JPH038738A - 光ファイバ線引炉および線引方法 - Google Patents

光ファイバ線引炉および線引方法

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JPH038738A
JPH038738A JP29026289A JP29026289A JPH038738A JP H038738 A JPH038738 A JP H038738A JP 29026289 A JP29026289 A JP 29026289A JP 29026289 A JP29026289 A JP 29026289A JP H038738 A JPH038738 A JP H038738A
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    • C03B2205/63Ohmic resistance heaters, e.g. carbon or graphite resistance heaters
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2205/00Fibre drawing or extruding details
    • C03B2205/60Optical fibre draw furnaces
    • C03B2205/90Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ファイバ線引炉に関する。より詳細には、
線径変動の小さい光ファイバを安価で製造できる光ファ
イバ線引炉および線引方法に関する。
従来の技術 線引炉で母材を加熱、溶融、線引して光ファイバを製造
する際に、パージガスを線引炉内の適当な方向に流し、
光ファイバの線径を整えることが行われている。例えば
、特開昭52−65458号公報では、光ファイバ線引
炉内で、光ファイバ母材に沿ってパージガスを一様に下
向きに流し、光ファイバの線径を一様に保つ装置が開示
されている。この装置は、線引炉内の光ファイバプリフ
ォーム先端部位にガスを吹きつけるガスカーテン装置を
具備する。ガスの導入量は、炉内におけるガスの流れが
層流となり、且つ炉内に生じる上昇気流の流量よりも多
く設定しである。
光ファイバ線引炉として一般的なカーボン類では、上記
の不活性ガスとしてN2、Ar5He等が用いられる。
特開昭52−119949号公報では、この不活性ガス
を加熱した後に線引炉内に供給することにより、光ファ
イバの線径変動を抑制する方法が開示されている。この
方法では、N2ガスを600℃まで加熱し、線引きを行
っている。
不活性ガスを加熱する方法としては、光ファイバ線引炉
外部の熱風発生器を使用するのが一般的である。また、
特開昭54−88325号公報では、光ファイバ線引炉
の光ファイバ母材の上方を狭くして、そこを流れるパー
ジガスを、光ファイバ母材を加熱溶融するヒータの予熱
で加熱する方法が開示されている。第6図に、この方法
を図示する。第6図に示した光ファイバ線引炉は、光フ
ァイバ母材1を内部に収納した炉芯管3と、炉芯管3の
上部に接続され、上端近傍からパージガスを内部に導入
する円筒部材2と、炉芯管3の周囲に配置され、光ファ
イバ母材1を加熱、溶融するヒータ4とを具備する。光
ファイバ母材1は、母材支持棒12によって上部から吊
るされ、母材支持棒12は、円筒部材2上方のフィーダ
6に固定され、下方から張力をかけられ、線引されて光
ファイバ11となる。
フィーダ6は、光ファイバ母材1の位置が常に適正とな
るよう母材支持棒12を上下に動かす。母材支持棒12
の光ファイバ母材1直上部分には、スリーブ5が被せて
あり、円筒部材2との間隙を狭くしている。パージガス
は、この狭い間隙の加熱部15で効率よく加熱され、光
ファイバ母材1の周辺に到達する。
さらに、特開昭54−134135号公報では、上記の
不活性ガスとしてHeを用いる方法が開示されている。
不活性ガスとしてHeを用いると、ガスの加熱が速やか
に行われ、光ファイバの線径変動が小さくなる。
発明が解決しようとする課題 上述の従来の装置で光ファイバを製造する際には、以下
の問題点があった。
光ファイバ線引炉外部の熱風発生器を用いる方法では、
−船釣な熱風発生器のガス加熱温度の上限は約800℃
である。さらに、線引炉の吹出口までの配管、吹出口周
辺の部材により熱が奪われ、たとえ加熱源に近い高温に
予熱しても光ファイバ母材周辺に達したときのパージガ
ス温度は、低くなってしまう。
現在、光ファイバの線径変動に対する要求は厳しく、パ
ージガスを800℃程度の予熱することによって達成し
得る線径変動(例えば±0.8μm)では不充分となり
つつある。しかしながら、パージガスを実質的に800
℃以上に予熱でき、光ファイバ母材周辺までその温度を
保つことができるような実用的な方法がなかった。
例えば、第6図に示した方法で、パージガスを十分加熱
するには、加熱部15の長さを長くする必要があり、そ
のためスリーブ5を長くしなければならない。これに伴
って、円筒部材2、母材支持棒12、フィーダ6のスト
ローク等を延長する必要がある。第7図(a)〜(C)
および第8図(a)〜(C)に加熱部15がない光ファ
イバ線引炉と具備する光ファイバ線引炉の比較図を示す
。第7図(a)および第8図(a)は新しい光ファイバ
母材1を光ファイバ線引炉に挿入する場合であり、フィ
ーダ6が最高位置にあるときを示す。第7図(a)と比
較して、第8図(a)では、円筒部材ツおよび母材支持
棒12を延長した部分の和だけフィーダ6の位置が高く
なっている。
第7図(b)および第8図(b)は新しい光ファイバ母
材1が、光ファイバ線引炉内の所定の位置に収納された
ときを示す。第7図(b)と比較して、第8図(b)で
は、スリーブ5の分だけ円筒部材2を延長しなければな
らない。第7図(C)および第8図(C)は練り終了時
であり、フィーダ6が最低位置にあるときを示す。第7
図(C)と比較して、第8図(C)では円筒部材2を延
長した分だけ母材支持棒12を延長しなければならない
。以上のように、この方法では、光ファイバ線引炉の各
部およびフィーダ6のストロークを延長する必要がある
また、Heガスを用いる方法では、Heが高価であるこ
とが問題である。すなわち、HeガスはN2ガスの20
倍のコストがかかる。
そこで本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し
た安価なパージガスを十分に予熱することが可能で、構
成部材を延長する必要のない光ファイバ線引炉および線
引方法を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明に従うと、内部に光ファイバ母材を収納する収納
部と、該収納部に連続し、周囲に加熱手段が配置され、
前記光ファイバ母材の先端が内部で加熱溶融される炉芯
管と、前記炉芯管内部または、前記収納部内部と前記炉
芯管内部の両方にパージガスを導入する手段と、を具備
する光ファイバ線引炉において、前記炉芯管および/ま
たは前記収納部の少なくとも一部が間に空間を有する複
数の炉壁を具備し、前記複数の炉壁の最も外側の炉壁が
パージガス導入口を、前記複数の炉壁の最も内側の炉壁
が前記光ファイバ母材近傍にパージガス吹き出し口を具
備し、パージガスは前記導入口から導入され、前記複数
の炉壁の間の空間を流れ、前記吹き出し口から炉内に供
給されることを特徴とする光ファイバ線引炉が提供され
る。
また、上記の光ファイバ線引炉を用いて、前記複数の炉
壁の間の空間でパージガスを800℃以上に予熱した後
に光ファイバ線引炉内に導入する光ファイバ線引方法が
提供される。
作用 本発明の光ファイバ線引炉では、パージガスは複数の炉
壁の間の空間を流れているうちに加熱される。パージガ
スの流量、加熱手段の発生熱量、炉内の温度等に合わせ
て、複数の炉壁の間の空間の形状、容積を変更すること
により、パージガスの加熱は効率的に行われる。また、
前述した従来の方法のように、光ファイバ線引炉の各部
を延長したりする必要がない。
本発明の光ファイバ線引炉において、パージガスの流量
が多い等の理由でパージガス温度が低くなってしまう場
合には、複数の炉壁の周囲に第2の加熱手段および/ま
たは断熱材を配置することが好ましい。第2の加熱手段
を複数の炉壁の周囲に配置することによりパージガスの
加熱をより確実に行うことができる。
また、本発明の光ファイバ線引炉の複数の炉壁は、例え
ば炉の中心線上に中心線があるように同心に配置された
半径の異なる複数の円筒部材によって実現することがで
きる。この構成をとる場合最も内側に配置される円筒部
材の内径は、光ファイバ母材の外径よりも大きくなけれ
ばならない。
また、最も内側に配置される円筒部材は、融点1000
℃以上および熱伝導率50W/mK以上の金属製または
カーボン製であることが好ましい。さらに、上記の円筒
部材をカーボン製にした場合、このカーボン製円筒部材
の表面は、SiCで被覆されていることが好ましい。
これは、一般に光ファイバ母材を溶融するときの線引炉
内の温度は、2000℃以上になり、本発明の光ファイ
バ線引炉の最も内側に配置される円筒部材も800℃以
上に加熱されるためで、この温度に十分耐える材料で構
成されていることが好ましい。
また、パージガスを効率よく加熱するためには、この円
筒部材の熱伝導率が高いことが好ましい。
さらに、この円筒部材から炉の他の部分に熱が逃げない
ようにして、高温にすることが好ましい。
そのためこの円筒部材は、線引炉の他の部分と熱的に絶
縁されていることが好ましい。熱的に絶縁するには、例
えば石英等の熱伝導率の小さい材料を用いた支持部材で
、この最も内側に配置される円筒部材を支持すればよい
上記の構成の光ファイバ線引炉では、ガス吹き出し口は
、最も内側に配置される円筒部材の下端近傍に設けられ
ることが好ましい。パージガスを効率よく加熱するため
には、複数の炉壁の間の空間のなるべく長い距離を流す
必要があるからである。
また、パージガスを加熱する距離をより長くしたい場合
は、例えば炉壁を3重とし、最も外側の炉壁の下端にパ
ージガス導入口を、2番目の炉壁の上端にガス流路を、
最も内側の炉壁の下端にガス吹き出し口を設ける。この
構成によれば、パージガスは、最も外側の炉壁と2番目
の炉壁との間の空間を上昇するとき、および2番目の炉
壁量も内側の炉壁との間の空間を加工するときの両方で
加熱されるのでより温度が高くなる。本発明の光ファイ
バ線引炉によれば、炉壁の数、パージガス導入口の位置
を選択することにより、線引炉内へ導入するパージガス
温度を、適正に加熱することが可能である。
本発明では、上記の光ファイバ線引炉を用いた光ファイ
バの線引方法も提供される。本発明の方法は、上記の光
ファイバ線引炉の複数の炉壁の間の空間でパージガスを
予熱し、800℃以上として線引炉内へ導入するところ
にその主要な特徴がある。パージガスの温度が800℃
以上と従来よりも高温なので、本発明の方法により得ら
れる光ファイバは、線径変動のない高品質のものとなる
以下、本発明を実施例により、さらに詳しく説明するが
、以下の開示は本発明の単なる実施例に過ぎず、本発明
の技術的範囲をなんら制限するものではない。
実施例1 第1図に、本発明の光ファイバ線引炉の一例を示す。第
1図の光ファイバ線引炉は、炉芯管3の周囲に光ファイ
バ母材1を誘導加熱するための高周波コイル41が配置
されている。炉芯管3の上部には、炉芯管3よりも大径
の第1の円筒部材21と、外径が第1の円筒部材21よ
りも小さく、内径が炉芯管3の内径とばぼ同径の第2の
円筒部材22とが、炉芯管3と同心に配置されている。
第2の円筒部材22は、光ファイバ母材1の収納部を構
成しており、石英の支持部材23を介し、炉芯管3およ
び第1の円筒部材21に接続されている。第2の円筒部
材22には、耐熱性があり、熱伝導率の高い銅、しんち
ゅう、ニッケルまたはカーボンが用いられることが好ま
しい。第1の円筒部材21の上端近くにはパージガス導
入口24が、また、第2の円筒部材22の下端近くには
ほぼ全周に亘ってパージガス吹き出し口25が設けられ
ている。このパージガス吹き出し口25は、炉内に導入
されたパージガスの流れが乱れないような形状であるこ
とが好ましく、例えば、環状の隙間とすることができる
本実施例の光ファイバ線引炉では、パージガスとしては
安価なN2が使用される。パージガス導入口24から導
入されたN2ガスは、第1の円筒部材21と第2の円筒
部材22との間の流路を下向きに流れるうちに加熱され
る。第2の円筒部材22は、炉芯管3よりの輻射あるい
は炉芯管3との接触部からの熱伝導によりかなりの高温
となっており、炉芯管3に近い部分はどその温度は高い
。従って、パージガス吹き出し口25を出る時のN2ガ
スは炉芯管上端の温度近くまで均一に予熱されており、
その動粘度も大きく、光ファイバ母材1の溶融部周辺に
おける、ガスの流れの乱れおよび温度変動も小さい。
光ファイバ母材1は、母材支持棒12により、線引炉外
部上方から吊られている。高周波コイル41により加熱
溶融された光ファイバ母材1は、線引炉外部上方から張
力を掛けられ、光ファイバ11となる。光ファイバ母材
1が短くなっても、溶融部分は常に一定の位置にあるよ
うに母材支持棒12は上下に動く。
本実施例の光ファイバ線引炉において、炉芯管3の内径
を60mm、第2の円筒部材22をカーボンとし、直径
25mmの支持棒12に取り付けられた直径50ml1
1の光ファイバ母材1を本発明の方法で線引した。
炉内の光ファイバ母材1の周辺の温度を2080℃とな
るように加熱したところ、パージガス吹き出し口25付
近のカーボン円筒温度は1200℃であった。
また、パージガス吹き出し口25を出た直後のN2ガス
温度を、炉芯管3からの輻射熱に影響されないようにし
て測定したところ1150℃±0.5℃であった。線速
200 m /分で線引を行ったところ、得られた光フ
ァイバの外径変動は、125μm±0.5μm以下であ
り、良好な線引が行えた。
本実施例の光ファイバ線引炉では、光ファイバ母材1を
加熱する加熱手段として、炉芯管3の周囲に配置された
高周波コイル41を具備していたが、この加熱手段は、
炉芯管3に直接通電する構成でもよく、炉芯管3を設け
ず直接ヒータにより加熱する構成であってもかまわない
本実施例の光ファイバ線引炉において、第1の円筒部材
21と第2の円筒部材22の間の空間が大きすぎると、
この空間を流れるパージガスに効果的な加熱が行われな
い。また、効率的に加熱するために、円筒部材22の外
側に放熱フィンの機能を有する突起を設けることが好ま
しい。
円筒部材22にステンレス鋼のような熱伝導率の低い材
料を用いると、円筒部材22が局部的に高温となり、ガ
ス加熱が効率的に行われないばかりか、歪みが生じて破
壊される等安全上の問題も生じる。
しかしながら、本発明の光ファイバ線引炉において、二
重の炉壁の部分を加熱する構成を採り、円筒部材22に
熱伝導率が高い材料を用いると、パージガス吹き出し口
25近傍の温度が低くなることもある。円筒部材22の
温度分布は、円筒部材22の肉厚を部分的に変えること
により多少の調節は可能である。また、円筒部材22を
熱伝導率の高い銅等の材料と、熱伝導率の低いステンレ
ス鋼等の材料を組合せて構成し、平均の熱伝導率を適当
なものすることもできる。第5図に、銅とステンレス鋼
を組み合わせた構成の円筒部材22の断面図を示す。
第5図に示した円筒部材22は、ステンレス鋼のバイブ
30の外側に銅線31を耐熱性の高いニッケルロウ32
でロウ付けしたものである。
実施例2 本発明の光ファイバ線引炉の第2の実施例を第2図に示
す。第2図に示した光ファイバ線引炉は、第1図の光フ
ァイバ線引炉の第1の円筒部材21の周囲にヒータ40
および断熱材7を配置したものである。第2図の光ファ
イバ線引炉では、第1の円筒部材21の温度が、第1図
の光ファイバ線引炉よりも高くなるため、金属よりカー
ボン等を用いることが好ましい。円筒部材21にカーボ
ンを用いた場合、400tJ)、上に加熱される部分は
大気中での酸化消耗が激しいので、N2ガス等の不活性
雰囲気にする必要がある。
本実施例の光ファイバ線引炉において、炉芯管3の内径
を60mm、第2の円筒部材22をカーボンとし、直径
25mmの支持、棒12に取り付けられた直径59mm
の光ファイバ母材1を本発明の方法で線引した。
炉内の光ファイバ母材1の周辺の温度を2050℃、パ
ージガス吹き出し口25付近の円筒部材22の温度を1
500℃に加熱した。また、パージガス吹き出し口25
を出た直後のN2ガス温度を、炉芯管3からの輻射熱に
影響されないようにして測定したところ1450℃±0
.1℃であった。線速200m/分で線引を行ったとこ
ろ、得られた光ファイバの外径変動は、125μm±0
.2μmであった。
また、本実施例では、上記のように従来の線引炉の通常
の炉温2100℃より低い2050℃で線引を行ったが
、この温度でも従来と同じ引張張力で練りすることが可
能であった。
本実施例の光ファイバ線引炉において、円筒部材22は
石英支持部材23により上下を支持され、線引炉の他の
部分と熱的に絶縁されているが、円筒部材22を熱的に
絶縁する構成はこれに限られるものではない。第4図に
円筒部材22を熱的に絶、縁する他の構成を示す。第4
図に示す構成では、円筒部材22は下端26がフランジ
状に拡がっており、このフランジの部分26で炉芯管3
と直接接触する。
また、炉芯管3の周囲は水冷ジャケット8て囲まれ、炉
芯管3と水冷ジャケット8との間の加熱室9内にヒータ
4は図示されない断熱材とともに収納されている。円筒
部材22の下端26がフランジ状に拡がっているので円
筒部材21と22の間を流れてきたパージガスが、加熱
室9内にリークすることはない。また、水冷ジャケット
8と円筒部材21との間には熱が逃げないように石英部
材10が配置されている。なお、円筒部材22の上端は
、第2図の光ファイバ線引炉と同様石英支持部材23で
支持されている。
上記の光ファイバ線引炉では、パージガスを加熱室9に
通せばさらに高温が得られると考えられるが、加熱室9
内の断熱材は温度分布を持っており、パージガスの温度
変動が大きくなるばかりか、断熱材より発生するダスト
がパージガスとともに炉芯管3内に運ばれ、光ファイバ
11中に取り込まれの強度劣化をひきおこすので好まし
くない。しかしながら、炉芯管の炉壁を二重にし、この
間の空間で予熱を行なえば、パージガスをさらに高温に
加熱することが可能なのはいうまでもない。
第3図にこのような構成の光ファイバ線引炉を示す。第
3図に示した光ファイバ線引炉は、第1図に示した光フ
ァイバ線引炉を改良したものであり、第1図の光ファイ
バ線引炉と異なるところを中心に説明する。
第3図の光ファイバ線引炉は、光ファイバ母材1の収納
部の炉壁が第1の円筒部材21および第72の円筒部材
22で二重になっているだけでなく、炉芯管3の炉壁も
二重になっている。第1および第2の円筒部材21.2
2と炉芯管3とは石英支持部材23を介して接続されて
いる。パージガス導入口24は、第1図の線引炉と同様
、゛第1の円筒部材21の上端近(に設けられ、パージ
ガス吹き出し口25は、炉芯管3の光ファイバ母材1の
近傍に設けられている。
パージガスは、パージガス導入口24から第1および第
2の円筒部材21.22の間の空間に導入され、加熱さ
れながら下方へ流れ、炉芯管3の二重の炉壁の間を流れ
てさらに加熱′され、パージガス吹き出し口25から炉
内へ導入される。
この構成によれば、パージガスは光ファイバ母材の収納
部だけでなく、より高温の炉芯管部分でも加熱されるの
で、炉内へ導入されるときの温度はより高温にすること
ができる。従って、より高品質の光ファイバが製造可能
である。
以上のように、本発明の光ファイバ線引炉では、従来よ
りも線形変動の小さい光ファイバが製造可能である。ま
た、本発明の光ファイバ線引炉は、炉芯管内の温度、雰
囲気を維持するため従来から必要不可欠な炉芯管上方に
設けられた円筒部材の炉壁および/または炉芯管の炉壁
を複数にして、その間の空間でパージガスを加熱する。
そのため、従来の線引炉で効率よくパージガスを加熱す
るための加熱部を設けるときのように円筒部材、母材支
持棒、フィーダのストローク等を延長する必要がない。
発明の詳細 な説明したように、本発明の光ファイバ線引炉は、従来
のものより高い温度までパージガスを均一に予熱するこ
とができ、さらにその温度を下げることなく炉内に供給
することができる。従って、本発明の光ファイバ線引炉
では、光ファイバ母材溶融部でのパージガスの、温度変
動が小さく、動粘度が大きく、流れの乱れが少ないので
、ファイバ外径の変動を小さくできる。また、Heのよ
うな高価なガスを使用する必要がないので、光ファイバ
製造コストも低くできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の光ファイバ線引炉の実施例の縦断面
図であり、 第2図は、本発明の光ファイバ線引炉の他の実施例の縦
断面図であり、 第3図は、第1図の光ファイバ線引炉を改良した光ファ
イバ線引炉の縦断面図であり、第4図は、第2図の光フ
ァイバ線引炉をさらに改良した改良部分の縦断面図であ
り、 第5図は、本発明の光ファイバ線引炉に用いられる円筒
部材の一例の横断面図であり、第6図は、従来のパージ
ガス加熱部を有する光ファイバ線引炉の縦断面図であり
、 第7図および第8図は、第6図の光ファイバ線引炉と一
般の光ファイバ線引炉との比較図である。 〔主な参照番号〕 1・・・光ファイバ母材、 2.21.22・・・円筒部材、 3・・・炉芯管、 4.40・・・ヒータ、 5・・・スリーブ、 6 ・ 7 ・ 8 ・ 9 ・ IO・ 11・ 23・ 24・ 25・ 30・ 31・ 32・ 4ト フィーダ、 断熱材、 水冷ジャケット、 加熱室、 石英部材、 光ファイバ、 石英支持部材、 パージガス導入口、 パージガス−吹き出し口、 ステンレス鋼パイプ、 銅線、 ニンケルロウ、 高周波コイル 第1図

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内部に光ファイバ母材を収納する収納部と、該収
    納部に連続し、周囲に加熱手段が配置され、前記光ファ
    イバ母材の先端が内部で加熱溶融される炉芯管と、前記
    炉芯管内部または、前記収納部内部と前記炉芯管内部の
    両方にパージガスを導入する手段と、を具備する光ファ
    イバ線引炉において、前記炉芯管および/または前記収
    納部の少なくとも一部が間に空間を有する複数の炉壁を
    具備し、前記複数の炉壁の最も外側の炉壁がパージガス
    導入口を、前記複数の炉壁の最も内側の炉壁が前記光フ
    ァイバ母材近傍にパージガス吹き出し口を具備し、パー
    ジガスは前記導入口から導入され、前記複数の炉壁の間
    の空間を流れ、前記吹き出し口から炉内に供給されるこ
    とを特徴とする光ファイバ線引炉。
  2. (2)前記複数の炉壁の周囲に、第2の加熱手段および
    /または断熱材が配置されていることを特徴とする請求
    項(1)に記載の光ファイバ線引炉。
  3. (3)前記複数の炉壁は、光ファイバ線引炉中心線上に
    中心線があるように同心に配置された半径の異なる複数
    の円筒部材によって構成され、該複数の円筒部材のうち
    、最も小径のものの内径は前記光ファイバ母材の直径よ
    り大きいことを特徴とする請求項(1)または(2)に
    記載の光ファイバ線引炉。
  4. (4)前記複数の円筒部材のうち、最も内側に配置され
    ているものが、融点1000℃以上および熱伝導率50
    W/mK以上の金属製であることを特徴とする請求項(
    3)に記載の光ファイバ線引炉。
  5. (5)前記複数の円筒部材のうち、最も内側に配置され
    ているものが、カーボン製であることを特徴とする請求
    項(3)に記載の光ファイバ線引炉。
  6. (6)前記カーボン製円筒部材の表面にSiCの被覆が
    施されていることを特徴とする請求項(5)に記載の光
    ファイバ線引炉。
  7. (7)前記複数の円筒部材のうち、最も内側に配置され
    ているものが、前記光ファイバ線引炉の円筒部材以外の
    部分と熱的に絶縁されていることを特徴とする請求項(
    3)〜(6)のいずれか1項に記載の光ファイバ線引炉
  8. (8)前記パージガス吹出口は、前記複数の円筒部材の
    うち、最も内側に配置されているものの下端近傍に配置
    されていることを特徴とする請求項(3)〜(7)いず
    れか1項に記載の光ファイバ線引炉。
  9. (9)光ファイバ線引炉内の光ファイバ母材周囲にパー
    ジガスを流しながら、該光ファイバ母材先端を加熱溶融
    して線引を行う方法において、請求項(1)〜(8)の
    いずれか1項に記載された光ファイバ線引炉を用い、前
    記複数の炉壁の間の空間でパージガスを800℃以上に
    予熱した後に光ファイバ線引炉内に導入する光ファイバ
    線引方法。
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