JPH04110058A - ロールコータ - Google Patents
ロールコータInfo
- Publication number
- JPH04110058A JPH04110058A JP22916990A JP22916990A JPH04110058A JP H04110058 A JPH04110058 A JP H04110058A JP 22916990 A JP22916990 A JP 22916990A JP 22916990 A JP22916990 A JP 22916990A JP H04110058 A JPH04110058 A JP H04110058A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- coating
- base plate
- substrate
- coating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 72
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 72
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
薄膜形成プロセスに於てシリコンウェハ・ガラス等の硬
質基板への高精度薄膜コーティング装置に関する。
質基板への高精度薄膜コーティング装置に関する。
従来の硬質基板用ロールコータは
■第5図に示すようにコートローラ1に対し、送られて
きた基板3が自重で接触し、基板裏面にコーティングす
るといった方式の装置、あるいは ■第6図に示すように非導電性ゴムローラで基板をコー
トローラに押し付ける方式の装置、であった。
きた基板3が自重で接触し、基板裏面にコーティングす
るといった方式の装置、あるいは ■第6図に示すように非導電性ゴムローラで基板をコー
トローラに押し付ける方式の装置、であった。
しかし、従来の方式には次のような課題がある。
■前項従来技術■(第5図)の方式では、基板の搬送速
度とコートローラと基板間ギャップが不安定で、例えば
基板がコートローラ通過後搬送ローラ10に接触時基板
がわずか持ち上げられ、あるいは基板の搬送速度が変化
しコート膜厚むらを生じる事があった。
度とコートローラと基板間ギャップが不安定で、例えば
基板がコートローラ通過後搬送ローラ10に接触時基板
がわずか持ち上げられ、あるいは基板の搬送速度が変化
しコート膜厚むらを生じる事があった。
■前項従来技術■(第6図)の方式では、コーティング
時にゴムローラに静電気が発生しコーテイング液がゴム
ローうに付着し、それが基板裏面に付着するという不具
合があった。
時にゴムローラに静電気が発生しコーテイング液がゴム
ローうに付着し、それが基板裏面に付着するという不具
合があった。
■コートローラ表面材質とコーテイング液との濡れ性が
良くないときに、コーティングバー表面に気泡が発生し
コーテイング膜上にはじく等むらが発生することがあっ
た。
良くないときに、コーティングバー表面に気泡が発生し
コーテイング膜上にはじく等むらが発生することがあっ
た。
■基板搬送ローラ等に汚れが付かないように基板幅より
も狭いコートローラを使用する場合にコートローラの両
サイドに当たる部分の膜厚が厚くなる傾向があった。
も狭いコートローラを使用する場合にコートローラの両
サイドに当たる部分の膜厚が厚くなる傾向があった。
■基板のコーティング終了部分の膜厚が基板中心部の膜
厚より厚くなる傾向があった。
厚より厚くなる傾向があった。
■コーティングバー表面のコーテイング液保持性をよく
するための溝がスパイラル状なだめコーティング時基板
が一方向に寄せられ基板搬送ガイドと擦れる傾向があっ
た。
するための溝がスパイラル状なだめコーティング時基板
が一方向に寄せられ基板搬送ガイドと擦れる傾向があっ
た。
■基板のコーティング始め部分の膜厚が所定膜厚より薄
くなる傾向があった。
くなる傾向があった。
以上の課題を解決し均一なコーティング膜厚を得る事を
目的とする。
目的とする。
以上の課題を解決するために本発明のロールコータは、
(1)基板をコートローラに押し付ける導電性ゴムロー
ラと、コートローラにたいするコート液のなじみ向上の
ためのブレードと、コートローラ両サイドのコート液か
きとりブレードと、基板後端のコート液をかき落とす掻
き落としパーとを有することを特徴とする。
ラと、コートローラにたいするコート液のなじみ向上の
ためのブレードと、コートローラ両サイドのコート液か
きとりブレードと、基板後端のコート液をかき落とす掻
き落としパーとを有することを特徴とする。
(2)前項(1)のロールコータでコートローラに同心
円状かつ1周毎に完結する溝を有することを特徴とする
。
円状かつ1周毎に完結する溝を有することを特徴とする
。
(3)前項1のロールコータでコーティング初期にコー
ティングローラを回転させた状態で一定時間基板搬送を
停止させる制御方法を有することを特徴とする。
ティングローラを回転させた状態で一定時間基板搬送を
停止させる制御方法を有することを特徴とする。
以下に本発明の実施例を第1図にもとづいて説明する。
搬送ローラ9により搬送された基板3が、コートローラ
1と基板押えゴムローラ2間の基板3の厚みより若干狭
く設定されたギャップ10に進入し基板裏面にコートロ
ーラよりコーテイング液が塗られる事になる。この時基
板の搬送速度は基板押えゴムローラ2の周速に支配され
る。従ってコートローラ1と基板押えゴムローラの周速
を厳密に合わせおかないと、基板とコートローラ間に滑
りが発生し、コーテイング面にキズあるいは滑りによる
発熱等でコーテイング液が凝固し盛り上がりの筋が発生
することがある。また、基板押えゴムローラ2の基板接
触面が若干変形することによる基板と基板押えゴムロー
ラに発生する静電気を逃がすために、基板押えゴムロー
ラのゴムの材質を電気導通性のあるものにすることが重
要である。
1と基板押えゴムローラ2間の基板3の厚みより若干狭
く設定されたギャップ10に進入し基板裏面にコートロ
ーラよりコーテイング液が塗られる事になる。この時基
板の搬送速度は基板押えゴムローラ2の周速に支配され
る。従ってコートローラ1と基板押えゴムローラの周速
を厳密に合わせおかないと、基板とコートローラ間に滑
りが発生し、コーテイング面にキズあるいは滑りによる
発熱等でコーテイング液が凝固し盛り上がりの筋が発生
することがある。また、基板押えゴムローラ2の基板接
触面が若干変形することによる基板と基板押えゴムロー
ラに発生する静電気を逃がすために、基板押えゴムロー
ラのゴムの材質を電気導通性のあるものにすることが重
要である。
これは基板押えゴムローラ表面に発生する静電気を除去
することが目的であることがら除電ブラシ、あるいは除
電ブロアー等を使用してもよいがゴミの発生を伴うこと
があり注意を要する。
することが目的であることがら除電ブラシ、あるいは除
電ブロアー等を使用してもよいがゴミの発生を伴うこと
があり注意を要する。
コートローラ1は、コート液の保持性を良くするために
溝加工されているか、あるいは細い金属ワイヤーを巻い
ていることが多いが、その微細な溝にコート液を充分充
填させるためにコート液中に樹脂等のブレード4を設は
コートローラと接触させである。
溝加工されているか、あるいは細い金属ワイヤーを巻い
ていることが多いが、その微細な溝にコート液を充分充
填させるためにコート液中に樹脂等のブレード4を設は
コートローラと接触させである。
第2図に示すように、基板1の両側は搬送ローラ等の汚
れ防止のためにコートしない部分をもうける事が多い、
そのためにコートローラの幅を基板の幅より短くする事
になるが、これによる基板塗り際の膜厚が厚くなる事を
防止するために、コートローラ1の両側のコート液掻き
落としブレード6を取り付けである。
れ防止のためにコートしない部分をもうける事が多い、
そのためにコートローラの幅を基板の幅より短くする事
になるが、これによる基板塗り際の膜厚が厚くなる事を
防止するために、コートローラ1の両側のコート液掻き
落としブレード6を取り付けである。
基板の塗り終わり部分は通常膜厚が厚くなる傾向があり
、それを防止するためにコートローラを通過した基板の
軒端から数ミリの所から軒端にかけて基板通過時に接触
するコート液掻き落とし軸5を設けである。このコート
液掻き落とし軸は基板上の使用しない数ミリの部分のコ
ート液を除去することが目的であり、金属の軸状のもの
でも樹脂のブレード状のものでもよい。
、それを防止するためにコートローラを通過した基板の
軒端から数ミリの所から軒端にかけて基板通過時に接触
するコート液掻き落とし軸5を設けである。このコート
液掻き落とし軸は基板上の使用しない数ミリの部分のコ
ート液を除去することが目的であり、金属の軸状のもの
でも樹脂のブレード状のものでもよい。
コートローラは、前述の様にコート液の保持性をよくす
るために表面に微細な溝を有するが、通常旋盤加工で形
成するか、細いワイヤーを巻くことで形成されている場
合が多く、第4図に示すようにスパイラル(ネジ)状の
溝となっている。この場合、特にコート方向に対し長い
基板のコーティングの時ネジの原理に基づき基板搬送8
の直角方向に寄せられる現象が発生した。これを防止す
るため、第3図に示すようにコートローラに、スパイラ
ル状でない同心かつ一周毎に完結する溝を設けた。
るために表面に微細な溝を有するが、通常旋盤加工で形
成するか、細いワイヤーを巻くことで形成されている場
合が多く、第4図に示すようにスパイラル(ネジ)状の
溝となっている。この場合、特にコート方向に対し長い
基板のコーティングの時ネジの原理に基づき基板搬送8
の直角方向に寄せられる現象が発生した。これを防止す
るため、第3図に示すようにコートローラに、スパイラ
ル状でない同心かつ一周毎に完結する溝を設けた。
基板3がコートローラと基板押えゴムローラとの間のコ
ートギャップ10に進入時、コート開始からしばらくの
間はコートローラと基板間にコート液だまりが成長する
時間、あるいは成長するまでのコート長さが必要である
。そのためにコート開始の基板端から数ミリの間は膜厚
が薄くなる現象があり、これを防ぐ為に、基板がコート
ギャップ11に進入した直後、基板搬送に寄与している
基板押えゴムローラ2を一定時間停止し基板搬送を停止
した状態でコートローラのみ回転させ、前記液だまりを
成長させた後に、基板押えゴムローラ2の回転を再開さ
せてコーティングするといった装置制御方法をとる。
ートギャップ10に進入時、コート開始からしばらくの
間はコートローラと基板間にコート液だまりが成長する
時間、あるいは成長するまでのコート長さが必要である
。そのためにコート開始の基板端から数ミリの間は膜厚
が薄くなる現象があり、これを防ぐ為に、基板がコート
ギャップ11に進入した直後、基板搬送に寄与している
基板押えゴムローラ2を一定時間停止し基板搬送を停止
した状態でコートローラのみ回転させ、前記液だまりを
成長させた後に、基板押えゴムローラ2の回転を再開さ
せてコーティングするといった装置制御方法をとる。
以上述べたように本発明によれば、
特許請求の範囲(1)に示すように、導電性ゴムローう
により基板をコートローラに押し付け、ブレードにより
コート液のコートローラへの馴染み性を向上させ、液掻
き落としブレードによりコートローラ両端のコート液を
掻き落とし、掻き落としバーにより基板後端のコート液
を掻き落とすことにより、ロールコートにより膜厚の均
一なコート面を得ることでき、かつコートローラがコー
テイング液で汚れてそれが基板の裏面を汚すことがない
といった効果がある。
により基板をコートローラに押し付け、ブレードにより
コート液のコートローラへの馴染み性を向上させ、液掻
き落としブレードによりコートローラ両端のコート液を
掻き落とし、掻き落としバーにより基板後端のコート液
を掻き落とすことにより、ロールコートにより膜厚の均
一なコート面を得ることでき、かつコートローラがコー
テイング液で汚れてそれが基板の裏面を汚すことがない
といった効果がある。
特許請求の範囲(2)に示すように、コートローラ状の
溝を同心円かつ一周毎に完結した溝とすることにより、
基板搬送の直進性を向上することができ、基板搬送ガイ
ドと基板との擦れを解消できるといった効果がある。
溝を同心円かつ一周毎に完結した溝とすることにより、
基板搬送の直進性を向上することができ、基板搬送ガイ
ドと基板との擦れを解消できるといった効果がある。
特許請求の範囲(3)に示すように、コーティング開始
初期にコーティングローラを回転させた状態で一定時間
基板搬送を停止させる制御方法を取ることにより、基板
コーティング初め部分の膜厚が薄くなることを防止する
ことができるといった効果がある。
初期にコーティングローラを回転させた状態で一定時間
基板搬送を停止させる制御方法を取ることにより、基板
コーティング初め部分の膜厚が薄くなることを防止する
ことができるといった効果がある。
第1図は、本発明のロールコータ断面図。
第2図は、本発明ロールコータの側面図。
第3図は、本発明のコーターバー溝形状図。
第4図は、従来技術のコーターバーの溝形状図。
第5図は、従来技術のロールコータ溝形状図。
第6図は、従来技術のロールコータ溝形状図。
1・・・コーターバー
2・・・基板押えゴムローラ
3・・・基板
4・・・ブレード
5・・・コート液掻き落とし軸
6・・・コート液掻き落としブレード
7・・・コート液溜
8・・・基板搬送方向
9・・・基板搬送ローラ
10・・・コートギャップ
11・・・コート溝
以 上
出願人 セイコーエプソン株式会社
代理人 弁理士 鈴木 喜三部 他1名¥3図
茅十図
Claims (3)
- (1)硬質基板に液体を高精度な膜厚でコートするロー
ルコータにおいて、基板をコートローラに押し付ける導
電性ゴムローラと、コートローラにたいするコート液の
なじみ向上のためのブレードと、コートローラ両サイド
のコート液かきとりブレードと、基板後端のコート液を
かき落とす掻き落としバーとを有することを特徴とする
ロールコータ。 - (2)コートローラに同心円状かつ一周毎に完結する溝
を有することを特徴とする請求項1記載のロールコータ
。 - (3)コーティング初期にコーティングローラを回転さ
せた状態で一定時間基板搬送を停止させる制御方法を有
することを特徴とする請求項1記載のロールコータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22916990A JPH04110058A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ロールコータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22916990A JPH04110058A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ロールコータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04110058A true JPH04110058A (ja) | 1992-04-10 |
Family
ID=16887872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22916990A Pending JPH04110058A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | ロールコータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04110058A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
CN103357539A (zh) * | 2012-04-11 | 2013-10-23 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 滚轮涂布装置 |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP22916990A patent/JPH04110058A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
US5558927A (en) * | 1992-09-17 | 1996-09-24 | Seiko Epson Corporation | Color filter for liquid crystal displays and film-forming apparatus |
CN103357539A (zh) * | 2012-04-11 | 2013-10-23 | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 | 滚轮涂布装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59150571A (ja) | 可撓性支持体の表面付着物除去方法 | |
WO1997007899A1 (en) | Reverse gravure kiss coating system with output roller | |
JPH04110058A (ja) | ロールコータ | |
US4298631A (en) | Method for smoothing both magnetic coat layers of magnetic recording medium | |
US20020072458A1 (en) | Device to reduce electrostatic pattern transfer in coating processes | |
JPH0461959A (ja) | ストリップの塗装方法 | |
JPH06170312A (ja) | バー塗布方法及び装置 | |
JP2000102757A (ja) | コーター装置及びストライプ状塗膜の製造方法 | |
JP2758480B2 (ja) | 搬送マットロールの製造法 | |
JPS6261669A (ja) | 塗膜平坦化装置 | |
JP4217939B2 (ja) | ロッド塗布方法及び装置 | |
JP2630491B2 (ja) | 凹溝付き板材の塗装方法とその装置 | |
JPH05337412A (ja) | バー塗布方法および塗布装置 | |
JPH0424574Y2 (ja) | ||
JP3179628B2 (ja) | 硬基板塗布方法 | |
JPH04156969A (ja) | 塗布装置 | |
JP2777764B2 (ja) | 塗料等の傾斜塗工方法 | |
JP3210744B2 (ja) | 塗布方法 | |
JPS62291005A (ja) | チップ抵抗器における電極被膜の塗布方法 | |
JPH0545023B2 (ja) | ||
JPH09312108A (ja) | 平角絶縁電線の塗料塗布方法 | |
JPH0543431B2 (ja) | ||
JPH0323985A (ja) | 顕色剤塗布装置 | |
JPH05309304A (ja) | 硬基板塗布装置 | |
JPH03232570A (ja) | ローラーカーテン塗装方法 |