JPH04101827A - 二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方法 - Google Patents
二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方法Info
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- JPH04101827A JPH04101827A JP21825390A JP21825390A JPH04101827A JP H04101827 A JPH04101827 A JP H04101827A JP 21825390 A JP21825390 A JP 21825390A JP 21825390 A JP21825390 A JP 21825390A JP H04101827 A JPH04101827 A JP H04101827A
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は二輪延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルム
の製造方法に関する。さらに詳しくは、延伸時の破れ及
びピンホールがなく、厚さ積度に優れ、絶縁破壊電圧の
高い、且つ、加熱収縮率の低い二軸延伸ポリエーテルエ
ーテルケトンフィルムの製造方法に関する。
の製造方法に関する。さらに詳しくは、延伸時の破れ及
びピンホールがなく、厚さ積度に優れ、絶縁破壊電圧の
高い、且つ、加熱収縮率の低い二軸延伸ポリエーテルエ
ーテルケトンフィルムの製造方法に関する。
[従来の技術]
ポリエーテルエーテルケトン(以下、PEEKという)
は、最も耐熱性に優れた結晶性の熱可塑性樹脂に属し、
耐熱性に優れる他、耐薬品性、耐熱水性、慴動性等に極
めて優れた工業用材料である。
は、最も耐熱性に優れた結晶性の熱可塑性樹脂に属し、
耐熱性に優れる他、耐薬品性、耐熱水性、慴動性等に極
めて優れた工業用材料である。
従来より、コンデンサー等に用いられる絶縁材料にはポ
リエチレンテレフタレート等が用いられている。近年特
殊な環境下、特に高温下で用いられるコンデンサーの需
要が増加している。PEEKは、二軸延伸を行なう事に
より薄いフィルムとすることが出来、しかも耐熱性に優
れることから、高温下て用いられるコンデンサー用の絶
縁材料として注目されている。その他にもPEEKフィ
ルムは、電気工業分野、電子工業分野、原子カニ業分野
において電気絶縁材料に広く使用されようとしている。
リエチレンテレフタレート等が用いられている。近年特
殊な環境下、特に高温下で用いられるコンデンサーの需
要が増加している。PEEKは、二軸延伸を行なう事に
より薄いフィルムとすることが出来、しかも耐熱性に優
れることから、高温下て用いられるコンデンサー用の絶
縁材料として注目されている。その他にもPEEKフィ
ルムは、電気工業分野、電子工業分野、原子カニ業分野
において電気絶縁材料に広く使用されようとしている。
特開昭58−63417号公報には、一軸目の延伸を1
40〜180℃で1.5〜4倍延伸し、二軸目の延伸を
、一軸目の延伸方向との配向係数の差がo、i以下、和
が0.7以−トとなるように150〜200℃で延伸し
、200℃以−E融点以下の温度で20%以内の制限収
縮をさせながら熱固定する、等方性二軸配向PEEにフ
ィルムの製造方法が開示されている。
40〜180℃で1.5〜4倍延伸し、二軸目の延伸を
、一軸目の延伸方向との配向係数の差がo、i以下、和
が0.7以−トとなるように150〜200℃で延伸し
、200℃以−E融点以下の温度で20%以内の制限収
縮をさせながら熱固定する、等方性二軸配向PEEにフ
ィルムの製造方法が開示されている。
特開平01−101335号公報には、球状シリカ粒子
を分散含有させ、一軸目の延伸温度(Ti)を(ガラス
転移温度(Tg) −1o)〜(Tg +45) t:
で1.5倍以上延伸し、二軸目の延伸温度(Ti+15
)〜(Ti +40)℃で延伸し、200〜350℃で
熱固定する二軸配向PEEにフィルムが開示されている
。
を分散含有させ、一軸目の延伸温度(Ti)を(ガラス
転移温度(Tg) −1o)〜(Tg +45) t:
で1.5倍以上延伸し、二軸目の延伸温度(Ti+15
)〜(Ti +40)℃で延伸し、200〜350℃で
熱固定する二軸配向PEEにフィルムが開示されている
。
さらに、特開平01−283]27号公報には、延伸温
度を130〜250℃、延伸倍率を2〜5倍としてそれ
ぞれ一軸及び二軸延伸し、250℃〜融点の温度範囲で
熱固定するPEEKフィルムの製造方法が開示されてい
る。
度を130〜250℃、延伸倍率を2〜5倍としてそれ
ぞれ一軸及び二軸延伸し、250℃〜融点の温度範囲で
熱固定するPEEKフィルムの製造方法が開示されてい
る。
しかしながら、こわらの公報に開示される製造方法は、
何れも一軸延伸温度が高温であるため、一軸目の延伸時
に結晶化がおこるため、二軸目の延伸に際してフィルム
にピンホールが発生し易く、更にフィルムが破ねること
がある。このようなフィルムは、実用に耐え得る絶縁破
壊電圧を有しないため電気絶縁材料に用いることができ
ない。
何れも一軸延伸温度が高温であるため、一軸目の延伸時
に結晶化がおこるため、二軸目の延伸に際してフィルム
にピンホールが発生し易く、更にフィルムが破ねること
がある。このようなフィルムは、実用に耐え得る絶縁破
壊電圧を有しないため電気絶縁材料に用いることができ
ない。
特に、15μm以下の薄いフィルムを得る場合には、上
記公報に開示される温度条件でロール延伸を行なうと、
フィルムと延伸ロールとの密着性が強過ぎて、延伸の際
にフィルムが延伸ロールから剥離する位置が二つのロー
ル間の接線方向より先にずれ、均一な延伸が困難となり
易い。その結果、延伸バラツキが大きくなり、厚さ精度
の良いフィルムを得ることができない。この傾向は、延
伸量器m<延伸ロールの間隔)が短いほど現れ易い。
記公報に開示される温度条件でロール延伸を行なうと、
フィルムと延伸ロールとの密着性が強過ぎて、延伸の際
にフィルムが延伸ロールから剥離する位置が二つのロー
ル間の接線方向より先にずれ、均一な延伸が困難となり
易い。その結果、延伸バラツキが大きくなり、厚さ精度
の良いフィルムを得ることができない。この傾向は、延
伸量器m<延伸ロールの間隔)が短いほど現れ易い。
また、上記公報に開示される熱固定方法は、加熱収縮率
の小さいフィルムを得るためには、満足できる方法とは
いえない。
の小さいフィルムを得るためには、満足できる方法とは
いえない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、上記技術課題を解決し、二軸延伸PE
Eにフィルムを製造するに際し、延伸によるフィルム破
れ及びピンホールのない、厚さ精度の良好な、絶縁破壊
電圧の高い、二軸延伸PEEにフィルムの製造方法を提
供することにある。
Eにフィルムを製造するに際し、延伸によるフィルム破
れ及びピンホールのない、厚さ精度の良好な、絶縁破壊
電圧の高い、二軸延伸PEEにフィルムの製造方法を提
供することにある。
また、本発明の他の目的は、加熱収縮率の低い二軸延伸
PEEにフィルムの製造方法を提供することにある。
PEEにフィルムの製造方法を提供することにある。
[課題を解決するためのf段コ
本発明者等は、上記目的を達成するため鋭意検討した結
果、ついに本発明を完成するに至った。
果、ついに本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、非晶性のPEEKフィルムを用いて二軸
延伸PEEKフィルムを製造する方法において、一軸目
の延伸として50℃〜(フィルムのガラス転移温度−1
0)℃の温度範囲内で、フィルムにネッキング現象を起
こさせながらフィルムの進行方向に1.5〜3.5倍ロ
ール延伸し、二軸目の延伸として、フィルムのガラス転
移温度〜170℃の温度範囲内で、一軸目の延伸方向と
直角をなす方向に1.5〜3.5倍延伸し、延伸後21
0〜330℃の温度範囲内及び180〜210℃の温度
範囲内で二段で熱固定することを特徴とする二軸延伸P
EEにフィルムの製造方法である。
延伸PEEKフィルムを製造する方法において、一軸目
の延伸として50℃〜(フィルムのガラス転移温度−1
0)℃の温度範囲内で、フィルムにネッキング現象を起
こさせながらフィルムの進行方向に1.5〜3.5倍ロ
ール延伸し、二軸目の延伸として、フィルムのガラス転
移温度〜170℃の温度範囲内で、一軸目の延伸方向と
直角をなす方向に1.5〜3.5倍延伸し、延伸後21
0〜330℃の温度範囲内及び180〜210℃の温度
範囲内で二段で熱固定することを特徴とする二軸延伸P
EEにフィルムの製造方法である。
本発明の二軸延伸PEEにフィルムの製造方法によれば
、延伸によるフィルムの破れ及びピンホールのない、厚
さ精度の良好な、絶縁破壊電圧の高い、且つ、加熱収縮
率の低い二軸延伸PEEにフィルムが得られる。
、延伸によるフィルムの破れ及びピンホールのない、厚
さ精度の良好な、絶縁破壊電圧の高い、且つ、加熱収縮
率の低い二軸延伸PEEにフィルムが得られる。
その特徴とするところは、一軸目の延伸を50℃〜ガラ
ス転移温度−1O℃という低温で、フィルムにネッキン
グ現象をおこさせながら延伸することにあり、15μm
以下の極薄フィルムとした場合でも、延伸時のフィルム
破れ及びピンホールのない、厚さ精度に優れたフィルム
が得られるため、絶縁破壊電圧の高い二軸延伸PEEに
フィルムを製造することができる。また、他の特徴は、
210〜330℃及び180〜210℃の温度範囲で、
二段で熱固定することにあり、加熱収縮率の低いフィル
ムを製造することができる。
ス転移温度−1O℃という低温で、フィルムにネッキン
グ現象をおこさせながら延伸することにあり、15μm
以下の極薄フィルムとした場合でも、延伸時のフィルム
破れ及びピンホールのない、厚さ精度に優れたフィルム
が得られるため、絶縁破壊電圧の高い二軸延伸PEEに
フィルムを製造することができる。また、他の特徴は、
210〜330℃及び180〜210℃の温度範囲で、
二段で熱固定することにあり、加熱収縮率の低いフィル
ムを製造することができる。
本発明における絶縁破壊電圧は、後述する実施例に示す
方法により測定した絶縁破壊電圧である。
方法により測定した絶縁破壊電圧である。
本発明におけるPEEKは下記−数式[I]からなる縁
り返し構成単位を有する高分子化合物である。
り返し構成単位を有する高分子化合物である。
その中でも、特に、温度375 ℃、剪断速度10s
ec、−’における溶融粘度が100〜10,000P
a。
ec、−’における溶融粘度が100〜10,000P
a。
Sec 、であるPEEにが好ましく用いられる。例え
ば、英国ICI社製の商品名Vl(:TREX PEE
K 380Gが挙げられる。
ば、英国ICI社製の商品名Vl(:TREX PEE
K 380Gが挙げられる。
PEEにの溶融粘度を調節する目的で、他の樹脂、例え
ば、ポリエステル、ポリカーボネート等をブレンドして
もよい。他樹脂のブレンド量は、PEEにの特性を失わ
ない範囲の量がよく、−数的にはPEEに100重量部
に対し5重量部以内が好ましい。その他安定剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤等の如き添加剤を必要に応じ適宜添
加してもよい。
ば、ポリエステル、ポリカーボネート等をブレンドして
もよい。他樹脂のブレンド量は、PEEにの特性を失わ
ない範囲の量がよく、−数的にはPEEに100重量部
に対し5重量部以内が好ましい。その他安定剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤等の如き添加剤を必要に応じ適宜添
加してもよい。
本発明におけるPEEKは、その製造方法に特に制限は
なく、公知の方法で製造されたPEEKを用いることが
できる。
なく、公知の方法で製造されたPEEKを用いることが
できる。
本発明における二軸延伸PEEKフィルムは、公知の溶
融押出法等により非晶性フィルムを得、これを特定の条
件下で、一方向にロール延伸して一軸延伸フィルムとし
、次いでそれと直角方向にテンター延伸して二軸延伸フ
ィルムとし、さらに特定の条件下で、熱固定することに
よって得られる。
融押出法等により非晶性フィルムを得、これを特定の条
件下で、一方向にロール延伸して一軸延伸フィルムとし
、次いでそれと直角方向にテンター延伸して二軸延伸フ
ィルムとし、さらに特定の条件下で、熱固定することに
よって得られる。
得られる二軸延伸PEEにフィルムの厚さには特に制限
はないが、1〜50μmの厚さを有する二軸延伸PEE
Kフィルムの製造方法に適する。特に、15μm以下の
薄いフィルムの製造方法に適する。
はないが、1〜50μmの厚さを有する二軸延伸PEE
Kフィルムの製造方法に適する。特に、15μm以下の
薄いフィルムの製造方法に適する。
非晶性PEEにフィルムは、ガラス転移温度(以下、T
gという)が約144℃、ガラス転移開始温度が約13
0℃、結晶化開始温度が約165℃あり、約400℃に
おける溶融押出法で押し出された溶融フィルムを、約1
00℃の表面温度を有する冷却ロールで急冷することに
よって得られる。非晶性PEEKフィルムの厚さは、目
的とする二軸延伸PEEKフィルムの厚さにより決めら
れるが、通常は10〜300μm程度のものが用いられ
る。
gという)が約144℃、ガラス転移開始温度が約13
0℃、結晶化開始温度が約165℃あり、約400℃に
おける溶融押出法で押し出された溶融フィルムを、約1
00℃の表面温度を有する冷却ロールで急冷することに
よって得られる。非晶性PEEKフィルムの厚さは、目
的とする二軸延伸PEEKフィルムの厚さにより決めら
れるが、通常は10〜300μm程度のものが用いられ
る。
本発明に用いるロール延伸機の機種には特に制限はなく
、一般に使用されるもので良い。例えば、複数の予熱ロ
ール、複数の延伸ロール及び冷却ロールよりなるロール
延伸機を用いることができる。
、一般に使用されるもので良い。例えば、複数の予熱ロ
ール、複数の延伸ロール及び冷却ロールよりなるロール
延伸機を用いることができる。
本発明により、−軸延伸フィルムを得るには、非晶性P
EEにフィルムを50℃〜(Tg−10) ℃の温度範
囲で1.5〜3.5倍ロール延伸することが必要である
。
EEにフィルムを50℃〜(Tg−10) ℃の温度範
囲で1.5〜3.5倍ロール延伸することが必要である
。
好ましい延伸倍率は1.7〜3.0倍である。延伸倍率
が1.5倍未満の場合には、充分に分子配向が起こらず
、延伸効果が小さい上、厚さバラツキの原因にもなるの
で好ましくない。延伸倍率が3.5倍を越えた場合には
、延伸張力が過大となり延伸時にフィルム破れが多発す
るので好ましくない。
が1.5倍未満の場合には、充分に分子配向が起こらず
、延伸効果が小さい上、厚さバラツキの原因にもなるの
で好ましくない。延伸倍率が3.5倍を越えた場合には
、延伸張力が過大となり延伸時にフィルム破れが多発す
るので好ましくない。
延伸温度が50℃未満の場合には、はとんど非晶類の分
子運動が凍結され、延伸による分子形態の変化は起きに
くい。そのため、非晶類は無理に引き延ばされ、フィル
ム中に微細な空隙が生じる原因となる。−反発生した空
隙は消滅しないので二軸口の延伸時に、この空隙部に延
伸応力が集中してピンホールとなり、さらにフィルムの
破れの原因となる。また、フィルムが白化する原因とな
るので好ましくない。
子運動が凍結され、延伸による分子形態の変化は起きに
くい。そのため、非晶類は無理に引き延ばされ、フィル
ム中に微細な空隙が生じる原因となる。−反発生した空
隙は消滅しないので二軸口の延伸時に、この空隙部に延
伸応力が集中してピンホールとなり、さらにフィルムの
破れの原因となる。また、フィルムが白化する原因とな
るので好ましくない。
PEEKが有するエーテル結合は、50℃以上で分子運
動を開始する。そのため、50℃以上の温度で延伸が可
能となる。本発明の一袖口の延伸は、フィルムにネッキ
ング現象を起こさせながら、この分子運動を利用して5
0℃〜(Tg−10) ’eの温度範囲内でにおいてロ
ール延伸を行うのである。そのため、延伸中に結晶化が
起こるのを防止することができる。−軸Hの延伸は、二
個以上の延伸ロール群の周速の差により非晶性PEEK
フィルムに張力を与えることにより機械方向(進行方向
)へ延伸する。延伸温度を一定に制御するため、予熱ロ
ールを設置することが好ましい。予熱ロール及び延伸ロ
ールの温度を、50℃〜Tg−10℃の温度範囲、好ま
しくは、80”0〜7g−10℃の温度範囲に設定し、
該ロール群上でフィルムを機械方向へ滑らす等、ネッキ
ング現象を起こさせながら延伸する。
動を開始する。そのため、50℃以上の温度で延伸が可
能となる。本発明の一袖口の延伸は、フィルムにネッキ
ング現象を起こさせながら、この分子運動を利用して5
0℃〜(Tg−10) ’eの温度範囲内でにおいてロ
ール延伸を行うのである。そのため、延伸中に結晶化が
起こるのを防止することができる。−軸Hの延伸は、二
個以上の延伸ロール群の周速の差により非晶性PEEK
フィルムに張力を与えることにより機械方向(進行方向
)へ延伸する。延伸温度を一定に制御するため、予熱ロ
ールを設置することが好ましい。予熱ロール及び延伸ロ
ールの温度を、50℃〜Tg−10℃の温度範囲、好ま
しくは、80”0〜7g−10℃の温度範囲に設定し、
該ロール群上でフィルムを機械方向へ滑らす等、ネッキ
ング現象を起こさせながら延伸する。
上記のように、延伸ロールの温度は予熱ロールの温度と
同一としても良いし、あるいは、若干低い温度に設定し
ても良い。また、予熱ロールと延伸ロールの間隔は特に
制限されないが、1〜300mm程度が一般的である。
同一としても良いし、あるいは、若干低い温度に設定し
ても良い。また、予熱ロールと延伸ロールの間隔は特に
制限されないが、1〜300mm程度が一般的である。
延伸温度を50℃〜Tg−10℃の温度範囲とすること
により、一軸目の延伸により結晶化を抑えることができ
る。
により、一軸目の延伸により結晶化を抑えることができ
る。
Tg−10℃以上の温度では、予熱或いは延伸時に与え
られた熱により結晶化が蓮み、二軸口の延伸の際に、非
晶鎖部分は配向するが、この結晶化した部分は不動点と
なり、結晶を核としてピンホールが発生し、さらには、
延伸中にフィルムが破れる原因となる。ピンホールが発
生した場合には、フィルムの絶縁破壊電圧が低下し、絶
縁材料としては、実用に供し得ないフィルムとなる。ま
た、結晶化による白化が起こり好ましくない。
られた熱により結晶化が蓮み、二軸口の延伸の際に、非
晶鎖部分は配向するが、この結晶化した部分は不動点と
なり、結晶を核としてピンホールが発生し、さらには、
延伸中にフィルムが破れる原因となる。ピンホールが発
生した場合には、フィルムの絶縁破壊電圧が低下し、絶
縁材料としては、実用に供し得ないフィルムとなる。ま
た、結晶化による白化が起こり好ましくない。
袖口の延伸をフィルムにネッキング現象を起こさせなが
らロール延伸することにより、自由巾−軸延伸に近い延
伸が可能となり、延伸方向に均一に分子配向したフィル
ムを得ることができる。
らロール延伸することにより、自由巾−軸延伸に近い延
伸が可能となり、延伸方向に均一に分子配向したフィル
ムを得ることができる。
ネッキング現象の程度は延伸温度、延伸倍率、予熱ロー
ル及び延伸ロールの径及びそれらの間隔により決められ
る。延伸温度が50℃〜(Tg−10)℃、延伸倍率が
1.5〜3.5倍、且つ、予熱ロール及び延伸ロールの
径が300 mm中、それらの間隔が1〜300 mm
の場合には、ネッキング現象の程度、即ち、延伸による
フィルム幅の減少率は5〜50%とするのが良い。フィ
ルム幅の減少率が5%未満の場合は均一な分子配向が得
られないので好ましくない。また、50%を越えると設
備規模に応じた広幅のフィルムを製造できないので経済
的に不利である。
ル及び延伸ロールの径及びそれらの間隔により決められ
る。延伸温度が50℃〜(Tg−10)℃、延伸倍率が
1.5〜3.5倍、且つ、予熱ロール及び延伸ロールの
径が300 mm中、それらの間隔が1〜300 mm
の場合には、ネッキング現象の程度、即ち、延伸による
フィルム幅の減少率は5〜50%とするのが良い。フィ
ルム幅の減少率が5%未満の場合は均一な分子配向が得
られないので好ましくない。また、50%を越えると設
備規模に応じた広幅のフィルムを製造できないので経済
的に不利である。
本発明の二軸口の延伸は、一軸目の延伸方向と直角をな
す方向に、Tg−170℃の温度範囲で1.5〜3.5
倍テンター(横延伸機)により延伸する。
す方向に、Tg−170℃の温度範囲で1.5〜3.5
倍テンター(横延伸機)により延伸する。
好ましい延伸倍率は1.7〜30倍である。延伸倍率が
1.5倍未満の場合には、充分に分子配向が起こらず、
延伸の効果が小さいので好ましくない。
1.5倍未満の場合には、充分に分子配向が起こらず、
延伸の効果が小さいので好ましくない。
3.5倍を越えた場合には、延伸時にフィルムの破わが
多発し、またピンホールが発生するので好ましくない。
多発し、またピンホールが発生するので好ましくない。
好ましい温度範囲は、Tg〜155℃である。二軸口の
延伸はテンターで行なわれるため、ネッキング現象をお
こさせながら延伸する方法は適用できない。そのため、
7g以下の温度で延伸すると、延伸時にフィルムが破れ
易いためTg以上の温度で延伸する必要がある。また、
170℃より高い温度では、テンター中での予熱時に結
晶化か進み、延伸時にピンホールか生じ、さらに、フィ
ルムが破れ易くなるので、好ましくない。
延伸はテンターで行なわれるため、ネッキング現象をお
こさせながら延伸する方法は適用できない。そのため、
7g以下の温度で延伸すると、延伸時にフィルムが破れ
易いためTg以上の温度で延伸する必要がある。また、
170℃より高い温度では、テンター中での予熱時に結
晶化か進み、延伸時にピンホールか生じ、さらに、フィ
ルムが破れ易くなるので、好ましくない。
一軸延伸されたフィルムの加熱方法、即ち、テンターに
よる二軸口の延伸の加熱方法は、特に制限されないが、
特定温度に設定された熱風による加熱方法が一般的であ
る。熱風加熱の場合には熱風温度とフィルムの厚み方向
中央部の温度が等しくなるまでフィルムを予熱する必要
がある。予熱時間は、熱風温度、熱風流量、延伸温度、
フィルムの厚さ及び伝熱係数等を考慮し、伝熱計算によ
り適宜状めることができるが、通常は1〜60秒程度で
ある。
よる二軸口の延伸の加熱方法は、特に制限されないが、
特定温度に設定された熱風による加熱方法が一般的であ
る。熱風加熱の場合には熱風温度とフィルムの厚み方向
中央部の温度が等しくなるまでフィルムを予熱する必要
がある。予熱時間は、熱風温度、熱風流量、延伸温度、
フィルムの厚さ及び伝熱係数等を考慮し、伝熱計算によ
り適宜状めることができるが、通常は1〜60秒程度で
ある。
15μm以下の良質の極薄フィルムは本発明の延伸方法
、即ち、−軸重の延伸を50℃〜(ガラス転移温度−1
0)℃の温度範囲で、フィルムにネッキング現象を起こ
させながら機械方向に1.5〜3.5倍ロール延伸する
方法によってのみ得られる。15μl以下の極薄フィル
ムの場合は特に、−軸重の延伸温度が50℃未満ではフ
ィルムの白化及び破断が起こり易く、Tg−10℃を越
えると、前記したように延伸ロールからのフィルムの剥
離位置が一定となり難く、延伸倍率のバラツキが生じ易
くなる。その結果、厚み結反の良好なフィルムが得られ
ない。
、即ち、−軸重の延伸を50℃〜(ガラス転移温度−1
0)℃の温度範囲で、フィルムにネッキング現象を起こ
させながら機械方向に1.5〜3.5倍ロール延伸する
方法によってのみ得られる。15μl以下の極薄フィル
ムの場合は特に、−軸重の延伸温度が50℃未満ではフ
ィルムの白化及び破断が起こり易く、Tg−10℃を越
えると、前記したように延伸ロールからのフィルムの剥
離位置が一定となり難く、延伸倍率のバラツキが生じ易
くなる。その結果、厚み結反の良好なフィルムが得られ
ない。
延伸倍率は1.5〜3.5倍の範囲が望ましい。更に好
ましくは1.7〜3.0倍である。延伸倍率が1.5倍
未満ではフィルムの厚さバラツキを生じる。また延伸倍
率が3.5倍を越えると延伸張力が過大となりフィルム
が破断することがある。
ましくは1.7〜3.0倍である。延伸倍率が1.5倍
未満ではフィルムの厚さバラツキを生じる。また延伸倍
率が3.5倍を越えると延伸張力が過大となりフィルム
が破断することがある。
また、本発明の方法により得られた二軸延伸PEEにフ
ィルムはピンホール等の欠陥が全くないため絶縁破壊電
圧が350 v/μI以上であり、絶縁材料に適してい
る。
ィルムはピンホール等の欠陥が全くないため絶縁破壊電
圧が350 v/μI以上であり、絶縁材料に適してい
る。
本発明の熱固定は二段で行なわれる。−段目の熱固定は
210〜330℃(融点)の温度範囲で行なも速い18
0〜210℃で行なわれる。この条件による熱固定によ
り、最も加熱収縮率の低い二軸延伸PEEKフィルムが
得られる。
210〜330℃(融点)の温度範囲で行なも速い18
0〜210℃で行なわれる。この条件による熱固定によ
り、最も加熱収縮率の低い二軸延伸PEEKフィルムが
得られる。
本発明の二段で行う熱固定方法によって、加熱収縮率の
低い二軸延伸PEEKフィルムが得られる理由は明確で
はないが、次のように推定する。
低い二軸延伸PEEKフィルムが得られる理由は明確で
はないが、次のように推定する。
−段目の熱固定を210〜330℃の温度範囲で行うこ
とにより、比較的大きな結晶を生成させ、次いで二段目
の熱固定を一段目の熱固定温度より低い180〜210
℃の温度範囲で行うことにより、比較的小さな結晶を生
成させることができる。これらの大きさが異なる結晶が
、所謂最密充填状にフィルム全域に分布するため、結晶
化度の高い二軸延伸PEEKフィルムが得られる。その
ため従来性われている方法に比べ加熱収縮率の低い二軸
延伸PEEKフィルムが得られる。
とにより、比較的大きな結晶を生成させ、次いで二段目
の熱固定を一段目の熱固定温度より低い180〜210
℃の温度範囲で行うことにより、比較的小さな結晶を生
成させることができる。これらの大きさが異なる結晶が
、所謂最密充填状にフィルム全域に分布するため、結晶
化度の高い二軸延伸PEEKフィルムが得られる。その
ため従来性われている方法に比べ加熱収縮率の低い二軸
延伸PEEKフィルムが得られる。
熱固定時間は温度により変わるが、通常1〜60秒であ
る。また熱固定は、二軸目延伸方向に0.5〜20%程
度の制限収縮を起こさせる程度の張力下で行うことが絶
縁破壊電圧の向上及び熱収縮率の低下のために重要なこ
とである。
る。また熱固定は、二軸目延伸方向に0.5〜20%程
度の制限収縮を起こさせる程度の張力下で行うことが絶
縁破壊電圧の向上及び熱収縮率の低下のために重要なこ
とである。
[実施例]
以下実施例により本発明を更に具体的に説明する。
実施例1〜6、比較例1〜4
PEEに(IC1社製VICTREX PEEK 38
0G)を90mmΦ単軸押出機を用いて、約400℃で
溶融押出して、約100℃の冷却ロールで急冷して厚さ
100μmの非晶性PEEにフィルムを作製した。この
非晶性PEEKフィルムを、それぞれ複数個の予熱ロー
ル及び延伸ロールと冷却ロール(いずれも300mmΦ
)よりなるロール延伸機を用いて、第1表に示す温度及
び延伸倍率でフィルムにネッキング現象を起こさせなが
ら延伸した。ネッキング現象によるフィルム幅の減少率
は、5〜20%であった。
0G)を90mmΦ単軸押出機を用いて、約400℃で
溶融押出して、約100℃の冷却ロールで急冷して厚さ
100μmの非晶性PEEにフィルムを作製した。この
非晶性PEEKフィルムを、それぞれ複数個の予熱ロー
ル及び延伸ロールと冷却ロール(いずれも300mmΦ
)よりなるロール延伸機を用いて、第1表に示す温度及
び延伸倍率でフィルムにネッキング現象を起こさせなが
ら延伸した。ネッキング現象によるフィルム幅の減少率
は、5〜20%であった。
次いで、各ゾーン毎にそれぞれ複数の温度調節機能を打
する予熱、延伸、及び熱固定ゾーンよりなるテンター延
伸機により、第1表に示す温度及び延伸倍率で横方向に
延伸した。
する予熱、延伸、及び熱固定ゾーンよりなるテンター延
伸機により、第1表に示す温度及び延伸倍率で横方向に
延伸した。
更に、第1表に示ず熱固定条件で処理し、第2表に示す
厚さの二軸延伸PEEにフィルムを得た。実施例1〜6
においてはいずれもフィルム破れ、フィルムの白化等が
認められず、良好なフィルムが得られた。比較例1では
一袖口の延伸(ロール延伸)の際フィルムの破断が多発
し試験を中断した。比較例3では一袖口の延伸の際フィ
ルムの白化が激しがった。二軸目の延伸の際にフィルム
が破れた。比較例4では、−軸延伸、二輪延伸共にフィ
ルムの白化が激しく、延伸バラッキが大であった。原反
(非晶性PEEKフィルム)の平均厚さ及び厚さの変動
率と、得られた二輪延伸PEEにフィルムの平均厚さ及
び厚さの変動率、及び絶縁破壊電圧を第1表に示す。
厚さの二軸延伸PEEにフィルムを得た。実施例1〜6
においてはいずれもフィルム破れ、フィルムの白化等が
認められず、良好なフィルムが得られた。比較例1では
一袖口の延伸(ロール延伸)の際フィルムの破断が多発
し試験を中断した。比較例3では一袖口の延伸の際フィ
ルムの白化が激しがった。二軸目の延伸の際にフィルム
が破れた。比較例4では、−軸延伸、二輪延伸共にフィ
ルムの白化が激しく、延伸バラッキが大であった。原反
(非晶性PEEKフィルム)の平均厚さ及び厚さの変動
率と、得られた二輪延伸PEEにフィルムの平均厚さ及
び厚さの変動率、及び絶縁破壊電圧を第1表に示す。
尚、絶縁破壊電圧(V/μm)の測定は、下記の方法で
行った。
行った。
長さ20mのフィルムから長さ方向、幅方向にそれぞれ
ランタムに100個のサンプルを採取し、5xlOcm
の試験片を100個作成した。
ランタムに100個のサンプルを採取し、5xlOcm
の試験片を100個作成した。
該試験片の両面に、面積20cm2の水銀電極を接触し
電圧を掛は該試験片が破壊する時の電圧を測定した。絶
縁破壊を起こし破れた試験片の孔の直ぐ側近の場所5点
の厚さの平均値で、試験片の破壊時の電圧を除した商を
絶縁破壊電圧とした。測定を100回行い、その平均値
を求めた。尚、100回の測定において、絶縁破壊電圧
が300 v/μm未満の測定値を欠陥数として第1表
に示す。
電圧を掛は該試験片が破壊する時の電圧を測定した。絶
縁破壊を起こし破れた試験片の孔の直ぐ側近の場所5点
の厚さの平均値で、試験片の破壊時の電圧を除した商を
絶縁破壊電圧とした。測定を100回行い、その平均値
を求めた。尚、100回の測定において、絶縁破壊電圧
が300 v/μm未満の測定値を欠陥数として第1表
に示す。
また、フィルムの厚さの測定は、下記の方法で行った。
絶縁破壊電圧の測定と同様にサンプルを採取し、試験片
を100個作成した。測定積度1μmの測厚器を用いて
厚さを測定した。100個の測定値の平均値及び変動率
を求めた。
を100個作成した。測定積度1μmの測厚器を用いて
厚さを測定した。100個の測定値の平均値及び変動率
を求めた。
実施例7〜11、比較例5〜7
実施例1と同一の条件で一軸及び二軸延伸し、二輪延伸
PEEKフィルムを作成した。それを第2表に示す熱固
定条件で処理した二軸延伸PEEKフィルムの加熱収縮
率を測定した。その結果を第2表に示す。
PEEKフィルムを作成した。それを第2表に示す熱固
定条件で処理した二軸延伸PEEKフィルムの加熱収縮
率を測定した。その結果を第2表に示す。
加熱収縮率の測定は、下記の方法で行った。
絶縁破壊電圧の測定と同様にサンプルを採取し、5×5
CI11の試験片を100個作成した。この試験片を用
いて、JIS C2318に定める方法に準じて、第2
表に示す条件で加熱処理し、加熱収縮率を測定した。1
00個の測定値の平均値及び変動率を求めた。
CI11の試験片を100個作成した。この試験片を用
いて、JIS C2318に定める方法に準じて、第2
表に示す条件で加熱処理し、加熱収縮率を測定した。1
00個の測定値の平均値及び変動率を求めた。
[発明の効果]
本発明によれば、延伸時の破れ及びピンホールがなく、
且つ厚さ精度に優れた、絶縁破壊電圧の高い二輪延伸P
EEにフィルムを製造することができる。その上加熱収
縮率の低い二輪延伸PEEにフィルムを製造することが
できる。
且つ厚さ精度に優れた、絶縁破壊電圧の高い二輪延伸P
EEにフィルムを製造することができる。その上加熱収
縮率の低い二輪延伸PEEにフィルムを製造することが
できる。
本発明により製造される二軸延伸PEEKフィルムは電
子、電気等の工業分野へ広く通用することができ、特に
、極薄フィルムは薄葉の耐熱絶縁材料を要求しているコ
ンデンサー用またはフレキシブルプリント回路(FPC
)用基盤等の耐熱絶縁材料として極めて有用である。
子、電気等の工業分野へ広く通用することができ、特に
、極薄フィルムは薄葉の耐熱絶縁材料を要求しているコ
ンデンサー用またはフレキシブルプリント回路(FPC
)用基盤等の耐熱絶縁材料として極めて有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非晶性のポリエーテルエーテルケトンフィルムを用
いて二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムを製
造する方法において、一軸目の延伸として50℃〜(フ
ィルムのガラス転移温度−10)℃の温度範囲内で、フ
ィルムにネッキング現象を起こさせながらフィルムの進
行方向に1.5〜3.5倍ロール延伸し、二軸目の延伸
として、フィルムのガラス転移温度〜170℃の温度範
囲内で、一軸目の延伸方向と直角をなす方向に1.5〜
3.5倍延伸し、延伸後210〜330℃の温度範囲内
及び180〜210℃の温度範囲内で二段で熱固定する
ことを特徴とする二軸延伸ポリエーテルエーテルケトン
フィルムの製造方法。 2、二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの厚
さが15μm以下である請求項1記載の二軸延伸ポリエ
ーテルエーテルケトンフィルムの製造方法。 3、二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの絶
縁破壊電圧が350v/μm以上である請求項1記載の
二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方
法。 4、ポリエーテルエーテルケトンが下記一般式▲数式、
化学式、表等があります▼・・・・[ I ] で表わされる繰り返し単位から成る高分子化合物である
請求項1記載の二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフ
ィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21825390A JPH0764023B2 (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | 二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21825390A JPH0764023B2 (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | 二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04101827A true JPH04101827A (ja) | 1992-04-03 |
JPH0764023B2 JPH0764023B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=16716995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21825390A Expired - Lifetime JPH0764023B2 (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-21 | 二軸延伸ポリエーテルエーテルケトンフィルムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0764023B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011148940A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Teijin Ltd | 二軸延伸フィルム |
JP2012097147A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Teijin Ltd | 二軸延伸フィルム |
US8283031B2 (en) | 2003-10-06 | 2012-10-09 | Kureha Corporation | Semiconductive film, electric charge control member and process for producing the semiconductive film |
JP2013082087A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Kurabo Ind Ltd | プラスチックフィルムおよびその製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102496307B1 (ko) * | 2015-03-31 | 2023-02-03 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 연신 필름의 제조 방법 및 연신 필름 |
-
1990
- 1990-08-21 JP JP21825390A patent/JPH0764023B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8283031B2 (en) | 2003-10-06 | 2012-10-09 | Kureha Corporation | Semiconductive film, electric charge control member and process for producing the semiconductive film |
JP2011148940A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Teijin Ltd | 二軸延伸フィルム |
JP2012097147A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Teijin Ltd | 二軸延伸フィルム |
JP2013082087A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Kurabo Ind Ltd | プラスチックフィルムおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0764023B2 (ja) | 1995-07-12 |
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