JPH0384828A - 帯電防止膜の製造方法及び陰極線管 - Google Patents

帯電防止膜の製造方法及び陰極線管

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JPH0384828A
JPH0384828A JP22066589A JP22066589A JPH0384828A JP H0384828 A JPH0384828 A JP H0384828A JP 22066589 A JP22066589 A JP 22066589A JP 22066589 A JP22066589 A JP 22066589A JP H0384828 A JPH0384828 A JP H0384828A
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JP
Japan
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film
covering layer
antistatic
antistatic film
particles
Prior art date
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Pending
Application number
JP22066589A
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English (en)
Inventor
Hisami Okuwada
久美 奥和田
Motomasa Imai
今井 基真
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0384828A publication Critical patent/JPH0384828A/ja
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、帯電防止膜の製造方法及びそれを用いた陰極
線管に関する。
(従来の技術) パーソナルコンピュータ、各種表示端末等に用いられる
陰極線管の前面パネルは、帯電し易いため、大気中のご
み等の付着による画像の見にくさ等を生じる問題があっ
た。かかる問題を対処するために特開昭61.−118
946号公報にはシラノール基を含む帯電防止膜を形成
する技術が開示されており、特開昭63−76247号
公報には5L(OR)4(Rはアルキル基)を吹き付は
塗布し、焼成して反射防止膜を形成した後、該反射防止
膜上に常圧CVD法により5n02 、I n20sの
帯電防止膜を形成する技術が開示されている。しかしな
がら、前者は湿度等の外部環境に影響され易く、帯電防
止効果が不十分である。後者は、CVD法を採用するた
め、大面積の帯電防止膜の形成には不向きであるばかり
か、膜形成コストが高くなる問題がある。
一方、帯電防止に関しては陰極線管に限らず、ガラス、
プラスチック部品の多いOA機器でも問題となる。特に
、コピーマシン等では静電気が発生し易い。
(発明が解決しようとする課題) このように帯電防止膜については、広範な要求があるも
のの、満足のいくものが得られないのが現状であった。
特に、製造が容易で、安定した帯電防止効果を有する帯
電防止膜が要望されていた。
本発明は、上記要望を満たすべくなされたもので、安定
した帯電防止効果を有する帯電防止膜を容易に得ること
が可能な製造方法を提供し、またかかる方法を用いて良
好な帯電防止効果が得られる陰極線管を提供しようとす
るものである。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、導電性被覆層を有する核粒子とバインダ成分
を含有する塗布液を塗布することを特徴とする帯電防止
膜の製造方法である。
上記導電性被覆層を有する核粒子は、無機物又は有機物
の粒径1μm以下の弗素樹脂(例えばポリテトラフルオ
ロエチレン)、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ス
チレン−ブタジェン共重合などのポリマー粒子、粒径1
μm以下のシリカ、二酸化チタン、アルミナ、ジルコニ
アなどの酸化物粒子等を核とし、その表面に金属又は半
導電性酸化物からなる2000λ以下(好ましくは20
0λ以下)の導電性被覆層を形成したものである。かか
る粒子は、例えば前記核粒子表面に導体を析出して導電
性被覆層を形成したもの、或いは前記核粒子と導電性粒
子とを機械的に混合して該核粒子表面に導電性微粒子を
付着して導電性被覆層を形成したものである。
上記無機バインダとしては、有機溶剤に可能な有機樹脂
、又はS i  (OR) 4  (Rはアルキル基)
を主成分としたアルコール溶液など、溶剤成分を除いた
後必要に応じて熱処理することにより所定強度の膜形成
が可能なものを使用できる。前記有機樹脂としては、例
えば可溶性ナイロン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を
挙げることができる。
後者のアルコール溶液としては、他の元素を添加したM
 (OR) *  (M ; Z r s A fl 
SM g s Ca等)を主成分とした溶剤成分溶液を
用いてもよい。
なお、無機バインダ成分の濃度(固形分量)は塗布条件
等により適宜設定すればよいが、固形分換算で0.5〜
IO重量%の範囲にすることが望ましい。
上記導電性被覆層を有する粒子の無機バインダ成分中の
配合量は、帯電防止膜として良好な表面抵抗10I0Ω
/口以下程度を実現できるように適宜設定すればよい。
上記塗布液は、スプレー法、スピンコード法、デイピン
グ法等の各種の方法で塗布され、溶剤成分を揮散させ、
必要に応じて熱処理して被膜を強固にする。
また、本発明に係わる帯電防止膜を形成した後、導電性
被覆層を有する粒子を含まないシリカゾルを吹き付は塗
布・焼成を行なうことにより、反射防止膜を別途設ける
こともできる。
(作用) 本発明によれば、導電性被覆層を有する粒子とバインダ
成分を含有する塗布液を塗布することによって、膜強度
が高く、かつ外部環境による劣化を生じにくい帯電防止
効果の高い帯電防止膜を形成できる。更に、塗布・焼成
により形成できるため、製造が極めて容易となる。特に
、前面パネルの外表面に上記方法で帯電防止膜を形成す
ることによって、光学特性を低下させずに帯電防止機能
が付与された陰極線管を得ることができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1 厚さ 200ÅのAuメツキ被覆層を有する粒径0.5
μmのポリスチレン粒子と、可溶性ナイロンを体積比率
で9:1の割合でアルコールに加え、固形分濃度が2重
量%の塗布液を調製した。つづいて、この塗布液をガラ
ス基板上にスピンコードした後、80℃で乾燥させた。
かかるガラス基板の表面抵抗は、zoloΩ/口以下で
あり、前記処理を施さないガラス基板の1012Ω/口
以上に比べて低抵抗を実現できた。
実施例2 sb含有5n02からなる厚さ 100人の導電性被覆
層を有する粒径0.2μmのシリカ粒子とS i (O
C2Hs ) aのアルコール溶液を、前記粒子とS 
i (OC2H5)’4の比が酸化物換算(重量%)で
9.5:  0.5とし、固形分濃度が3重量%の塗布
液を調製した。つづいて、この塗布液を陰極線管の前面
パネル表面にスピンコードし、250℃のトンネル炉を
通して加熱処理した。
陰極線管の前面パネルの表面抵抗を測定したところ、1
08〜109Ω/口であり、かつ映り込みも少なかった
また、上記実施例2の陰極線管において、スイッチオフ
後の誘導電圧がOVになるまでの時間を測定したところ
、60秒間以下であった。これに対し、帯電防止膜を被
覆しない陰極線管は5分間以上かかった。
[発明の効果] 以上詳述した如く、本発明によれば安定した帯電防止効
果を有する帯電防止膜を容易に得ることができ、特に陰
極線管の帯電防止膜として有効に利用できる等顕著な効
果を奏する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性被覆層を有する核粒子とバインダ成分を含
    有する塗布液を塗布することを特徴とする帯電防止膜の
    製造方法。
  2. (2)前面パネルの外表面に請求項1記載の製造方法に
    より帯電防止膜を形成したことを特徴とする陰極線管。
JP22066589A 1989-08-28 1989-08-28 帯電防止膜の製造方法及び陰極線管 Pending JPH0384828A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032235A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Tdk Corp 酸化物粒子及びその製造方法、複合材料並びに基板

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032235A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Tdk Corp 酸化物粒子及びその製造方法、複合材料並びに基板

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