JPH05232459A

JPH05232459A - 液晶表示セルおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH05232459A
Application number: JP3165392A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Hirai; 井俊晴平; Michio Komatsu; 松通郎小; Nobuaki Yoshida; 田宣昭吉
Original assignee: Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Current assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date: 1992-02-19
Filing date: 1992-02-19
Publication date: 1993-09-10

Abstract

(57)【要約】【構成】基板上に透明電極、透明電極保護膜および配
向膜が順次積層されている透明電極付基板を備え、透明
電極保護膜の表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□である液
晶表示セル、および基板上に形成された透明電極の表面
に、導電性微粒子およびマトリックスが含有されている
被膜形成用塗布液を塗布し、得られた塗膜を硬化させ、
表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□である透明電極保護膜
を形成する工程を含む液晶表示セルの製造方法。【効果】配向膜にラビング処理を行なう際に配向膜に
発生する静電気がすみやかに除去され、配向膜の帯電を
防止し得るような透明電極付基板を備えた液晶表示セル
が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、基板上に透明電極、透明
電極保護膜および配向膜が順次積層されてなる透明電極
付基板を備えた液晶表示セルおよびその製造方法に関
し、さらに詳しくは、配向膜にラビング処理を行なう際
に配向膜に発生する静電気がすみやかに除去され、配向
膜の帯電を防止し得るような透明電極付基板を備えた液
晶表示セルおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来より、ガラス基板の表面にＩ
ＴＯなどの透明電極、ポリイミドなどの重合体からなる
配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板を、
それぞれの透明電極膜同士が対向するようにスペーサを
介して配置させ、このスペーサによって所定の間隔に開
けられた隙間に液晶を封入した液晶表示セルが知られて
いる。

【０００３】この種の液晶表示セルでは、液晶内に混入
した異物やスペーサによって配向膜が傷つけられること
があり、その結果上下の電極間が導通し、表示不良が発
生する場合があった。また、配向膜にラビング処理を行
う際に静電気が発生し、この静電気が透明電極を通して
瞬時に大量に放電され、この放電過程で配向膜が発熱し
て破壊される場合があった。

【０００４】このため、従来、上記のような液晶表示セ
ルの透明電極付基板には、その透明電極と配向膜との間
に絶縁性の保護膜を形成することが提案されている（特
開昭６０−２６００２１号公報、特開平１−１５０１１
６号公報、特開平２−２２１９２３号公報など参照）。
しかしながら、透明電極と配向膜との間にこのような絶
縁膜を形成すると、ラビング時に配向膜に帯電した静電
気が除去できず、配向膜に静電気が残留したままの状態
になる。このため基板上に透明電極、絶縁膜および配向
膜が順次積層されている透明電極付基板を備えた液晶表
示セルでは、表示不良が生じるという問題点があった。

【０００５】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術におけ
る問題点を解決しようとするものであって、配向膜にラ
ビング処理を行なう際に配向膜に発生する静電気がすみ
やかに除去され、配向膜の帯電を防止し得るような透明
電極付基板を備えた液晶表示セルおよびその製造方法を
提供することを目的としている。

【０００６】

【発明の概要】本発明に係る液晶表示セルは、基板上に
透明電極、透明電極保護膜および配向膜が順次積層され
ている透明電極付基板を備えた液晶表示セルであって、
前記透明電極保護膜の表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□
であることを特徴としている。上記のような液晶表示セ
ルは、基板上に形成された透明電極の表面に、導電性微
粒子およびマトリックスが含有されている被膜形成用塗
布液を塗布し、得られた塗膜を硬化させ、表面抵抗が１
０⁹〜１０¹³Ω／□である透明電極保護膜を形成する工
程を含んで製造される。

【０００７】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る液晶表示セル
およびその製造方法について具体的に説明する。まず本
発明に係る液晶表示セルにつき、図面を参照して具体的
に説明する。図１は、本発明に係る液晶表示セルの一例
を模式的に表す断面図である。

【０００８】この液晶表示セル１は、ガラス、プラスチ
ックなどの透明基板２１上に、ＩＴＯ薄膜などの透明電
極２２と、透明電極保護膜２３と、ポリイミドなどの重
合体からなる配向膜２４とが順次積層されてなる一対の
透明電極付基板２、２を備えている。一対の透明電極付
基板２、２は、透明電極２２、２２同士が互いに対向す
るように複数のスペーサー粒子３、３・・・により所定
間隔の間隙ｄを設けて配置されている。また、この間隙
ｄには、液晶４が封入されている。

【０００９】本発明に係る透明電極付基板２では、透明
電極付基板２の透明電極２２と配向膜２４との間に表面
抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□である透明電極保護膜２３
が形成されている。このような表面抵抗を有する透明電
極保護膜２３は、液晶４内に混入した異物やスペーサに
よって配向膜が傷つけられても上下の電極間が導通しな
い程度の絶縁性を有していると同時に、配向膜２４にラ
ビング処理を行なう際に発生する静電気が配向膜２４に
帯電することなくすみやかに除去され、配向膜２４に帯
電した静電気に起因する表示画像のむらが防止できる程
度の導電性を有している。

【００１０】この透明電極保護膜２３の表面抵抗が１０
¹³Ω／□を超えると、配向膜２４に帯電した静電気の除
去が困難になる。一方、透明電極保護膜２３の表面抵抗
が１０⁹Ω／□未満であると絶縁性が不充分になり、こ
の保護膜２３を通して、隣接する電極間、たとえば隣接
するセグメント電極間、ドットマトリックス表示セルの
場合には隣接するライン電極間が導通したり、あるいは
配向膜が損傷した際に上下電極間がショートするなどの
現象が生じ、正常な表示ができなくなることがある。

【００１１】なお、本発明に係る液晶表示セルでは、ガ
ラス基板２１と透明電極膜２２との間にさらにＳｉＯ₂
膜などのアルカリパッシベーション膜を形成した透明電
極付基板を用いてもよいなど、特許請求の範囲を逸脱し
ない範囲で様々な変形が可能である。上記のような本発
明に係る液晶表示セルは、基板上に形成された透明電極
の表面に、表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□である透明
電極保護膜を形成する工程を含んで製造される。

【００１２】このような特定範囲の表面抵抗を有する透
明電極保護膜は、無機酸化物の被膜を蒸着法、スパッタ
リング法などにより形成するドライ成膜法によって形成
してもよいが、導電性微粒子およびマトリックスが含有
されてなる被膜形成用塗布液を透明電極上に塗布し、得
られた塗膜を乾燥・焼成するなどにより硬化させる方法
によって製造することができる。

【００１３】上記のような透明電極保護膜を形成する際
に用いられる被膜形成用塗布液は、導電性微粒子および
マトリックスが含有されてなる塗布液であれば特に限定
されないが、水および／または有機溶媒を溶媒とするマ
トリックス溶液中に導電性微粒子が分散されている被膜
形成用塗布液が好ましい。被膜形成用塗布液を調製する
際に用いられるマトリックスは、被膜形成性を有してい
れば特に限定されないが、以下に示す化合物またはその
縮合体を成分として、これらの成分の１種または２種以
上からなることが好ましい。

【００１４】上記のようなマトリックス成分として、下
記化学式（１）Ｒ_a−Ｓｉ（ＯＲ’）_4-a …（１）（式中、Ｒは−Ｃ_nＨ_2n+1であり、Ｒ’は−Ｃ_nＨ_2n+1
または−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ_nＨ_2n+1であり、ａは０ないし３
の数であり、ｎは１ないし４の整数である。）で示され
るアルコキシシランを用いることが好ましい。

【００１５】上記アルコキシシランとしては、具体的に
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、モ
ノメチルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシ
シラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメチルト
リエトキシシランなどが挙げられる。また上記アルコキ
シシランは、そのままの状態で用いてもよく、また部分
加水分解して用いてもよい。このようなアルコキシシラ
ンの部分加水分解は、従来から行われている通常の方
法、たとえばメタノールまたはエタノールなどのアルコ
ールにアルコキシシランを混合し、水と酸とを加えて部
分加水分解する方法に従って行うことができる。

【００１６】また下記化学式（２）で表される金属アル
コキシドまたはその縮合体も、上記マトリックス成分と
して好ましい。Ｍ（ＯＲ）_n …（２）（式中、Ｍは金属原子であり、Ｒはアルキル基または−
Ｃ_mＨ_2mＯＣ_nＨ_2n+1（ｍは３〜１０、ｎは１〜４であ
り、ｎはＭの原子価と同じ整数である。）上記式（２）
においてＭは、金属であれば特に限定されることはない
が、好ましいＭは、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｆｅ、Ｎｉ，Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｙ、
Ｚｒ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｈｆ、Ｔａ、
Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ、ＣｅまたはＣｕである。

【００１７】このような金属アルコキシドとしては、具
体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソプロポ
キシ−ジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛など
が好ましく用いられる。さらに下記化学式（３）で表さ
れるアセチルアセトナトキレート化合物またはその縮合
体も、上記マトリックス成分として好ましい。

【００１８】

【化１】

【００１９】〔ただし、式中、ａ＋ｂは２〜４であり、
ａは０〜３であり、ｂは１〜４であり、Ｒは−Ｃ_nＨ
_2n+1（ｎ＝３または４）であり、Ｘは−ＣＨ₃、−ＯＣ
Ｈ₃、−Ｃ₂Ｈ₅または−ＯＣ₂Ｈ₅である。Ｍ₁は周
期率表第ＩＢ族、第IIＡ、Ｂ族、第III Ａ、Ｂ族、第IV
Ａ、Ｂ族、第ＶＡ、Ｂ族、第VIＡ族、第VII Ａ族、第VI
II族から選ばれる元素またはバナジル（ＶＯ）である。
この内、これらの元素などとａ、ｂの好ましい組み合わ
せは、次表の通りである。〕

【００２０】

【表１】

【００２１】上記アセチルアセトナトキレート化合物の
具体例としては、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナト
ジルコニウム、トリブトキシ−モノアセチルアセトナト
ジルコニウム、ビスアセチルアセトナト鉛、トリスアセ
チルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナ
トハフニウム、モノアセチルアセトナト−トリブトキシ
ハフニウムなどが挙げられる。

【００２２】本発明においては、マトリックスとして上
述したアルコキシシラン、金属アルコキシドおよびアセ
チルアセトナトキレート化合物のそれぞれを単独でまた
は２種以上を混合して用いることもできる。上記マトリ
ックス成分として、さらに下記化学式（４）で表される
繰り返し単位を有するポリシラザンも好ましい。

【００２３】

【化２】

【００２４】上記式（４）において、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ
₃は、それぞれ水素原子または炭素原子数１〜８のアル
キル基であり、アルキル基の中ではメチル基、エチル基
またはプロピル基が好ましい。特にＲ₁、Ｒ₂およびＲ₃
がいずれも水素原子である場合が好ましく、この場合に
は、加熱時に分解するアルキル基がなく、加熱時に膜の
収縮が少なく、このため収縮ストレス時にクラックが生
じることが少なくなり、クラックのほとんどない透明電
極保護膜が得られる。

【００２５】また、上記式（４）で表わされる繰り返し
単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状
であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシ
ラザンとが混合して含まれていてもよい。さらに、この
ようなポリシラザンの数平均分子量は、５００〜１０，
０００、好ましくは１，０００〜４，０００の範囲にあ
ることが望ましい。数平均分子量が５００未満では、加
熱硬化時に低分子量のポリシラザンが揮発し、得られた
電極保護膜が多孔質になりやすく、また、分子量が１
０，０００を越えると、塗布液の流動性が低下する傾向
がある。

【００２６】さらに、上記マトリックス成分として、一
般式Ｒ_nＳｉ（ＯＲ’）_4-n（式中、ｎは０〜３の整
数、Ｒ、Ｒ’は、互いに同一でも異なっていてもよく、
それぞれ炭素数１〜８のアルキル基、アリール基または
ビニル基を表わす）で示されるアルコキシシランを加水
分解重縮合して得られるシリカゾルと、このアルコキシ
シランの部分加水分解物との反応物も好ましい。

【００２７】本発明において透明電極保護膜を形成する
際に用いられる被膜形成用塗布液中には、上記マトリッ
クスに加えて、さらに導電性微粒子が含まれている。こ
のような導電性微粒子として、導電性を示す微粒子であ
れば特に限定されないが、具体的には、酸化亜鉛、酸化
錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、Ｓｂ、Ｆ、Ｐな
どがドープされた酸化錫、Ｓｎ、Ｆなどがドープされた
酸化インジウムなどの導電性無機酸化物微粒子の１種ま
たは２種以上を用いることができる。なおこの導電性無
機酸化物微粒子は、ＴｉＯ₂−ＳｎＯ₂などのような複
合酸化物粒子であってもよい。

【００２８】これらの導電性微粒子は、被膜形成用塗布
液を調製する際に、粉末状またはコロイド粒子が分散し
たゾルの形態でマトリックスと混合されることが好まし
い。またこのような形態で被膜形成用塗布液中に含まれ
ている導電性微粒子の平均粒径は、約５００オングスト
ローム以下であることが好ましい。上記のようなマトリ
ックスおよび導電性微粒子を含む被膜形成用塗布液を調
製する際には、これらの溶媒または分散媒として水およ
び／または有機溶媒を用いることが好ましい。

【００２９】このような被膜形成用塗布液を調製する際
の有機溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケト
ン類などから選ばれた通常の有機溶媒が用いられる。こ
れらの有機溶媒は単独でもしくは２種以上を混合して用
いてもよい。本発明で用いられる被膜形成用塗布液中に
は、マトリックスおよび導電性微粒子のような上記成分
に加えて、必要に応じて他の成分が添加される。

【００３０】たとえば平均粒径が５００オングストロー
ム以下、好ましくは１００〜４００オングストロームの
範囲内にある非導電性の無機化合物微粒子が添加された
被膜形成用塗布液を用いると、配向膜との密着性に優れ
た透明電極保護膜を形成することができる。また、これ
らの無機化合物微粒子の種類を選択することにより透明
電極保護膜の屈折率が調節され、透明電極を形成してい
るＩＴＯ膜などが外部から見えなくすることもできる。

【００３１】このような配向膜との密着性に優れた透明
電極保護膜を形成する際に用いられる無機化合物微粒子
としては、具体的には、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などの酸化物、またはこれらの２種以
上の混合物もしくは複合酸化物が好ましく用いられる。
またこの無機化合物微粒子は、球状または球状に近い形
状であることが好ましい。

【００３２】またこのような無機化合物微粒子は、水ま
たは有機溶媒に分散したゾルの状態で用いることが好ま
しいが、無機化合物微粒子を被膜形成用塗布液中に単分
散または単分散に近い状態で分散できればゾル以外の状
態にある無機化合物微粒子を用いてもよい。本発明で用
いられる被膜形成用塗布液では、導電性微粒子は、この
被膜形成用塗布液から形成された透明電極保護膜の表面
抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□となるような量で被膜形成
用塗布液中に含まれる。

【００３３】具体的には、この導電性微粒子は、被膜形
成用塗布液中に含まれるマトリックスの種類、必要に応
じて被膜形成用塗布液中に添加される上記のような無機
化合物微粒子などの種類および量によって異なり、特に
限定されないが、乾固成分の全量に対し酸化物換算で１
〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％の範囲で含ま
れていることが望ましい。

【００３４】塗布液中に非導電性の無機化合物粒子を含
む場合は、導電性微粒子と無機化合物粒子の合計量が５
〜７０重量％の範囲にあることが好ましい。また被膜形
成用塗布液中の固形分濃度は、３〜１５重量％の範囲に
あることが好ましい。さらに被膜形成用塗布液中のマト
リックスとして上記アルコキシシラン、金属アルコキシ
ド、アセチルアセトナトキレート化合物のような加水分
解性化合物を用いた場合、この被膜形成用塗布液の水分
濃度は、０.１〜４０重量％の範囲であることが好まし
い。

【００３５】上記のような被膜形成用塗布液をディッピ
ング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、
フレキソ印刷などの方法で基板上に形成された透明電極
の表面に塗布し、次いでこのようにして透明電極表面に
形成された被膜を常温〜９０℃で乾燥し、さらに２００
℃以上、好ましくは３００℃以上に加熱して硬化するな
どの方法により、上記特定の表面抵抗を有する透明電極
保護膜が形成される。

【００３６】さらにこの透明電極表面に形成されている
透明電極保護膜には、好ましくは次のような方法で硬化
促進処理が行なわれる。すなわち、上記塗布工程または
乾燥工程の後に、あるいは乾燥工程中に、未硬化段階の
被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照射するかあ
るいは未硬化段階の被膜を硬化反応を促進するガス雰囲
気中に晒す。

【００３７】このような加熱前の未硬化段階の被膜に照
射する電磁波としては、具体的には紫外線、電子線、Ｘ
線、γ線などが例示されるが、紫外線が好ましい。たと
えば、発光強度が約２５０ｎｍと３６０ｎｍとにおいて
極大となり、光強度が１０ｍＷ／ｃｍ²以上である高圧
水銀ランプを紫外線源として使用し、１００ｍＪ／ｃｍ
²以上、好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ²以上のエネル
ギー量の紫外線を未硬化段階の被膜に照射すると、未硬
化段階の被膜の硬化反応が促進される。

【００３８】また、加熱前の未硬化段階の被膜の硬化反
応を促進するガスとしては、たとえばアンモニア、オゾ
ンなどが例示される。またこのようなガス雰囲気による
被膜の硬化促進は、未硬化段階の被膜を、ガス濃度が１
００〜１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００〜１
０，０００ｐｐｍであるような上記活性ガス雰囲気下
で、１〜６０分処理することによって達成される。

【００３９】上述したような硬化促進処理を行うと、被
膜中にマトリックス成分として用いられているアルコキ
シシラン、金属アルコキシド、アセチルアセトナトキレ
ート化合物などの重合が促進されると同時に、被膜中に
残存する水および溶媒の蒸発も促進される。このため、
次の加熱工程において必要とされる加熱温度、加熱時間
などの加熱硬化条件が緩和され、本発明に係る被膜付基
材の製造を有利に進めることができる。

【００４０】また、このガス処理は、加熱硬化後に行っ
ても同様の効果が得られる。

【００４１】

【発明の効果】本発明に係る液晶表示セルの製造方法に
よれば、基板上に透明電極、特定範囲の表面抵抗を有す
る透明電極保護膜および配向膜が順次積層された透明電
極付基板を備えた液晶表示セルが得られる。また本発明
に係る液晶表示セルは、上記のように特定範囲の表面抵
抗を有する透明電極保護膜が透明電極付基板と配向膜と
の間に設けられているので、配向膜にラビング処理を行
なう際に発生する静電気が、この透明電極保護膜を通し
てすみやかに除去される。すなわち配向膜の帯電を防止
することができる。

【００４２】このため本発明によれば、配向膜の帯電に
起因する配向膜の破壊および液晶表示セル中での液晶の
配向不良が防止される。さらに、本発明では、上記のよ
うな特定範囲の表面抵抗を有する透明電極保護膜の表面
に配向膜が形成される。このような特定範囲の表面抵抗
を有する透明電極保護膜の表面に配向膜を形成すると、
配向膜形成用塗布液の塗布性が改良され、従来よりも均
一な配向膜が得られる。したがって本発明によれば、表
示画像の色むらが改善された液晶表示セルが提供され
る。

【００４３】また、本発明に係る液晶表示セルは、透明
電極保護膜の抵抗が従来の絶縁膜に比べて小さいため、
表示回路のインピーダンスが下がり、その結果、液晶セ
ルの駆動電圧を下げることができるという付随的な効果
もある。以下本発明を実施例により説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。

【００４４】

【実施例１】シリカゾルＡ（ヘキシレングリコール中に
平均粒径２５０オングストロームのシリカ微粒子をＳｉ
Ｏ₂濃度で１０重量％含むシリカゾル）１００ｇおよび
エチルシリケート２８（多摩化学工業社製エチルシリケ
ート、ＳｉＯ₂濃度：２８重量％）７１ｇからなるマト
リックス原料と、６１％硝酸０．１ｇ、純水２３ｇおよ
びヘキシレングリコール３７２ｇとの混合物に、ヘキシ
レングリコール中に平均粒径２００オングストロームの
酸化アンチモン微粒子を固形分濃度で１０重量％含む導
電性微粒子分散ゾル１００ｇを加えて１２時間攪拌し、
固形分濃度６．０重量％の透明電極保護膜形成用塗布液
を得た。

【００４５】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を、
ガラス基板上にＩＴＯからなる透明電極がパターン状に
形成された透明電極付基板（旭硝子社製３０Ωタイプ）
の電極面上に、フレキソ印刷法で塗布し、得られた塗膜
を１００℃で乾燥した後、高圧水銀ランプで６，０００
ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、次いで３５０℃で３０
分間焼成することにより透明電極保護膜を形成した。

【００４６】得られた透明電極保護膜の膜厚、表面抵抗
および屈折率を測定した。結果を表２に示す。次いで、
この透明電極保護膜上にポリイミド樹脂で膜厚約７００
オングストロームの配向膜を形成した後、得られた配向
膜に２５℃、相対湿度約３０％の条件下でラビング処理
を行なった。

【００４７】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を得た。
得られた一対の透明電極付基板を、透明電極同士が互い
に対向するように複数のスペーサー粒子を介して離間さ
せ、透明電極間の間隙にＳＴＮ液晶を封入した後、透明
電極周縁部の間隙をシーリング剤で封着することにより
密閉して液晶表示セルを製造した。

【００４８】得られた液晶表示セルを用いて組み立てた
液晶表示装置を作動させた時に表示画面上に顕れる線状
の軌跡（線痕）の有無および液晶表示装置の作動中に液
晶表示セルの配向膜に観察される傷の有無を調べた。結
果を表２に併記する。なお上記線痕については、次のよ
うな評価を行なった。

【００４９】○ …線痕がない。 △ …うすい線痕が観察される。 × …濃い線痕が観察される。上記の線痕は、配向膜が帯電していると、配向膜と接す
る部位の液晶が配向して表示状態になることによって生
じる。

【００５０】また、液晶表示装置の作動中に液晶表示セ
ルの配向膜に観察される傷の有無は、透明電極保護膜と
配向膜との密着性を知る上での目安となる。すなわち、
透明電極保護膜と配向膜との密着性が悪いと、配向膜に
ラビング処理を行なう際に配向膜に傷が付くことがあ
る。配向膜に傷があると、液晶表示装置の作動中にこの
傷が表示画面に観察される。

【００５１】さらに電極が形成されていないガラス基板
上に直接上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形
成した。得られた配向膜に上記と同様の条件でラビング
処理を行なった直後に、この配向膜表面の帯電減衰時間
をオネストメータ（春日電気（株）社製）で測定し、帯
電圧の半減期で評価した。結果を表２に併記する。

【００５２】

【実施例２】上記エチルシリケート２８１８ｇ、ジイ
ソプロポキシ−ジオクチルオキシチタニウムのイソプロ
ピルアルコール（ＩＰＡ）溶液（ＴｉＯ₂濃度；１０重
量％）２５ｇ、トリブトキシ−モノアセチルアセトナト
ジルコニウムのブタノール溶液（ＺｒＯ₂濃度；１０重
量％）２５ｇからなるマトリクッス原料と、６１％硝酸
０．３ｇ、純水３ｇおよびヘキシレングリコール７９ｇ
との混合物に、実施例１と同様の導電性微粒子分散ゾル
１００ｇを加えて１２時間攪拌し、固形分濃度８．０重
量％の透明電極保護膜形成用塗布液を得た。

【００５３】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を用
いて、実施例１と同様にしてガラス基板上に形成された
透明電極の表面に透明電極保護膜を形成し、得られた透
明電極保護膜の膜厚、表面抵抗および屈折率を測定し
た。結果を表２に示す。次いで、この透明電極保護膜上
に実施例１と同様にして配向膜を形成した後、得られた
配向膜に実施例１と同様の条件下でラビング処理を行な
った。

【００５４】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を用い
て、実施例１と同様にして液晶表示セルを製造・評価し
た。結果を表２に併記する。さらにガラス基板上に直接
上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形成し、得
られた配向膜の帯電減衰特性を実施例１と同様にして評
価した。

【００５５】結果を表２に併記する。

【００５６】

【実施例３】シリカゾルＢ（ヘキシレングリコール中に
平均粒径４５０オングストロームのシリカ微粒子をＳｉ
Ｏ₂濃度で１０重量％含むシリカゾル）１００ｇおよび
トリブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウムの
ブタノール溶液（ＺｒＯ₂濃度；１０重量％）１、９８
０ｇからなるマトリックス原料と、ヘキシレングリコー
ル２，３００ｇとの混合物に、ヘキシレングリコール中
に平均粒径５００オングストロームの酸化スズ微粒子を
固形分濃度で２０重量％含む導電性微粒子分散ゾル１０
０ｇを加えて１２時間攪拌し、固形分濃度５．０重量％
の透明電極保護膜形成用塗布液を得た。

【００５７】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を用
いて、実施例１と同様にしてガラス基板上に形成された
透明電極の表面に透明電極保護膜を形成し、得られた透
明電極保護膜の膜厚、表面抵抗および屈折率を測定し
た。結果を表２に示す。次いで、この透明電極保護膜上
に実施例１と同様にして配向膜を形成した後、得られた
配向膜に実施例１と同様の条件下でラビング処理を行な
った。

【００５８】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を用い
て、実施例１と同様にして液晶表示セルを製造・評価し
た。結果を表２に併記する。さらにガラス基板上に直接
上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形成し、得
られた配向膜の帯電減衰特性を実施例１と同様にして評
価した。

【００５９】結果を表２に併記する。

【００６０】

【実施例４】平均粒径２００Åのチタニア粒子をヘキシ
レングリコール中に分散して含むチタニアゾル２００
ｇ、エチルシリケート４０（多摩化学工業社製エチルシ
リケート、ＳｉＯ₂濃度：４０重量％）１５０ｇおよび
ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウムのブ
タノール溶液（ＺｒＯ₂濃度；１０重量％）３３３ｇか
らなるマトリックス原料と、６１％硝酸３ｇ、純水３６
ｇおよびヘキシレングリコール１，４００ｇとの混合物
に、ヘキシレングリコール中に平均粒径１００オングス
トロームのアンチモンがドープされた酸化スズ微粒子を
固形分濃度で２０重量％分散して含む導電性微粒子分散
ゾル１００ｇを加えて１２時間攪拌し、固形分濃度６．
０重量％の透明電極保護膜形成用塗布液を得た。

【００６１】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を用
いて、実施例１と同様にしてガラス基板上に形成された
透明電極の表面に透明電極保護膜を形成し、得られた透
明電極保護膜の膜厚、表面抵抗および屈折率を測定し
た。結果を表２に示す。次いで、この透明電極保護膜上
に実施例１と同様にして配向膜を形成した後、得られた
配向膜に実施例１と同様の条件下でラビング処理を行な
った。

【００６２】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を用い
て、実施例１と同様にして液晶表示セルを製造・評価し
た。結果を表２に併記する。さらにガラス基板上に直接
上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形成し、得
られた配向膜の帯電減衰特性を実施例１と同様にして評
価した。

【００６３】結果を表２に併記する。

【００６４】

【比較例１】シリカゾルＡ（ヘキシレングリコール中に
平均粒径２５０オングストロームのシリカ微粒子をＳｉ
Ｏ₂濃度で１０重量％含むシリカゾル）１７．５ｇ、エ
チルシリケート４０（多摩化学工業社製エチルシリケー
ト、ＳｉＯ₂濃度：４０重量％）４．４ｇ、ジイソプロ
ポキシ−ジオクチルオキシチタニウムのイソプロピルア
ルコール（ＩＰＡ）溶液（ＴｉＯ₂濃度；１０重量％）
１２．５ｇおよびトリブトキシ−モノアセチルアセトナ
トジルコニウムのブタノール溶液（ＺｒＯ₂濃度；１０
重量％）２．５ｇからなるマトリクッス原料と、６１％
硝酸０．１ｇ、純水２．１ｇおよびヘキシレングリコー
ル６１ｇの混合物を１２時間攪拌し、固形分濃度５．０
重量％の透明電極保護膜形成用塗布液を得た。

【００６５】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を用
いて、実施例１と同様にしてガラス基板上に形成された
透明電極の表面に透明電極保護膜を形成し、得られた透
明電極保護膜の膜厚、表面抵抗および屈折率を測定し
た。結果を表２に示す。次いで、この透明電極保護膜上
に実施例１と同様にして配向膜を形成した後、得られた
配向膜に実施例１と同様の条件下でラビング処理を行な
った。

【００６６】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を用い
て、実施例１と同様にして液晶表示セルを製造・評価し
た。結果を表２に併記する。さらにガラス基板上に直接
上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形成し、得
られた配向膜の帯電減衰特性を実施例１と同様にして評
価した。

【００６７】結果を表２に併記する。

【００６８】

【比較例２】エチルシリケート４０（多摩化学工業社製
エチルシリケート、ＳｉＯ₂濃度：４０重量％）６．０
ｇ、ジイソプロポキシ−ジオクチルオキシチタニウムの
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液（ＴｉＯ₂濃
度；１０重量％）１０．０ｇおよびトリブトキシ−モノ
アセチルアセトナトジルコニウムのブタノール溶液（Ｚ
ｒＯ₂濃度；１０重量％）４．３ｇからなるマトリクッ
ス原料と、６１％硝酸０．０２ｇ、純水２．９ｇおよび
ヘキシレングリコール５５ｇとの混合物を１２時間攪拌
し、固形分濃度６．０重量％の透明電極保護膜形成用塗
布液を得た。

【００６９】得られた透明電極保護膜形成用塗布液を用
いて、実施例１と同様にしてガラス基板上に形成された
透明電極の表面に透明電極保護膜を形成し、得られた透
明電極保護膜の膜厚、表面抵抗および屈折率を測定し
た。結果を表２に示す。次いで、この透明電極保護膜上
に実施例１と同様にして配向膜を形成した後、得られた
配向膜に実施例１と同様の条件下でラビング処理を行な
った。

【００７０】このようにしてガラス基板上に透明電極、
透明電極保護膜および配向膜が順次積層され、かつ配向
膜がラビング処理された一対の透明電極付基板を用い
て、実施例１と同様にして液晶表示セルを製造・評価し
た。結果を表２に併記する。さらにガラス基板上に直接
上記と同様の透明電極保護膜および配向膜を形成し、得
られた配向膜の帯電減衰特性を実施例１と同様にして評
価した。

【００７１】結果を表２に併記する。

【００７２】

【表２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶表示セルを模式的に表す断面
図である。

【符号の説明】

１液晶表示セル２透明電極付基板３スペーサー粒子４液晶２１透明基板２２透明電極膜２３透明電極保護膜２４配向膜ｄ間隙

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に透明電極、透明電極保護膜およ
び配向膜が順次積層されている透明電極付基板を備えた
液晶表示セルにおいて、前記透明電極保護膜の表面抵抗が１０⁹〜１０¹³Ω／□
であることを特徴とする液晶表示セル。
【請求項２】基板上に透明電極、透明電極保護膜およ
び配向膜が順次積層されている透明電極付基板を備えた
液晶表示セルを製造するに際して、基板上に形成された透明電極の表面に、導電性微粒子お
よびマトリックスが含有されている被膜形成用塗布液を
塗布し、得られた塗膜を硬化させ、表面抵抗が１０⁹〜
１０¹³Ω／□である透明電極保護膜を形成する工程を含
むことを特徴とする液晶表示セルの製造方法。