JPH0393780A - ２―（１―ヒドロキシアルキル））テトラヒドロフラン類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は、２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒド
ロフラン類の製造方法に関し、特にコバルト錯体を触媒
として用いる新規な反応により、有毒な水銀化合物を用
いずに２−（１一ヒドロキシアルキル）テトラヒドロフ
ラン類を高収率で得ることができる方法に関する。

く従来の技術〉 従来、ヒドロキシオレフィン類から、２−（１−ヒドロ
キシアルキル）テトラヒドロフラン類を製造する方法と
して、５−フエニルー５−ヒドロキシ−１−ベンテンを
、酢酸水銀または塩化水銀と反応させた後、酸素と水素
化ホウ素ナトリウムと反応させる方法が知られている［
Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ．　Ｃｈｅｍ．，１５　１
３１３（１９７８）］　．く発明が解決しようとする課
題〉 しかし、上記従来の方法においては、有毒な水銀化合物
を使用しなければならず、またトータルな収率は２０〜
６０％と低＜２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒ
ドロフラン類を低収率でしか得られなかった． そこで本発明の目的は、有毒な水銀化合物を用いずに，
２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒドロフラン類
を高収率で得ることができる方法を提供することにある
． く課題を解決するための手段〉 本発明は、前記課題を解決するために、一般式（Ｉ）： 『 ［式中、Ｒ１は置換または非置換の１価の炭化水素基ま
たは酸素含有複素環基であり、ｎ　２　　Ｒ３　　Ｒ４
およびＲｌ１は同一でも異なってもよく、水素原子また
は置換もしくは非置換の１価の炭化水素基であり、ただ
しＲ２とＲ３の少くとも一方は水素原子であり、Ｒ４と
Ｒ５は相互に結合して環を形成していてもよい］で表さ
れるヒドロキシオレフィン類の化合物から選ばれる少く
とも１種を、 一般式（■）： ［式中、Ｒｌｌ　　ＲＩ３　　Ｒｌ４およびＲｌ８は同
一でも異なってもよく、水素原子、置換または非置換の
１価の炭化水素基、もしくは式（ａ）二一ＣＯ２　Ｒ”
　　　　　（ａ） （ここで、Ｒ１７は低級アルキル基、アリール基または
アリールアルキル基を示す） で表される基または式（ｂ）： −　Ｃ　Ｏ　Ｎ　Ｒ　”Ｒ　”　　　（　ｂ　）（ここ
で、Ｒｌ６およびＲＩ９は同一でも異なってもよく、水
素原子、低級アルキル基、アリール基またはアリールア
ルキル基を示し、またＲｌ５１とＲｌ９は結合して環を
形成してもよいし、酸素原子を介して結合して式： ｛−ＣＨｚ　ｈ−０→ＣＨ２　＋． ［ここで、ぶおよびｍは同一でも異なってもよく正の整
数を示す］ で表される基であってもよい） で表される基である。

Ｒｌ２およびＲＩＭは、同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または式（Ｃ）： −ＣＯＯＲ”　　　　　（ｃ） （ここで、Ｒ２Ｇは水素原子または低級アルキル基を示
す） で表される基である． また、Ｒ１〜ＲＩ１５は互いに同一でも異なっていても
よい．］ で表される化合物から選ばれる少くとも１種を触媒とし
て用い、かつ１級アルコールおよび／または２級アルコ
ールの存在下に、酸素含有ガスと反応させる工程を含む
、一般式（　ＩＩＩ　）［式中、Ｒ’　　Ｒ２　Ｒ’　
　Ｒ’　およびＲ’は前記一般式（Ｉ）と同じ］ で表される２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒド
ロフラン類の製造方法を提供するものである。

本発明の出発物質であるヒドロキシオレフィン類の化合
物を表わす一般式（Ｉ）において、Ｒｌは置換または非
置換の１価の炭化水素基または酸素含有複素環基である
。　この置換または非置換の１価の炭化水素基としては
、例えば、メチル基、エチル基、プロビル基、イソブロ
ビル基、プチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基等の低
級アルキル基；シクロヘキシル基、シクロベンチル基、
シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、
ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基
またはアリールアルキル基：並びにこれらの基の炭素原
子に結合している水素原子の一部または全部が、塩素、
フッ素、臭素等のハロゲン原子、メトキシ基等のアルコ
キシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、メチレン
ジオキシ基、アシル基、エステル基、アミド基などで置
換されてなる基、例えば、４−クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、１−ヒドロキシエチル基、３．４−メ
チレンジオキシフェニル基、４−アセチル基、４−アセ
トキシル基、４−ジメチルアミノカルパモイル基などが
挙げられる。　酸素含有複素環基としては、例えば、２
−フリル基　　３−フリル基が挙げられる　　Ｒ２Ｒ３
　　Ｒ４およびＲ′は同一でも異なってもよく、水素原
子または置換もしくは非置換の１価の炭化水素基である
．　この置換もしくは非置換の１価の炭化水素基として
は、例えば、前記Ｒｌについて例示したものと同じもの
を挙げることができる。　ただし、Ｒ２とＲ３の少くと
も１方は水素原子であり、Ｒ４とＲ５は相互に結合して
環を形成してもよい。　例えばＲ４とＲＳは結合して、
フェニル基、シクロヘキシル基等の基を形成していても
よい。

この一般式（１）で表されるヒドロキシオレフィン類の
具体例として、５−フエニルー５一ヒドロキシ−１−ベ
ンテン、５−ヒドロキシ−１−ヘキセン、６−フェニル
ー５−ヒドロキシ−１−ヘキセン、６−フェニルー６−
ヒドロキシ−２−ヘキセン、５−（４−メトキシフエニ
ル）−５−ヒドロキシ−１−ベンテン、５一（２−フリ
ル）−５−ヒドロキシ−１−ベンテン，５−（４−クロ
ロフエニル）−５−ヒドロキシ−１−ペンテン、６．６
−ジメチル−５一ヒドロキシ−１−ヘプテン、２−（１
−ヒドロキシエチル）スチレン、５−ヒドロキシ−１一
オクテン、８−ヒドロキシ−４−デセン、１一フェニル
ー６−ヒドロキシ−２−ヘブテン、５一シクロヘキシル
−５−ヒドロキシー１−ペンテン、５−　（３．４−メ
チレンジオキシフエニル）−５−ヒドロキシ−１−ベン
テンなどが挙げられる。

本発明で触媒として用いられる化合物を表す前記一般式
（■！）において、Ｒｌｌ　　Ｒｌ３　　Ｒｌ４および
Ｒｌ８は同一でも異なってもよく、水素原子、置換また
は非置換の１価の炭化水素基、もしくは式（ａ）または
式（ｂ）で表される基である。　置換または非置換の１
価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基
、ｎープロビル基、ｉｓｏ−プロビル基、ｎ−ブチル基
、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−プチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチ
ル基等の炭素原子数１〜１０の低級アルキル基：シクロ
ベンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の脂
環式または縮合環系炭化水素基；フェニル基、ナフチル
基、ベンジル基、フェニルエチル基、フエニルプロビル
基、フェニルブチル基等の芳香族炭化水素基；およびこ
れらの基の炭素原子に結合している水素原子の一部また
は全部がメチル基、エチル基、ｎ−プロビル基，　ｉｓ
ｏ−プロビル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−プチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−ブロポキシ基、ｉｓｏ−ブロボキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｅ−ブトキ
シ基、ｔｅｒｔ−プトキシ基等のアルキル基、アルコキ
シル基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子
、あるいはアセチル基等のアシル基、アセトキシル基等
のエステル基、ジメチルアミド基等のアミド基などで置
換されてなる基、例えば、４−メチルフェニル基、４−
メトキシフェニル基、４−クロロフエニル基、４−アセ
チルフエニル基、ＣＦ３等のバーフルオロアルキル基、
エステル基、カルバモイル基などが挙げられる。

また、式（ａ）におけるＲ１の低級アルキル基としては
、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロビル基、ｉｓ
ｏ−プロビル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のＣ１〜Ｃ，。

、好ましくはＣｌ〜Ｃ，のアルキル基が挙げられる、 式（ｂ）におけるＲ”　　Ｒ”の低級アルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロビル基、ｉｓ
ｏ−プロビル基、ｎ−プチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−プチル基、一（ＣＨ２）Ｔ
Ｉ　−　　（ｎ　＝　４〜６）等のＣ１〜Ｃ．。、好ま
しくはＣｌ〜Ｃ５のアルキル基が挙げられ。　さらに、
ＲｌａとＲ１は結合して環を形成し、例えば、式： ｛−ｃＨｗ　｝４、｛−ＣＨｚ　＋ｓ で表される基などであってもよいし、酸素原子を挟んで
結合して 式： ＋ＣＨ２　”ｒＴ””０−（ＣＨ２÷．（ここで、℃お
よびｍは同一でも異なってもよく、正の整数、好ましく
は２〜３の整数である） で表される基、例えば、下記式： ｛−ＣＨ２　＋ｒ−ｏ−（ｃｏ２＋ｚ で表される基を形成していてもよい。

またＲｌＦ　　ＲＩＭおよびＲＩ９のアリール基、アリ
ールアルキル基としては、フェニル基、ナフチル基、ベ
ンジル基、フエニルエチル基、フェニルブロビル基、フ
ェニルブチル基等が挙げられる。

Ｒｌ２およびＲ”は、同一でも異なってもよく、水素原
子、低級アルキル基、ハロゲン原子、または式（Ｃ）で
表される基である。　低級アルキル基としては、例えば
、メチル基、エチル基、ｎ−プロビル基，　ｉｓｏ−プ
ロビル基、ｎ一ブチル基、ｓｅｃ−プチル基、ｉｓｏ−
ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のＣ１〜ＣＩＯのアル
キル基が挙げられる。　ハロゲン原子としては、例えば
、フッ素、塩素等が挙げられる。　ま　た式（ｃ）：Ｃ
ＯＯＲ２０におけるＲ２Ｇで表される低級アルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、プロビル基、イ
ソプロビル基、ブチル基，イソプチル基、ｔ−ブチル基
、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。

ここで、一般式（　Ｉ１　）におけるＲ１〜ＲＩＭは、
それぞれ互いに同一でも、異なっていてもよい。

本発明において、上記一般式（■！）で表される化合物
は、１種単独でも２　ｆｌ以上を組合せても用いられる
。

この一般式（　ＩＩ　）で表される化合物の好ましいも
のとして、下記表１に挙げられる配位子Ｌを有する一般
式ＣｏＬ．で表されるコバルト（ＩＩ）錯体が例示され
る。

さらに好ましいものとして、配位子Ｌが下記式： で表されるコバルト（ＩＩ）錯体ＣｏＬ，が挙げられる
。

本発明で触媒として用いられるコバルト（　ＩＩ　）錯
体において、Ｃｏに配位する配位子Ｌは同一であっても
異なっていてもよい。

このコバルト（ＩＩ）錯体は、いずれの方法によって得
られたものでもよく、特に限定されない。　また、市販
品を用いてもよい。

このコバルト（■！）錯体は、例えば、同一の配位子を
２個有するコバルト（Ｉ！）錯体の場合、ジケトンとＣ
ＯＣＡｚを原料として、下記式： に従って、脱塩法で製造することができる。

この方法で生成した錯体は通常はそのまま乾燥してもよ
いが、有機溶媒で押出後乾燥して反応に使用してもよい
。

本発明の方法において、前記一般式（■）で表される化
合物である触媒の使用量は、通常、出発原料である前記
一般式（１）で表されるヒドロキシオレフィン類Ｉ　Ｉ
ｌｏｆｔに対して好ましくは５〜４０ｍｏ℃％程度であ
る。　例えば、５一フェニルー５−ヒドロキシ−１−ベ
ンテン１ｍｏｊ２に対して、ビス［４．　４−ジメチル
−１−モルホリノカルバモイル−１．３−ペンタンジオ
ナト］コバルト（　ＩＩ　）錯体は５〜４０ｍｏＪＺが
適する． 本発明の方法は、上記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキ
シオレフィン類から選ばれる少くとも１種を、一般式（
　ＩＩ　）で表される化合物を触媒として、１級アルコ
ールおよび／または２級アルコールの存在下に反応させ
る方法である。

用いられる１級アルコールまたは２級アルコールは、脂
肪族、脂環式、芳香族またはこれらの置換基を有するも
のであればよく、特に限定されない。　例えば、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロバノール、ｎ−ヘキサノー
ル、ベンジルアルコール、イソプロパノール、シクロペ
ンタノール、シクロヘキサノール、フェネチルアルコー
ル等が挙げられる．　これらのうちで、好ましいものは
、エタノール、イソプロバノールである。

１級アルコールおよび／または，２級アルコールの使用
量は、出発物質である前記一般式（１）で表されるヒド
ロキシオレフィン類１■ｏｆＬに対して、通常、ＩＩｔ
以上が良い。　なお、１級アルコールまたは２級アルコ
ールは、ヒドロキシオレフィン類の溶媒として用いるの
が好ましいが、必要により反応に不活性な他の溶媒によ
り希釈して用いても良い。

本発明に用いる酸素含有ガスとしては、酸素ガス（純酸
素）でもよいし、酸素含有窒素ガス（例えば空気）、酸
素含有アルゴンガス等の酸素含有不活性ガスでも良い． 酸素含有ガス中の酸素の分圧は、好ましくは０．　　２
〜３　０ａｔｍ　，より好ましくは、１〜１５ａｔｍが
良い。　酸素の分圧がこの範囲内にあると、反応速度が
速く、反応収率も良い。

また、本発明の方法においては、得られる２−（１−ヒ
ドロキシアルキル）テトラヒドロフラン類の収率を向上
させるために、脱水剤、酸素以外の酸化剤を用いてもよ
い。

用いられる脱水剤としては、例えば、無水硫酸ナトリウ
ムＮａ，５０４　　　無水硫酸マグネシウムＭｇＳ０４
、ゼオライト系脱水剤（商品名モレキュラーシーブとし
て市販されているもの）等が挙げられる。　好ましくは
、ゼオライト系脱水剤である。

この脱水剤を使用する場合、その使用量は通常、出発物
質であるヒドロキシオレフィン類１ｔｒａｉｌに対して
５０ｇ〜２ｋｇ程度である。

また、酸素以外の酸化剤としては、例えば、ヨードソベ
ンゼン；ｔ−プチルハイドロパーオキシド、クメンハイ
ドロパーオキシド等のハイドロバーオキシド類などを挙
げることができ、好ましくはハイドロパーオキシド類で
ある。

この酸化剤を使用する場合、その使用量は、通常、出発
物質であるヒドロキシオレフィン類１　ｍｏｊ２に対し
て０．２〜２ｍｏｆ程度である。

本発明の方法における反応は、通常、液相・中で連続的
に行ってもよいし、回分的に行ってもよい。

反応温度は、０〜７５℃がよい．　Ｏ℃未満では反応が
進行しにくく、７５℃を超えると、収率が低下する。

本発明の方法によって得られる前記一般式（　ＩＩＩ　
）で表される２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒ
ドロフラン類の代表的なものとしては、２−ヒドロキシ
メチル−５−フェニルテトラヒドロフラン、２−ヒドロ
キシメチル−５−メチルテトラヒドロフラン、２−ヒド
ロキシメチル−５−ペンジルテトラヒドロフラン、２（
１−ヒドロキシエチル）−５−フェニルテトラヒドロフ
ラン、２−ヒドロキシメチル−５（４−メトキシフェニ
ル）テトラヒドロフラン、２−ヒドロキシメチル−５−
（２−フリル）テトラヒドロフラン、２−ヒドロキシメ
チル−５−（４−クロロフェニル）テトラヒドロフラン
、２−ヒドロキシメチル−５−ｔ−プチルテトラヒドロ
フラン、２−ヒドロキシメチル−５−プロビルテトラヒ
ドロフラン，２−（１ーヒドロキシ−２−フェニルエチ
ル）一５−メチルテトラヒドロフラン、２−ヒドロキシ
メチル−５−シクロヘキシルテトラヒドロフラン、２−
ヒドロキシメチル−５−（３．４−メチレンジオキシフ
ェニル）テトラヒドロフラン、２（１−ヒドロキシプチ
ル）−５−エチルテトラヒドロフラン等が挙げられる。

本発明の方法において、得られる２−（１−ヒドロキシ
アルキル）テトラヒドロフラン類は、シス体およびトラ
ンス体の混合物として得られるが、トランス体の選択率
は、通常９７％以上である， 本発明の方法によって得られる２−（１−ヒドロキシア
ルキル）テトラヒドロフラン類は、例えば、医ａ薬合成
中間体等の用途に有用である。

〈実施例〉 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。　本発
明は、これらの実施例に限定されるものではない。

（実施例１） 反応容器に、５−フェニル−５−ヒドロキシー１−ベン
テン２　　ｍｍｏｉ、ビス［４．４−ジメチル−１−モ
ルホリノカルバモイル−１．３ーペンタンジオナト］コ
バルト錯体０．　　４　　ｍｍｏＩＬおよびイソブロビ
ルアルコール２０ｍｊｌを仕込み、０２ガス存在下、５
０℃で３０分間反応させた。　溶媒留去後、得られた反
応混合物を、カラムクロマトグラフィーに掛け、５−フ
ェニルー２−ヒドロキシメチルテトラヒドロフランを収
率５２％で得た。　得られた５−フェニルー２−ヒドロ
キシメチルテトラヒドロフランを’　Ｈ−ＮＭＲスペク
トルに掛けたところ、トランス体の選択率は９７％以上
であった． （実施例２） 反応容器にさらにモレキュラーシーブ４Ａ（アルドリッ
チ社製、＾ｃｔｉｖａｔｅｄ　Ｐｏｗｄｗｅｒ　；ｃａ
ｔ．　Ｎｏ．２３，３６６−８）　１　ｇを仕込み、反
応時間をＯ．Ｓ時間に変更した以外は、実施例！と同様
にして反応させ、得られた反応混合物をカラムクロマト
グラフィーに掛けたところ、５−フェニル−２−ヒドロ
キシメチルテトラヒドロフランが収率６２％で得られた
。　　また、’Ｈ−ＮＭＲ分析により、トランス体の選
択率が９７％以上であることがわかった。

（実施例３） 反応容器に、さらにモレキュラーシープ４Ａ１ｇおよび
ｔ−プチルハイドロパーオキシド２　　ｍｓｏｊ２を仕
込み、反応時間を０．５時間に変更した以外は、実施例
１と同様にして反応させ、得られた反応混合物をカラム
クロマトグラフィーに掛けたところ、５−フェニル−２
−ヒドロキシメチルテトラヒドロフランが収率７３％で
得られた．　　また、Ｇ．Ｃ．分析により、トランス体
の選択率が９９％以上であることがわかった． （実施例４〜６） ｔ−プチルハイドロパーオキシドの使用量を表２に示す
とおりに変更した以外は実施例３と同様にして反応させ
、得られた５−フェニルー２−ヒドロキシメチルテトラ
ヒドロフランの収率を測定した。　結果を表２に示す。

表　　　　２ （実施例７〜１２） ビス［４．４−ジメチル−１−モルホリノヵルバモイル
−１．３−ペンタジオナト］コバルト（■）錯体および
反応時間を表３に示すコバルト錯体および反応時間心変
更した以外は、実施例２と同様にして反応させ、得られ
た５ーフェニルー２−ヒドロキシメチルテトラヒドロフ
ランの収率を測定した．　結果を表３に示す。

（実施例１３〜２０） ビス［４．４−ジメチル−１一モルホリノカルパモイル
−１．３−ペンタジオナト〕コバルト（夏■）錯体の代
わりにビス［１，１．１−トリフルオロアセチルアセト
ナト］コバルト（　ＩＩ　）錯体を用い、表４に示す反
応条件（反応温度、反応時間、溶媒（量）、酸素圧力、
添加剤（量））で行った以外は実施例２と同様にして反
応させ、得られた５−フェニル−２−ヒドロキシメチル
テトラヒドロフランの収率を測定した．　結果を表４に
示す。

（実施例２１〜３０） 出発原料として、表５に示す種々のヒドロキシオレフィ
ンを使用した以外は実施例３と同様にして反応させ、得
られる２−ヒドロキシメチルテトラヒドロフラン類の構
造を同定するとともに、収率を測定した．　また、．Ｇ
．Ｃ．分析によりトランス体の選択率も測定した。

く発明の効果〉 本発明の方法によれば、有毒な水銀化合物を用いること
な＜、２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒドロフ
ラン類を高収率で得ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１は置換または非置換の１価の炭化水素基
   または酸素含有複素環基であり、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾
   ４およびＲ＾５は同一でも異なってもよく、水素原子ま
   たは置換もしくは非置換の１価の炭化水素基であり、た
   だしＲ＾２とＲ＾３の少くとも一方は水素原子であり、
   Ｒ＾４とＲ＾５は相互に結合して環を形成していてもよ
   い］で表されるヒドロキシオレフィン類の化合物から選
   ばれる少くとも１種を、 一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＾１＾１、Ｒ＾１＾３、Ｒ＾１＾４およびＲ
   ＾１＾６は同一でも異なってもよく、水素原子、置換ま
   たは非置換の１価の炭化水素基、もしくは式（ａ）：−
   ＣＯ＿２Ｒ＾１＾７（ａ） （ここで、Ｒ＾１＾７は低級アルキル基、アリール基ま
   たはアリールアルキル基を示す） で表される基または式（ｂ）： −ＣＯＮＲ＾１＾８Ｒ＾１＾９（ｂ） （ここで、Ｒ＾１＾８およびＲ＾１＾９は同一でも異な
   ってもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基ま
   たはアリールアルキル基を示し、またＲ＾１＾８とＲ＾
   １＾９は結合して環を形成してもよいし、酸素原子を挟
   んで結合して式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［ここで、ｌおよびｍは同一でも異なってもよく正の整
   数を示す］ で表される基を形成していてもよい） で表される基である。 Ｒ＾１＾２およびＲ＾１＾５は、同一でも異なってもよ
   く、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または式
   （ｃ）： −ＣＯＯＲ＾２＾０（ｃ） （ここで、Ｒ＾２＾０は水素原子または低級アルキル基
   を示す） で表される基である。 また、Ｒ＾１＾１〜Ｒ＾１＾６は互いに同一でも異なっ
   ていてもよい。］ で表される化合物から選ばれる少くとも１種を触媒とし
   て用い、かつ１級アルコールおよび／または２級アルコ
   ールの存在下に、酸素含有ガスと反応させる工程を含む
   、一般式（III）：▲数式、化学式、表等があります▼
   （III） ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５
   は前記一般式（ I ）と同じ］ で表される２−（１−ヒドロキシアルキル）テトラヒド
   ロフラン類の製造方法。
2. （２）さらに脱水剤および／または酸化剤を使用するこ
   とを特徴とする請求項１記載の２−（１−ヒドロキシア
   ルキル）テトラヒドロフラン類の製造方法。