JPH0399043A - N―アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方法 - Google Patents
N―アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方法Info
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- JPH0399043A JPH0399043A JP23787189A JP23787189A JPH0399043A JP H0399043 A JPH0399043 A JP H0399043A JP 23787189 A JP23787189 A JP 23787189A JP 23787189 A JP23787189 A JP 23787189A JP H0399043 A JPH0399043 A JP H0399043A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は農薬、染料の中間体、および各種化学原料とし
て有用なN−アルキルアミノフェノールエーテル類の製
造方法に関する。
て有用なN−アルキルアミノフェノールエーテル類の製
造方法に関する。
従来N−アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方
法としては,N−アルキルアミノフェノール類とハロゲ
ン化アルキルとを、塩基の存在下に脂肪族ケトン溶媒中
で反応させる方法が開示されている(特開昭63 −
68536号公報)。
法としては,N−アルキルアミノフェノール類とハロゲ
ン化アルキルとを、塩基の存在下に脂肪族ケトン溶媒中
で反応させる方法が開示されている(特開昭63 −
68536号公報)。
しかし、この方法ではハロゲン化アルキルおよび塩基を
過剰に用いることに加えて、加圧下で1.15〜200
℃という高温で長時間反応させる必要があるため、ハロ
ゲンイオンによる応力腐食の恐れのない材質からなる反
応器を用いなければならないという問題点がある。さら
に分離が困難な不純物が副生するという問題点もある。
過剰に用いることに加えて、加圧下で1.15〜200
℃という高温で長時間反応させる必要があるため、ハロ
ゲンイオンによる応力腐食の恐れのない材質からなる反
応器を用いなければならないという問題点がある。さら
に分離が困難な不純物が副生するという問題点もある。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決するため、
有機ハロゲン化物および塩基の使用量を少なくでき、穏
和な反応条件下で、高純度のN−アルキルアミノフェノ
ールエーテル類を収率よく製造する方法を提案すること
にある。
有機ハロゲン化物および塩基の使用量を少なくでき、穏
和な反応条件下で、高純度のN−アルキルアミノフェノ
ールエーテル類を収率よく製造する方法を提案すること
にある。
本発明は、塩基の存在下にN−アルキルアミノフェノー
ル類と有機ハロゲン化物とを反応させてN−アルキルア
ミノフェノールエーテル類を製造する方法において,W
j媒として酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極
性溶媒を用いることを特徴とするN−アルキルアミノフ
ェノールエーテル類の製造方法である。
ル類と有機ハロゲン化物とを反応させてN−アルキルア
ミノフェノールエーテル類を製造する方法において,W
j媒として酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極
性溶媒を用いることを特徴とするN−アルキルアミノフ
ェノールエーテル類の製造方法である。
本発明においては、溶媒として酸素以外のヘテロ原子を
含む非プロトン性極性溶媒を使用する。
含む非プロトン性極性溶媒を使用する。
本発明においては、ペテロ原子とは水素原子および炭素
原子以外の原子を示す意味で使用している。
原子以外の原子を示す意味で使用している。
酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極性溶媒中に
は酸素原子は含まれていてもよいし、含まれていなくて
もよい。このような酸素以外のヘテロ原子を含む非プロ
トン性極性溶媒としては、例えばN,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等のN,N−
ジアルキルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン,テトラメチル尿素、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
をあげることができる。これらの中ではN,N−ジアル
キルアセトアミドが好ましい。
は酸素原子は含まれていてもよいし、含まれていなくて
もよい。このような酸素以外のヘテロ原子を含む非プロ
トン性極性溶媒としては、例えばN,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等のN,N−
ジアルキルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン,テトラメチル尿素、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキ
シド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
をあげることができる。これらの中ではN,N−ジアル
キルアセトアミドが好ましい。
酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極性溶媒はN
−アルキルアミノフェノール類1重量部に対して0.5
〜20重量部,好ましくは1〜5重量部の割合で使用す
るのが好ましい。
−アルキルアミノフェノール類1重量部に対して0.5
〜20重量部,好ましくは1〜5重量部の割合で使用す
るのが好ましい。
本発明で使用するN−アルキルアミノフェノール類とし
ては、下記一般式CI)で表わされるN−アルキルアミ
ノフェノール類を使用することができる。
ては、下記一般式CI)で表わされるN−アルキルアミ
ノフェノール類を使用することができる。
(式中、R1、R2の少なくとも一方はアルキル基で、
他方は水素原子またはアルキル基である。R3は水素原
子、ハロゲン原子または置換基を示す。)前記一般式(
1)のR1、R2で示されるアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロビル基、イソアミル基等の
炭素数1−10の鎖式アルキル基;シクロヘキシル基等
の炭素数6〜10のシクロアルキル基などをあげること
ができる。R1およびR2はいずれも前記アルキル基で
あってもよいし、一方だけが前記アルキル基であっても
よい。一方だけがアルキル基の場合、他方は水素原子で
ある。
他方は水素原子またはアルキル基である。R3は水素原
子、ハロゲン原子または置換基を示す。)前記一般式(
1)のR1、R2で示されるアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロビル基、イソアミル基等の
炭素数1−10の鎖式アルキル基;シクロヘキシル基等
の炭素数6〜10のシクロアルキル基などをあげること
ができる。R1およびR2はいずれも前記アルキル基で
あってもよいし、一方だけが前記アルキル基であっても
よい。一方だけがアルキル基の場合、他方は水素原子で
ある。
前記一般式(1)のR3の置換基としては、例えば二ト
ロ基、低級アルキル基、アルコキシ基などをあげること
ができる。
ロ基、低級アルキル基、アルコキシ基などをあげること
ができる。
前記一般式CI)で表わされるN−アルキルアミノフェ
ノール類の具体的なものとしては、例えばN,N−ジメ
チルーm−アミンフェノール、N,N−ジエチル−m−
アミノフェノール、N一エチルーN−イソアミルーmー
アミノフェノール、N,N−ジエチルーP−アミノフェ
ノール等のN,N−ジアルキルアミノフェノール:Nメ
チルーm−アミノフェノール、N一エチルーm−アミノ
フェノール、N−メチルーP−アミノフェノール等のN
−モノアルキルアミノフェノールなどをあげることがで
きる。これらの中ではN,N−ジアルキルアミノフェノ
ールが好ましい。
ノール類の具体的なものとしては、例えばN,N−ジメ
チルーm−アミンフェノール、N,N−ジエチル−m−
アミノフェノール、N一エチルーN−イソアミルーmー
アミノフェノール、N,N−ジエチルーP−アミノフェ
ノール等のN,N−ジアルキルアミノフェノール:Nメ
チルーm−アミノフェノール、N一エチルーm−アミノ
フェノール、N−メチルーP−アミノフェノール等のN
−モノアルキルアミノフェノールなどをあげることがで
きる。これらの中ではN,N−ジアルキルアミノフェノ
ールが好ましい。
N−アルキルアミノフェノール類は反応系中の濃度が5
〜55重量%、好ましくは15〜40重量%になるよう
に使用するのが好ましい。
〜55重量%、好ましくは15〜40重量%になるよう
に使用するのが好ましい。
本発明で使用する有機ハロゲン化物としては、下記一般
式〔■〕で表わされる有機ハロゲン化物を使用する。
式〔■〕で表わされる有機ハロゲン化物を使用する。
R’X ・・・〔■〕(式中、R
4は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数7〜10
のアラルキル基、Xはハロゲン原子を示す。) 前記一般式〔■〕のR4で示されるアルキル基としては
、例えばメチル基、エチル基、プロビル基、イソアミル
基等の炭素数1−10の鎖式アルキル基;シクロヘキシ
ル基等の炭素数6〜10のシクロアルキル基などをあげ
ることができる。またアラルキル基としては、例えばベ
ンジル基、フェネチル基などの炭素数7〜10のものを
あげることができる。
4は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数7〜10
のアラルキル基、Xはハロゲン原子を示す。) 前記一般式〔■〕のR4で示されるアルキル基としては
、例えばメチル基、エチル基、プロビル基、イソアミル
基等の炭素数1−10の鎖式アルキル基;シクロヘキシ
ル基等の炭素数6〜10のシクロアルキル基などをあげ
ることができる。またアラルキル基としては、例えばベ
ンジル基、フェネチル基などの炭素数7〜10のものを
あげることができる。
前記一般式〔■〕のXで示されるハロゲン原子としては
、塩素、臭素、沃素などをあげることができる。
、塩素、臭素、沃素などをあげることができる。
前記一般式〔■〕で表わされる有機ハロゲン化物の具体
的なものとしては、例えば塩化メチル、塩化エチル、臭
化メチル,臭化エチル、沃化メチル、塩化ベンジルなど
をあげることができる。これらの中では塩化メチル、塩
化エチル、臭化メチル、臭化エチルのハロゲン化アルキ
ルが好ましい。
的なものとしては、例えば塩化メチル、塩化エチル、臭
化メチル,臭化エチル、沃化メチル、塩化ベンジルなど
をあげることができる。これらの中では塩化メチル、塩
化エチル、臭化メチル、臭化エチルのハロゲン化アルキ
ルが好ましい。
有機ハロゲン化物はN−アルキルアミノフェノール類l
モルに対して0.8〜2モル、好ましくは1〜1.2モ
ルの割合で使用するのが好ましい。
モルに対して0.8〜2モル、好ましくは1〜1.2モ
ルの割合で使用するのが好ましい。
本発明で使用する塩基としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金屈水酸化物;炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金屈炭酸塩;水酸
化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水
酸化物;炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土
類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等のアルカリ金属炭酸水素塩などをあげることができる
。
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金屈水酸化物;炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金屈炭酸塩;水酸
化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水
酸化物;炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土
類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等のアルカリ金属炭酸水素塩などをあげることができる
。
これらの中ではアルカリ金属水酸化物およびアルカリ金
属炭酸塩が好ましく、特に水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウムが好ましい。
属炭酸塩が好ましく、特に水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウムが好ましい。
塩基は固体のまま使用してもよいし、適当な溶媒に溶解
して溶液で使用してもよい。
して溶液で使用してもよい。
塩基はN−アルキルアミノフェノール類1モルに対して
0.5〜2モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使
用するのが好ましい。
0.5〜2モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使
用するのが好ましい。
本発明では、N−アルキルアミノフェノール類として前
記一般式〔■〕で表わされるものを、有機ハロゲン化物
として前記一般式〔■〕で表わされるものを使用した場
合、下記一般式(m)で表わされるN−アルキルアミノ
フェノールエーテル類が製造される。
記一般式〔■〕で表わされるものを、有機ハロゲン化物
として前記一般式〔■〕で表わされるものを使用した場
合、下記一般式(m)で表わされるN−アルキルアミノ
フェノールエーテル類が製造される。
(式中,R1〜R3は前記一般式[1)のものと同じで
あり、R4は前記一般式(II)のものと同じである。
あり、R4は前記一般式(II)のものと同じである。
)反応は、酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極
性溶媒中で、まずN−アルキルアミノフェノール類と塩
基とを反応させてN−アルキルアミノフェノール塩とし
、次に有機ハロゲン化物をフィードして反応させる方法
を採用することもできるし、酸素以外のヘテロ原子を含
む非プロトン性極性溶媒中で、塩基、N−アルキルアミ
ノフェノール類および有機ハロゲン化物を混合して反応
させる方法を採用することもできる。
性溶媒中で、まずN−アルキルアミノフェノール類と塩
基とを反応させてN−アルキルアミノフェノール塩とし
、次に有機ハロゲン化物をフィードして反応させる方法
を採用することもできるし、酸素以外のヘテロ原子を含
む非プロトン性極性溶媒中で、塩基、N−アルキルアミ
ノフェノール類および有機ハロゲン化物を混合して反応
させる方法を採用することもできる。
反応条件は、反応温度が通常40〜150℃、好ましく
は60〜90℃、反応時間が通常1〜12時間、好まし
くは2〜6時間、反応圧カが通常0.1〜10気圧、好
ましくは1〜2気圧の範囲で設定するのが適当である。
は60〜90℃、反応時間が通常1〜12時間、好まし
くは2〜6時間、反応圧カが通常0.1〜10気圧、好
ましくは1〜2気圧の範囲で設定するのが適当である。
反応を行うための反応器は特に限定されないが、樽型が
特に好ましい。またバッチ式、連続式のいずれかの方式
により、液相反応として行うことができる。
特に好ましい。またバッチ式、連続式のいずれかの方式
により、液相反応として行うことができる。
以上のような方法により、N−アルキルアミノフェノー
ルエーテル類が反応系内の濃度として5〜50重量%の
濃度で製造できる。
ルエーテル類が反応系内の濃度として5〜50重量%の
濃度で製造できる。
反応終了後は、反応混合液を常温まで冷却した後、トル
エン等の有機溶媒および水を加え,油層を分離した後減
圧蒸留を行う方法などにより、収率92%以上で純度9
9%以上のN−アルキルアミノフェノールエーテル類が
得られる。
エン等の有機溶媒および水を加え,油層を分離した後減
圧蒸留を行う方法などにより、収率92%以上で純度9
9%以上のN−アルキルアミノフェノールエーテル類が
得られる。
このようにして得られたN−アルキルアミノフェノール
エーテル類は農薬、染料などの中間体、および各種化学
原料などとして利用できる。
エーテル類は農薬、染料などの中間体、および各種化学
原料などとして利用できる。
本発明によれば、塩基の存在下にN−アルキルアミノフ
ェノール類と有機ハロゲン化物とを反応させてN−アル
キルアミノフェノールエーテル類を製造する方法におい
て、溶媒として酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン
性極性溶媒を用いるようにしたので、有機ハロゲン化物
および塩基の使用量を少なくでき、穏和な条件下で、高
純度のN−アルキルアミノフェノールエーテル類を収率
よく製造できる。
ェノール類と有機ハロゲン化物とを反応させてN−アル
キルアミノフェノールエーテル類を製造する方法におい
て、溶媒として酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン
性極性溶媒を用いるようにしたので、有機ハロゲン化物
および塩基の使用量を少なくでき、穏和な条件下で、高
純度のN−アルキルアミノフェノールエーテル類を収率
よく製造できる。
C実施例〕
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1
N,N−ジエチルーm−アミノフェノール(以下、DE
MAPと略記する)82.6 g (0.5モ/L/)
をN,N−ジメチ/L/7セトアミド(以下、DM八〇
ト略記する) 289.1 g (3.3モル)に溶解
し、これに水酸化ナトリウム30.0 g(0.75モ
ル)を65℃で少量ずつ加え、その後65℃で1時間攪
拌した。次いで塩化メチル27.9 g (0.551
モル)を65℃で1.5時間かけてフィードし、フィー
ド終了後さらに65℃で2時間攪拌しながら反応させた
。
MAPと略記する)82.6 g (0.5モ/L/)
をN,N−ジメチ/L/7セトアミド(以下、DM八〇
ト略記する) 289.1 g (3.3モル)に溶解
し、これに水酸化ナトリウム30.0 g(0.75モ
ル)を65℃で少量ずつ加え、その後65℃で1時間攪
拌した。次いで塩化メチル27.9 g (0.551
モル)を65℃で1.5時間かけてフィードし、フィー
ド終了後さらに65℃で2時間攪拌しながら反応させた
。
反応終了後、反応混合物を室温まで冷却した後、トルエ
ン3’00mflおよび水500mQを加え、分液した
。
ン3’00mflおよび水500mQを加え、分液した
。
得られた油層を水200mRで洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後濾過し、濾液を濃縮後、残留物を減圧
蒸留して沸点122 〜123℃(7mmHg)、純度
99.6%の3−ジエチルアミノー1−メトキシベンゼ
ン(以下、3DEMBと略記する)86.3g(収率9
5.9%)を得た。
ウムで乾燥した後濾過し、濾液を濃縮後、残留物を減圧
蒸留して沸点122 〜123℃(7mmHg)、純度
99.6%の3−ジエチルアミノー1−メトキシベンゼ
ン(以下、3DEMBと略記する)86.3g(収率9
5.9%)を得た。
実施例2〜8
実施例1においてDMACの代りに表工に示す酸素以外
のヘテロ原子を含む非プロトン性極性溶媒を用いた以外
は実施例lと同様に行い,表工に示す結果を得た。
のヘテロ原子を含む非プロトン性極性溶媒を用いた以外
は実施例lと同様に行い,表工に示す結果を得た。
表1
実施例9〜1l
実施例1において、水酸化ナトリウムの代りに表2に示
す塩基を表2に示す量で用いた以外は実施例lと同様に
行い、表2に示す結果を得た。
す塩基を表2に示す量で用いた以外は実施例lと同様に
行い、表2に示す結果を得た。
表2
実施例12〜13
実施例1において塩化メチルの代りに表3に示す有機ハ
ロゲン化物を表3に示す量で用いた以外は実施例1と同
様に行い、表3に示す結果を得た。
ロゲン化物を表3に示す量で用いた以外は実施例1と同
様に行い、表3に示す結果を得た。
表3
実施例14〜l6
実施例1においてDEMAPの代りに表4に示すN−ア
ルキルアミノフェノールを表4に示す量で用いた以外は
実施例lと同様に行い、表4に示す結果を得た。
ルキルアミノフェノールを表4に示す量で用いた以外は
実施例lと同様に行い、表4に示す結果を得た。
表 4
比較例1
1Qの反応器に300n+Qのメチルイソブチルケトン
を入れ、次いでDEMAP 73.1g(0.443モ
ル)および粉砕炭酸カリウム153.3 g (1.1
1モル)を装填し、30分間撹拌した。次にこの反応器
に臭化エチル72.7g (0.667モル)を添加し
た。このあと反応器を閉鎖して3時間、115〜120
℃に加熱し、そしてさらに5時間、140〜142℃の
温度に保持した(圧力:5バール)。
を入れ、次いでDEMAP 73.1g(0.443モ
ル)および粉砕炭酸カリウム153.3 g (1.1
1モル)を装填し、30分間撹拌した。次にこの反応器
に臭化エチル72.7g (0.667モル)を添加し
た。このあと反応器を閉鎖して3時間、115〜120
℃に加熱し、そしてさらに5時間、140〜142℃の
温度に保持した(圧力:5バール)。
この後約25℃まで放冷して反応混合物を分液ロートヘ
移し、反応器を水500+nQおよびメチルイソブチル
ケトン500mMで洗浄し、油層および水層を分液ロ−
1−へ移した。分離した油層を水200mQで洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濾過し、濾液を濃縮後
、残留物を減圧蒸留して沸点131〜132°C (
7 s+lIg)、純度96.9%の3−ジエチルアミ
ノー1−エトキシベンゼン(3DEEB) 80.5g
(収率91.1%)を得た。
移し、反応器を水500+nQおよびメチルイソブチル
ケトン500mMで洗浄し、油層および水層を分液ロ−
1−へ移した。分離した油層を水200mQで洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濾過し、濾液を濃縮後
、残留物を減圧蒸留して沸点131〜132°C (
7 s+lIg)、純度96.9%の3−ジエチルアミ
ノー1−エトキシベンゼン(3DEEB) 80.5g
(収率91.1%)を得た。
Claims (1)
- (1)塩基の存在下にN−アルキルアミノフェノール類
と有機ハロゲン化物とを反応させてN−アルキルアミノ
フェノールエーテル類を製造する方法において、溶媒と
して酸素以外のヘテロ原子を含む非プロトン性極性溶媒
を用いることを特徴とするN−アルキルアミノフェノー
ルエーテル類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23787189A JPH0399043A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | N―アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23787189A JPH0399043A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | N―アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0399043A true JPH0399043A (ja) | 1991-04-24 |
Family
ID=17021651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23787189A Pending JPH0399043A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | N―アルキルアミノフェノールエーテル類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0399043A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100491404B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2005-05-25 | 지에스건설 주식회사 | 중공교각의 중공부 차폐용 가설부재 및 그 가설방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52105136A (en) * | 1976-03-01 | 1977-09-03 | Ihara Chem Ind Co Ltd | Preparation of aminophenolalkylethers |
JPS5699448A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Nippon Nohyaku Co Ltd | Preparation of lower alkoxyaniline |
JPS6242958A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-24 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 1,3−または1,4−ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ベンゼンおよびこれらの製造方法 |
JPS6317852A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ニトロフエノキシベンゼンアミン類の製造方法 |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP23787189A patent/JPH0399043A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52105136A (en) * | 1976-03-01 | 1977-09-03 | Ihara Chem Ind Co Ltd | Preparation of aminophenolalkylethers |
JPS5699448A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Nippon Nohyaku Co Ltd | Preparation of lower alkoxyaniline |
JPS6242958A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-24 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 1,3−または1,4−ビス〔4−(3−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ベンゼンおよびこれらの製造方法 |
JPS6317852A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ニトロフエノキシベンゼンアミン類の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100491404B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2005-05-25 | 지에스건설 주식회사 | 중공교각의 중공부 차폐용 가설부재 및 그 가설방법 |
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