JPH0381606A - X線透過画像によるはんだ付部の検査方法及びその装置 - Google Patents

X線透過画像によるはんだ付部の検査方法及びその装置

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JPH0381606A
JPH0381606A JP21733789A JP21733789A JPH0381606A JP H0381606 A JPH0381606 A JP H0381606A JP 21733789 A JP21733789 A JP 21733789A JP 21733789 A JP21733789 A JP 21733789A JP H0381606 A JPH0381606 A JP H0381606A
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JP
Japan
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ray
soldered
board
substrate
rays incident
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JP21733789A
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English (en)
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Toshimitsu Hamada
浜田 利満
Mitsuzo Nakahata
仲畑 光蔵
Satoshi Fushimi
智 伏見
Koichi Tsukazaki
柄崎 晃一
Yoshifumi Morioka
森岡 喜史
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はX&11透過画像によるはんだ付部の検査方法
及びその装置に関する。
〔従来の技術〕
近年、プリント板は小型化、高密度化し、面実装デバイ
スが普及してきた。それにともないはんだ付部は微細化
し、特開昭62−219632号、日経エレクトロニク
ス1985年11月18日号PP。
505〜316に記載されるようなX線透過画像を用い
たはんだ付検査が行なわれるようになった。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、プリント板の高密度化に伴ない普及し
てきた両面実装基板に対する配慮がなく、片面実装基板
のみ対象としていた。
また、前記したように面実装デバイスの普及に伴ないは
んだ付部はll[細化しているため、検査すべきはんだ
付部への位置決めは、より高精度なもOが必要となって
きている。しかし、上記従来技術ははんだ付部への位置
決めは、ティーチングにより求めた位置より、機械的精
度を頼りに行っているため、ティーチングの精度、検査
対象のプリント板のパターン精度、機械的精度に位置決
め精度が左右される。そのため、微細はんだ付部を精度
よく、検出することが困難であり、より高い位置決め精
度t−必要とする両面実装基板ではなおさらであ−)た
また、本発明の目的は、両面実装基板に対しても片面実
装基板と同様の欠陥判定を行うことができるLうにした
X線透過画像によるはんだ付部の検査方法及びその装[
を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的のため、本発明の発明者は、特願昭65−21
0711号において、検出X線透過画像のシェージング
補正を行い、濃度レベルを対数変換した後、変換画像に
対し、リード並び方向およびリード長手方向に画像加算
、いわゆる投影分布ヲ作成し、投影分布波形から各はん
だ付部を検出し、検出したはんだ付部ごとに欠陥判定を
する検査方法及び装置を開示した。
この発明では1両面実装基板を検査するため、基板傾斜
なしの状態での検出X線透過画像と基板傾斜の状態での
検出X線透過画像02つの検出画像を、それぞれ別々に
検出し、欠陥判定を行うが、本発明では、2つの検出画
像を同時に検出し、検査を効率良く行う方法及び装置を
提供するものである。
本発明では゛、第2図に示すように基板に垂直に入射す
るX線と基板に斜めに入射するXMとを同時に検出し、
基板の厚さを利用することにより。
垂直に入射するX線の透過像より1表裏のはんだ付部が
重複した検出画像を、斜めに入射するX線の透過像よp
、表裏のはんだ付部が分離した検出画像を得る。そして
、2つの画像からはんだ付部を抽出し、個々のはんだ付
部ごとに欠陥判定をする。
〔作用〕
上記構成をとることにより、基板傾斜機構を設けること
なく、基板傾斜時の透過X線画像に相当する画像を検出
することができ、機構の簡素化、検査時間の削減が可能
となる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図によシ説明する。第1
図において、部品1が実装はんだ付けされた基板2はX
Y#ステージ3に載せられており、微小焦点X線源4か
ら出力されるX線は部品1と基板2を透過し、X線画像
検出器であるイメージインテンシファイアSおよび’r
vカメラ6により透過X線画像が検出される。X線制御
部71は計算器aの指令により、X線源4の管電圧、管
電流、焦点合せ、X線発生などの制御を行う。ステージ
制御部9は計算機8の指令によ夕、xY#ステージ3t
−動作させる。画像処理部10は!■カメラ6からの映
像信号金入力し、計算機80指令により画像処理を行い
、その結果にもとづき、計算機8は各はんだ付部の欠陥
判定を行う。
第2図は両面実装基板のはんだ付部の検出方法を説明す
る図である。第2図(a)で示すようにX線源4から出
力され、基板2t−透過したX線を検出器7で検出する
と、同図(b)に示すように、X線が基板に垂直に入射
する部分では表裏のはんだ付部が重複し次画像が、X線
が基板に斜めに入射する部分では表裏のはんだ付部が分
離した画像が同時に検出することができる。第5図は特
願昭65−210711号に示した両面実装基板の検出
方法であ、るが、同図(a)に示すように基板傾斜して
表裏のはんだ付部を分離した画像を検出し、はんだ付部
ごとにはんだ量などの判定を行い、同図(b)に示すよ
うに基板傾斜無しの状態で表裏のはんだ付部が重複し′
f!−画像を検出し、はんだ打部間でブリッジやずれの
判定を行う。第4図は第2図の原理にもとすく本発明の
一実施例であり、X線源4を検出器7に対し、ずらした
位置に設置することにより、基板!?:傾斜することな
く、表裏のはんだ付部が重複した画像と、表裏のはんだ
付部が分離した画像が同時に検出することができる。
以上のように検出した画像からはんだ付部を抽かし、欠
陥判定処理を行うための画像処理部1aO具体的構成例
″fc第5図に示す。第5図において、!′vカメラ6
からの映像信号はA/D変換回路11によりディジタル
値に変換されたのち、シェージング補正回路12、対数
変換回路1st−介し、メモリ14へ入力される。シェ
ージング補正は画面中央部と周辺部において、明るさが
同じでも映像レベルが変化するのを補正するものであり
、検査物体がないときの検出画像(白画像と呼ぶ)W(
1、j)、X線を発生しないときの検出画像(黒画像と
呼ぶ)B(1,j)11:用い、検出画像g(1#j)
より ?(1,j)−(g(i、j)−nci、j))/(w
l、j)−B(i、j)) と、白画像、黒画像に対し、検出画像を正規化する。具
体的構成例を第6図に示すが、第6図では対数変換t−
も含めて実施しており、対数変換後の画像t”f(1,
j)として出力している。第6図において、検出画像信
号15と黒画像メモリ160出力、白画像メモリ17の
出力と黒画像メモリ16の出力の差を引算回路18.1
9で求め、各出力を合成回路20でビット列として(g
−B)(W−B)合成し、20の出力をアドレスとして
変換テーブルメモリ21の内容を読み出し、変換後の画
像22f(1,j)を出力する。変換テーブルメモリ2
1の内容は式(5)の左辺の値を右辺の分母と分子で決
まるアドレスにおいて、対数変換して記憶されている。
水平投影分布作成回路23、垂直投影分布作成回路24
は画像?(1,j)に対し、水平投影分布H(j)、垂
直投影分布v(1)を計算機Sで指定される投影する領
域が第7図の斜線部で示すような領域とすると H(j)肩J    f(1,j) i ’III i。
2 V(1)mJ   f(1,j) j −、+。
と求めるものである。
ここでの実施例における検査のシーケンスを説明する。
計算機8はティーチングまたは設計情報より求めたはん
だ付部の位置情報にもとづき、ステージ3を制御し、基
板2′f:位置決めし、X線透過画像をメモリ14へ入
力する。次に計算機8は水平および垂直投影分布回路2
3.24に対し、投影領域を指定し、投影分布t−作成
させ、投影分布を解析し、はんだ付部位置を検出する。
計算機8は検出したはんだ付部位置にもとづき25.2
4で求まった投影分布、メモリ14へ入力された画像を
解析し、各はんだ付部の欠陥抽出を行う。
以上の動作1に第8図に示すようなPI、CC(Pla
s−tio Iaad*d cllip Carrie
r )と呼ばれるJリードのはんだ付部の検査を例にと
夕、説明する。#I9図(a)はJリードのはんだ付部
の断面を示しており、Jリードのリード長手方向のX線
画像の明るさ変化を同図(b)に示す。X線画像の明る
さははんだ厚さが大きい程、暗くなり、最も暗くなるの
はJり一ドのヒール部で、次いで暗いOはJリードのト
ウ部となる。このような特徴を有するJリードOX線透
過園像に対し、水平投影分布作成回路23により水平投
影分布を第10図(a)で示すような、はんだ付部が重
複する領域で求めると、同図(b)で示すような水平投
影分布H(j)が得られる。計算機8はH(j)を入力
し、第11図に示すように1lfflTh。
とEl(j)との交点jB、jet−求め、垂直方向の
はんだ付部の位置とする。ここで閾fiI’l’h、は
前もって設定する。あるいは入力したn(j)の最大値
と最小値を前もって設定した比で内分した値などを用い
る。
次に垂直方向の投影範囲をjs”jeとし、第12図(
a)に示すような領域で、垂直投影分布作成回路24t
−用い、垂直投影分布V(1)t−求めると同図(b)
のように求まる。計算機6はv(1)を入力し。
第1s図に示すように閾値Th2とv(1)の交点1日
、。
io、〜is4 a 1e4t−求め、水平方向のはん
だ付部の位置とする。ここで閾値’l’h、の設定は、
’I’h、IZ)設定と同様とする。
tた、水平投影分布作成回路23により水平投影分布t
−第14図(a)で示すような、表裏のはんだ付部が分
離した領域で求めると、第10図と同様に同図(b)で
示すような水平投影分布H(j)が得られる。第11図
、第12図に示す方式で処理すると、リード長手方向の
投影分布(垂直方向)は第14図に示すようになり、表
裏−組のはんだ付部しか分離できない。そこで、第14
図に示すように1siと10.の中点ioiを歩めるこ
とにより、表裏を分離してはんだ付部の位置を抽出でき
る。
以上を筐とめて、第15図に検査の70−を示す。第1
5図では、はんだ付部が重複する部分について、欠陥判
定をしたのち、はんだ付部が分離する部分で欠陥判定し
ているが、順序は逆でも良いことは言うまでもない。
本実施例では、はんだ付部の位aをはんだの像を用いて
いるが、部品のリードフレーム、あるいはリードフレー
ム上のパターン、あるいは特別に設けたターゲットマー
クを用いることも可能である。また、はんだ付部が重複
する部分と分離する部分で別々にはんだ付部の位置検出
を行っているが、一方の結果を基準に設計値に基すきは
んだ付部の位置を求めることができる。
筐た、本実施例では検出器7を1台用いているが、複数
台の検出器を用いることも可能である。
また、両面実装基板はかりでなく、片面実装基板につい
ても、本発明の方式を適用でき、ることは言うまでもな
い。
また、本実施例では、イメージインテンシファイア、T
VカメラをX線検出器として用いているが、螢光板と高
感度カメラ、X線′1′vカメラなどを用いた構成をと
れることは言うlでもない。
〔発明の効果〕
本発明によれば、基板傾斜機構を設けることなく、表裏
のはんだ付部が重複した検出画像と表裏のはんだ付部が
分離した検出画像を同時検出することができ、機構の簡
素化、検査時間の削減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第5図、及び第6図は各々本発明の一実施例を
示す図、第2図、第4図は各々本発明の基本的な考えを
説明するための図、第5図は従来技術を説明するための
図、第7図乃至第14図は各々実施例の具体的動作を説
明するための図、第15図は検査の70−を説明するた
めの図である。 1 ・・・ 部品 2 ・・・ 基板 5−)yIステージ 4 ・・・ X線源 5 ・・・ イメージインテンシファイア6 ・・ T
Vカメラ 7 ・・・ 検出器 8 ・・・ 計算機 9 ・・・ ステージ制御部 10  ・・・ 画像処理部 第2図 (b) 表X表裏 清裏ヱ複 第5図 第4図 ρ←X線源4 〆1 ! ! 第5121 5 6 第612] 第9図 %11図 蔦12図 (a)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.試料ステージにより位置決めされた基板に電子部品
    のリードをはんだ付けした検査対象にX線を照射して、
    基板に垂直に入射するX線と基板に斜めに入射するX線
    による透過画像を同時に検出し、このX線透過画像より
    検査対象となるはんだ付部の位置を抽出し、その位置情
    報に基いて各はんだ付部毎に検査領域を設定し、欠陥判
    定するはんだ付部の検査方法。
  2. 2.基板に垂直に入射するX線により両面実装されたは
    んだ付部の重複した部分を検出し、基板に斜めに入射す
    るX線により両面実装されたはんだ付部の分離した部分
    を検出することを特徴とする請求項1記載のX線透過画
    像によるはんだ付部の検査方法。
  3. 3.基板に垂直に入射するX線と基板に斜めに入射する
    X線による透過画像を検出するため、X線源を検出器に
    対し、ずれた位置に設置し、1台の検出器で基板に垂直
    に入射するX線と基板に斜めに入射するX線による透過
    画像を同時に検出することを特徴とする請求項1記載の
    X線透過画像によるはんだ付部の検査方法。
  4. 4.基板に垂直に入射するX線と基板に斜めに入射する
    X線による透過画像を検出するため、複数台の検出器で
    同時に検出することを特徴とする請求項1記載のX線透
    過画像によるはんだ付部の検査方法。
  5. 5.X線源と、基板に電子部品のリードをはんだ付けし
    た検査対象を位置決めする試料ステージと、上記X線源
    より照射され、上記試料ステージにより位置決めされた
    はんだ付部を有する基板に垂直に入射するX線と基板に
    斜めに入射するX線による透過画像を検出するX線検出
    器と、該X線検出器により検出されるX線透過画像に基
    いて検査対象となるはんだ付部の位置を抽出するはんだ
    付部位置抽出手段と、該はんだ付部位置抽出手段によっ
    て抽出されたはんだ付部位置情報に基いて各はんだ付部
    毎に検査領域を設定する検査領域設定手段と、該検査領
    域設定手段により設定された検査領域毎に欠陥判定する
    欠陥判定手段とを備えたことを特徴とするX線透過画像
    によるはんだ付部の検査装置。
  6. 6.基板に垂直に入射するX線により両面実装されたは
    んだ付部の重複した部分を検出し、基板に斜めに入射す
    るX線により両面実装されたはんだ付部の分離した部分
    を検出することを特徴とする請求項5記載のX線透過画
    像によるはんだ付部の検査装置。
  7. 7.基板に垂直に入射するX線と基板に斜めに入射する
    X線による透過画像を検出するため、X線源を検出器に
    対し、ずれた位置に設置したことを特徴とする請求項5
    記載のX線透過画像によるはんだ付部の検査装置。
  8. 8.基板に垂直に入射するX線と基板に斜めに入射する
    X線による透過画像を検出するため、複数台の検出器で
    同時に検出することを特徴とする請求項5記載のX線透
    過画像によるはんだ付部の検査装置。
JP21733789A 1989-08-25 1989-08-25 X線透過画像によるはんだ付部の検査方法及びその装置 Pending JPH0381606A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009150782A (ja) * 2007-12-20 2009-07-09 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009150782A (ja) * 2007-12-20 2009-07-09 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置

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