JPH0410601A - 厚膜抵抗部品及びその製造方法 - Google Patents

厚膜抵抗部品及びその製造方法

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JPH0410601A
JPH0410601A JP2114810A JP11481090A JPH0410601A JP H0410601 A JPH0410601 A JP H0410601A JP 2114810 A JP2114810 A JP 2114810A JP 11481090 A JP11481090 A JP 11481090A JP H0410601 A JPH0410601 A JP H0410601A
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JP
Japan
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thick film
film resistor
substrate
trimming
electrodes
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JP2114810A
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English (en)
Inventor
Yukihiro Koyama
小山 幸宏
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、チップ抵抗器、高圧抵抗器、ハイブリットI
C,ネットワーク抵抗器及びその複合モジュール製品等
に用いられる厚膜抵抗部品及びその製造方法に関する。
(従来の技術) 従来の厚膜抵抗部品として、第4図及び第5図に示すも
のがある。
図中に示す厚膜抵抗部品11は、基板12と、この基板
12上に所定の間隙を有し形成された対向電極13.1
3と、この対向電極13.13の一部を含み前記所定の
間隙に形成された厚膜抵抗体14とを有し構成されてい
る。
そして、前記対向電極13.13は導体材料としてAu
、 Ag、 Cu及びPt/Au、 Pd/Au、 P
d/Ag等の合金含有ペーストを使用して、印刷焼成に
より形成される。その後、例えばRuO2系の抵抗材料
を主原料にペーストを印刷焼成することにより厚膜抵抗
体14を形成していた。この場合RuO2粒子がフリッ
ト剤であるガラス中で網状に分散し、RuO□粒子間の
接触抵抗により抵抗値を得るようになっていた。
(発明が解決しようとする課題) ところで上述したような従来の厚膜抵抗部品11及びそ
の製造方法では、対向電極13.13間の距離が短くな
ると(例えば1肛以下)、厚膜抵抗体焼成時あるいは長
期エージング(電力負荷)により、電極含有物である可
動性の高いAu、 AgCu、 Pt、 N等が厚膜抵
抗体に拡散し抵抗値の変動及び抵抗温度特性変動を引起
すという問題がある。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、対向電
極間の距離が短くなる場合であっても、厚膜抵抗体焼成
時あるいは長期エージング(電力負荷)により、電極含
有金属の抵抗体への拡散を防止でき、抵抗値の変動及び
抵抗温度特性変動を引起すことのない厚膜抵抗部品及び
その製造方法を提供することを目的とするものである。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために本発明は、基板と、この基板
上に所定の間隙を有し形成された対向電極と、この対向
電極の一部を含み前記所定の間隙に形成された厚膜抵抗
体とを有する厚膜抵抗部品において、前記基板の前記所
定の間隙に対応する部分に設けられた凹溝と、前記対向
電極の一部を含み前記凹溝に形成された略断面凹状の厚
膜抵抗体とを有することを特徴とし、また厚膜抵抗部品
の製造方法において、基板上の対向電極の一部とこの対
向電極間に設けられた凹溝とに厚膜抵抗体を形成する工
程と、この厚膜抵抗体をトリミング手段により凹状にト
リミングする工程とを含むことを特徴とするものである
(作 用) 基板の所定の間隙に対応する部分に設けられた凹溝に形
成された略断面凹状の厚膜抵抗体により、対向電極間の
距離が短くなる場合であっても、抵抗体焼成時あるいは
長期エージング(電力負荷)による電極含有金属の抵抗
体への拡散を防止することができる。
(実施例) 以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
第1図は本発明の一実施例を示す部分平面図、第2図は
第1図におけるA−A線断面図、第3図は本発明の一実
施例製造方法を示す工程図である。
図中に示す厚膜抵抗部品1は、幅d□を有する凹溝4を
具備する基板2と、この基板2上に所定の間隙d (d
≧d1)を有し形成された対向電極3.3と、この対向
電極3,3の一部を含み前記所定の間隙dに形成された
幅d0の凹溝4に略断面凹状の厚膜抵抗体5とを有し概
略構成されている。尚図中6は、適宜トリミング手段に
よってトリミングされたトリミング部である。尚、本実
施例では前記基板2に前記凹溝4を1個しか示していな
いが、必要に応じてその個数及び形状を変更して形成可
能であり、それに応じて前記厚膜抵抗体5も種々に形成
可能である。
次に、第3図をも参照して前記厚膜抵抗部品1の製造方
法を説明する。
まず、幅d1を有する凹溝4を具備した基板2を、例え
ばアルミナ等を原料にして形成する(ST1)。そして
、この基板2に例えばスクリーン印刷法により、例えば
導体材料としてAu含有ペーストを使用して、前記凹溝
4の両端側に所定の間隙dを有した対向電極3,3を印
刷しく5T2)、焼成する(S T 3)。次に、対向
電極3゜3の一部を含み前記所定の間隙dに形成された
幅d1の凹溝4に、例えばスクリーン印刷法により、例
えばRuO2系の抵抗材料を主原料にしたペーストをを
使用して厚膜抵抗体5を印刷しくS T 4)、焼成す
る(ST5)。この時、前記厚膜抵抗体5は第2図に一
点鎖線で示す箇所まで形成される。
そして、前記厚膜抵抗体5をYAGレーザ法(トリミン
グ手段)でトリミング部6をトリミングしく5T6)、
厚膜抵抗部品1を完成する。尚、前記トリミング手段は
、サンドブラスト法、放電加工法であってもよい。
上述した構成の厚膜抵抗部品1によれば、トリミング部
6をトリミングした略断面凹状の厚膜抵抗体5を有する
ため、対向電極3,3間の距離が短くなる場合であって
も、抵抗体焼成時、あるいは長期エージング(電力負荷
)による電極含有金属の厚膜抵抗体への拡散を防止でき
、その結果抵抗値の変動及び抵抗温度特性変動を引起す
ことがなくなる。またこれによって、略断面凹状(縦溝
構造(トレンチ構造)の厚膜抵抗体を形成すること)に
より、3次元設計が可能に成り高密度の厚膜抵抗体パタ
ーンの形成が可能に成るという効果も奏する。
以上一実施例について説明したが、本発明はこれに限定
されるものではなく、その要旨を変更せざる範囲内で種
々に変形実施することが可能である。
例えば、トリミング手段は上述した方法の他種々の方法
に変更しても良く、また、対向電極の導体材料としてA
g、Cu及びPt/Au、 Pd/Au、 Pd/Ag
等の合金含有ペーストを使用してもよく、さらに、厚膜
抵抗体はRuO□系に限らず、種々の抵抗材料を原料に
したペーストを使用してもよい。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、対向電極間の距離が
短くなる場合であっても、厚膜抵抗体焼成時あるいは長
期エージング(電力負荷)により、電極含有金属の抵抗
体への拡散を防止でき、抵抗値の変動及び抵抗温度特性
変動を引起すことのない厚膜抵抗部品及びその製造方法
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す部分平面図、第2図は
第1図におけるA−A線断面図、第3図は本発明の一実
施例製造方法を示す工程図、第4図は本発明の一実施例
を示す部分平面図、第5図は第4図におけるB−B線断
面図である。 1・・・厚膜抵抗部品、2・・・基板、3・・・対向電
極、4・・・凹溝、5・・・厚膜抵抗体。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)基板と、この基板上に所定の間隙を有し形成され
    た対向電極と、この対向電極の一部を含み前記所定の間
    隙に形成された厚膜抵抗体とを有する厚膜抵抗部品にお
    いて、前記基板の前記所定の間隙に対応する部分に設け
    られた凹溝と、前記対向電極の一部を含み前記凹溝に形
    成された略断面凹状の厚膜抵抗体とを有することを特徴
    とする厚膜抵抗部品。(2)厚膜抵抗部品の製造方法に
    おいて、基板上の対向電極の一部とこの対向電極間に設
    けられた凹溝とに厚膜抵抗体を形成する工程と、この厚
    膜抵抗体をトリミング手段により凹状にトリミングする
    工程とを含むことを特徴とする厚膜抵抗部品の製造方法
    。 (3)前記トリミング手段が、レーザ法、サンドブラス
    ト法、放電加工法のいずれか一つの方法である請求項2
    記載の厚膜抵抗部品の製造方法。
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