A (ja) * 1983-08-02 1985-02-20 Kokusai Electric Co Ltd 減圧cvd装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS58206119A (ja) * 1982-05-27 1983-12-01 Agency Of Ind Science & Technol 薄膜生成装置
JPS6033352A (ja) * 1983-08-02 1985-02-20 Kokusai Electric Co Ltd 減圧cvd装置

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