JPH0378609A - 光スキッド式表面粗さ計測装置 - Google Patents
光スキッド式表面粗さ計測装置Info
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- JPH0378609A JPH0378609A JP1216273A JP21627389A JPH0378609A JP H0378609 A JPH0378609 A JP H0378609A JP 1216273 A JP1216273 A JP 1216273A JP 21627389 A JP21627389 A JP 21627389A JP H0378609 A JPH0378609 A JP H0378609A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は、被測定面の表面粗さや表面形状を非接触で測
定する表面粗さ計測装fit二関し、特には、光スキッ
ド式表面粗さ計測装置に関するものである。
定する表面粗さ計測装fit二関し、特には、光スキッ
ド式表面粗さ計測装置に関するものである。
[従来技術1
従来、被測定面の機械的振動の影響を受けにくい表面粗
さ計測方式としてスキッド法がある。スキッド法を光学
的な非接触計測にしたのが光スキッド式表面粗さ計測で
ある。通常その方式では、被測定面上に微小スポット状
の光束と、それを中心とする通常直径100μ−以上の
光束を同時に投射し、その2光束の反射光を干渉させ、
被測定面の走査に伴って変化する干渉信号から被測定面
の凹凸量が求められる。上記の微小スポット状の光束は
、被測定面の凹凸と機械的振動の両方の影響を受けるの
に対し、直径100μmの光束の方は、凹凸の影響は平
均されて小さくされるが、機械的振動の影響は同じであ
るので、両光束の干渉によって生じる干渉信号には、機
械的振動の影響は大幅に除去され、被測定面の凹凸のみ
が表れるのである。上記の微小スポット状の光束と直径
100μ鴎以上の光束を同時に被測定面上に投射する光
学的手段として、従来、入射する光の偏光方向によって
異なる2つの焦点距離を6つ、いわゆる2爪無点レンズ
が用いられ、直交する直線偏光の一方の成分の焦点が被
測定面上に合わされ微小スポットにされ、他方は焦点ず
れの状態にされて直径の大きなスポットにされて上記の
状態が実現されていた。
さ計測方式としてスキッド法がある。スキッド法を光学
的な非接触計測にしたのが光スキッド式表面粗さ計測で
ある。通常その方式では、被測定面上に微小スポット状
の光束と、それを中心とする通常直径100μ−以上の
光束を同時に投射し、その2光束の反射光を干渉させ、
被測定面の走査に伴って変化する干渉信号から被測定面
の凹凸量が求められる。上記の微小スポット状の光束は
、被測定面の凹凸と機械的振動の両方の影響を受けるの
に対し、直径100μmの光束の方は、凹凸の影響は平
均されて小さくされるが、機械的振動の影響は同じであ
るので、両光束の干渉によって生じる干渉信号には、機
械的振動の影響は大幅に除去され、被測定面の凹凸のみ
が表れるのである。上記の微小スポット状の光束と直径
100μ鴎以上の光束を同時に被測定面上に投射する光
学的手段として、従来、入射する光の偏光方向によって
異なる2つの焦点距離を6つ、いわゆる2爪無点レンズ
が用いられ、直交する直線偏光の一方の成分の焦点が被
測定面上に合わされ微小スポットにされ、他方は焦点ず
れの状態にされて直径の大きなスポットにされて上記の
状態が実現されていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、2爪無点レンズは、方解石、結晶水晶な
どの高価な材料から、結晶の方位が決められてレンズ状
に研磨されて作成されるので、非常に高価なレンズであ
った。
どの高価な材料から、結晶の方位が決められてレンズ状
に研磨されて作成されるので、非常に高価なレンズであ
った。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、高価な2爪無点レンズの不要な、安価な光ス
キッド式表面粗さ計測装置の提供を目的1こしている。
のであり、高価な2爪無点レンズの不要な、安価な光ス
キッド式表面粗さ計測装置の提供を目的1こしている。
[課題を解決するための手段]
この目的を達成するために本発明の光スキッド式表面粗
さ計測装置は、微小スポット状の第1の計測ビームと、
それを中心とする円環状の第2の計測ビームが同時に被
測定面上に投射される光学的手段と、被測定面上から反
射された前記第1゜第2の計測ビームとそれら2つの計
測ビームとは周波数がわずかに異なる参照ビームとが干
渉させられ、2種の干渉ビート光が生成される光学的手
段と前記の2種の干渉ビート光が光検出器により2種の
電気ビート信号に変換された後、それら2信号の位相差
が位相計で測定され、該位相差により被測定面の凹凸量
を出力する制御手段とを有している。
さ計測装置は、微小スポット状の第1の計測ビームと、
それを中心とする円環状の第2の計測ビームが同時に被
測定面上に投射される光学的手段と、被測定面上から反
射された前記第1゜第2の計測ビームとそれら2つの計
測ビームとは周波数がわずかに異なる参照ビームとが干
渉させられ、2種の干渉ビート光が生成される光学的手
段と前記の2種の干渉ビート光が光検出器により2種の
電気ビート信号に変換された後、それら2信号の位相差
が位相計で測定され、該位相差により被測定面の凹凸量
を出力する制御手段とを有している。
[作用1
上記の構成を有する本発明により、微小スポット状の第
1の計測ビームと参照ビームの干渉の結果生ずる干渉信
号には、被測定面の凹凸の情報と機械的振動の情報が含
まれるが、円環状の第2の計測ビームと参照ビームの干
渉の結果生ずる干渉信号には、被測定面の凹凸は平均さ
れて小さくなり、機械的振動の情報だけが主に含まれる
ので、両信号の位相差が測定されることにより、被測定
面の凹凸のみが主に得られ、機械的振動の影響は大幅に
除去される。
1の計測ビームと参照ビームの干渉の結果生ずる干渉信
号には、被測定面の凹凸の情報と機械的振動の情報が含
まれるが、円環状の第2の計測ビームと参照ビームの干
渉の結果生ずる干渉信号には、被測定面の凹凸は平均さ
れて小さくなり、機械的振動の情報だけが主に含まれる
ので、両信号の位相差が測定されることにより、被測定
面の凹凸のみが主に得られ、機械的振動の影響は大幅に
除去される。
[実施例1
以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第1図は、一実施例の構成を説明する図である。
図において、He−Neレーザなどのレーザ光源10は
、出射される単色のレーザ光の偏光方向が紙面に平行に
なるように光軸まわりの方位がWR整されている。以下
図では、紙面に平行な偏光を記号→で表し、紙面に垂直
な偏光を信号−で表す、出射されたレーザ光はビームス
ブリγり12で計測光と参照光に分岐される。ビームス
プリッタ12で反射された計測光は、超音波光周波数変
調器14(以下AOモジュールと略記する。)で周波数
fの周波数変調を受け、ビームエキスパンダ16でビー
ム径が拡大され、偏光ビームスプリッタ20を通過させ
られ、1/4波長板に入射されて円偏光され、円錐台形
状のレンズ24に入射されて第1の計測ビームと第1の
計測ビームを中心軸とする広がってゆく円環状の第2の
計測ビームにされ、対物レンX:26により被測定試料
28の表面へ収束される。そして、被測定試料28の表
面で反射された前記第1.第2の計測ビームは光軸を逆
進するが、1/4波長板22を再度通過させられるので
、入射時とは偏光方向が90°回転させられた紙面に垂
直な直線偏光にされ、偏光ビームスブIノフ夕20で反
射され、45°楕円の穴があけられた反射鏡42へ向け
られる。−力、ビームスプリッタ12を通過させられた
参照光は、反射鏡30で向きが変えられ、AOモジュー
ル32へ入射させられ、Aoモジュール32で周波数r
2の周波数変調を受け、ビームエキスパンダ34でビー
ム径が拡大され、反射#t40で向きが変えられ、偏光
ビームスプリッタ20に入射させられるが、偏光方向が
紙面に平行なので、偏光ビームスプリフタ20を通過さ
せられ、前記の#S1.第2の計測ビームと光軸が平行
に合わされる。そして、第1の計測ビームは反射鏡42
の45°楕円の穴を通過し、その穴を通過した一部の参
照ビームとともに、方向が光軸まわりに45°回転して
配置されたポーラライザ44を通され、互いに直交して
いた偏光方向が合わされ、うなり(ビート)の周波数が
f、 −f2の干渉光とされ、集光レンズ46で集光さ
れ、光検出器48で電気信号に変換される。また反射鏡
42で反射された第2の計測ビームと残りの参照ビーム
は、同様に方向が光軸まわりに45°回転して配置され
たポーラライザ50を通され、互いに直交していた偏光
方向が合わされ、ビート周波数がf、−f2の干渉光と
され、集光レンズ52で集光され、光検出器54で電気
信号に変換される。前記2種の周波数f、−f2の電気
信号は測定回路56に導かれて、測定回路56内の位相
計によって両信号の位相差が積算される。
、出射される単色のレーザ光の偏光方向が紙面に平行に
なるように光軸まわりの方位がWR整されている。以下
図では、紙面に平行な偏光を記号→で表し、紙面に垂直
な偏光を信号−で表す、出射されたレーザ光はビームス
ブリγり12で計測光と参照光に分岐される。ビームス
プリッタ12で反射された計測光は、超音波光周波数変
調器14(以下AOモジュールと略記する。)で周波数
fの周波数変調を受け、ビームエキスパンダ16でビー
ム径が拡大され、偏光ビームスプリッタ20を通過させ
られ、1/4波長板に入射されて円偏光され、円錐台形
状のレンズ24に入射されて第1の計測ビームと第1の
計測ビームを中心軸とする広がってゆく円環状の第2の
計測ビームにされ、対物レンX:26により被測定試料
28の表面へ収束される。そして、被測定試料28の表
面で反射された前記第1.第2の計測ビームは光軸を逆
進するが、1/4波長板22を再度通過させられるので
、入射時とは偏光方向が90°回転させられた紙面に垂
直な直線偏光にされ、偏光ビームスブIノフ夕20で反
射され、45°楕円の穴があけられた反射鏡42へ向け
られる。−力、ビームスプリッタ12を通過させられた
参照光は、反射鏡30で向きが変えられ、AOモジュー
ル32へ入射させられ、Aoモジュール32で周波数r
2の周波数変調を受け、ビームエキスパンダ34でビー
ム径が拡大され、反射#t40で向きが変えられ、偏光
ビームスプリッタ20に入射させられるが、偏光方向が
紙面に平行なので、偏光ビームスプリフタ20を通過さ
せられ、前記の#S1.第2の計測ビームと光軸が平行
に合わされる。そして、第1の計測ビームは反射鏡42
の45°楕円の穴を通過し、その穴を通過した一部の参
照ビームとともに、方向が光軸まわりに45°回転して
配置されたポーラライザ44を通され、互いに直交して
いた偏光方向が合わされ、うなり(ビート)の周波数が
f、 −f2の干渉光とされ、集光レンズ46で集光さ
れ、光検出器48で電気信号に変換される。また反射鏡
42で反射された第2の計測ビームと残りの参照ビーム
は、同様に方向が光軸まわりに45°回転して配置され
たポーラライザ50を通され、互いに直交していた偏光
方向が合わされ、ビート周波数がf、−f2の干渉光と
され、集光レンズ52で集光され、光検出器54で電気
信号に変換される。前記2種の周波数f、−f2の電気
信号は測定回路56に導かれて、測定回路56内の位相
計によって両信号の位相差が積算される。
本実施例は、円錐台形レンズ24と対物レンズ26が、
微小スポット状の第1の計測ビームと、前記第1の計測
ビームを中心とする円環状の第2の計測ビームが同時に
被測定面上に投射される光学的手段に対応し、偏光ビー
ムスプリッタ20、反射@42、そして2つのポーララ
イザ44.50が、2種の干渉ビート光が生成される光
学的手段に対応する。
微小スポット状の第1の計測ビームと、前記第1の計測
ビームを中心とする円環状の第2の計測ビームが同時に
被測定面上に投射される光学的手段に対応し、偏光ビー
ムスプリッタ20、反射@42、そして2つのポーララ
イザ44.50が、2種の干渉ビート光が生成される光
学的手段に対応する。
以下、第1図と第4図により本実施例の動作を説明する
。1/4波長板22を通され円偏光にされた計測ビーム
は、第4図にあるように円錐台形レンズ24に入射させ
られるが、円錐台形レンズ24の円形の上平面を通過さ
せられた計測ビームは、上平面の直径をビーム径とする
第1の計測ビームにされ、円錐斜辺を通過させられた残
りの計測ビームは、前記の第1の計測ビームを中心軸と
して円錐状に広がってゆく円錐状の第2の計測ビームに
され、詳しくは無限回補正された顕微鏡対物レンズ26
に入射される。i@1計測ビーム、第2計測ビームは、
中心軸を含む平面で切断されると、第1図にあるように
、ともに平行ビームであるため、対物レンズ26の焦平
面に収束されるので、焦平面の位置に置かれた被測定面
上で、第1の計測ビームは微小スポットに、第2の計測
ビームは、第1の計測ビームを中心とする円環にされる
わけである。反射された第1の計測ビームの周波数は、
もとのレーザ光の周波数をrot波艮を入。
。1/4波長板22を通され円偏光にされた計測ビーム
は、第4図にあるように円錐台形レンズ24に入射させ
られるが、円錐台形レンズ24の円形の上平面を通過さ
せられた計測ビームは、上平面の直径をビーム径とする
第1の計測ビームにされ、円錐斜辺を通過させられた残
りの計測ビームは、前記の第1の計測ビームを中心軸と
して円錐状に広がってゆく円錐状の第2の計測ビームに
され、詳しくは無限回補正された顕微鏡対物レンズ26
に入射される。i@1計測ビーム、第2計測ビームは、
中心軸を含む平面で切断されると、第1図にあるように
、ともに平行ビームであるため、対物レンズ26の焦平
面に収束されるので、焦平面の位置に置かれた被測定面
上で、第1の計測ビームは微小スポットに、第2の計測
ビームは、第1の計測ビームを中心とする円環にされる
わけである。反射された第1の計測ビームの周波数は、
もとのレーザ光の周波数をrot波艮を入。
とすると下式のように表される。
ユニで、「、はAOモジュール14の変調周波数で定数
、fl (t)は被測定試料28の機械的振動による周
波数変調項で時間関数、Φ(x)は被測定試料28の表
面の凹凸を表し、表面の位置を表す変数x Xの関数、 は試料表面が掃引される速度を表t す。尚、(1)式の第4項が2倍されているのは、反射
により凹凸の量が実質2倍にされるからである。一方、
第2の計測ビームの周波数は下式にように表される。
、fl (t)は被測定試料28の機械的振動による周
波数変調項で時間関数、Φ(x)は被測定試料28の表
面の凹凸を表し、表面の位置を表す変数x Xの関数、 は試料表面が掃引される速度を表t す。尚、(1)式の第4項が2倍されているのは、反射
により凹凸の量が実質2倍にされるからである。一方、
第2の計測ビームの周波数は下式にように表される。
(2)式第4項の積分は、比較的滑らかな試料面であれ
ば0と考えて良い。参照ビームの周波数はf。
ば0と考えて良い。参照ビームの周波数はf。
+f2と表されるので、第1の計測ビームとの干渉の結
果、光検出器48から得られる電気信号の周波数は、 となり、同じく第2の計測ビームと参照ビームとの干渉
の結果、光検出器54から得られる電気信号の周波数は
、 r+−42十fa<L) −
(4)となる。そして(3)式と(4)式の位相差が位
相計で時間積分されると、 となる。ここで、×1は、試料面掃引中の時刻t1にお
ける試料面の位置を表し、同様に×2は時刻t2におけ
る位置を表す。
果、光検出器48から得られる電気信号の周波数は、 となり、同じく第2の計測ビームと参照ビームとの干渉
の結果、光検出器54から得られる電気信号の周波数は
、 r+−42十fa<L) −
(4)となる。そして(3)式と(4)式の位相差が位
相計で時間積分されると、 となる。ここで、×1は、試料面掃引中の時刻t1にお
ける試料面の位置を表し、同様に×2は時刻t2におけ
る位置を表す。
このように、機械的振動の影響r、(t)が除去されて
、試料面の各点×2の凹凸が×1を基準として求められ
るわけである。
、試料面の各点×2の凹凸が×1を基準として求められ
るわけである。
第2図に本発明の別の実施例の構成を示す。図において
、偏光方向が直交する周波数のわずかに異なる2種のレ
ーザ光を同時に発振する直交2周波レーザ光源58から
出射されたレーザ光は、AOモジュール60を通過させ
られ、ビームエキスバング62でビーム径が拡大され、
反射1166で向きが変えられ、偏光ビームスプリッタ
20で直交する2種の周波数のレーザ光が分離される。
、偏光方向が直交する周波数のわずかに異なる2種のレ
ーザ光を同時に発振する直交2周波レーザ光源58から
出射されたレーザ光は、AOモジュール60を通過させ
られ、ビームエキスバング62でビーム径が拡大され、
反射1166で向きが変えられ、偏光ビームスプリッタ
20で直交する2種の周波数のレーザ光が分離される。
偏光ビームスプリッタ20を通過して分離されたレーザ
光は計測ビームにされ、以下第1図の実施例と同じ作用
を受けて第1の計測ビームと第2の計測ビームにされる
。一方、偏光ビームスプリッタ20で反射されて分離さ
れたレーザ光は参照ビームにされ、1/4波長板68を
通過させられ、反射鏡70で反射され、1/4波長板を
再度通過させられて、入射時とは偏光方向が90”回転
された直線偏光にされるので偏光ビームスプリッタ20
を通過させられて、第1.第2の計測ビームと光軸が平
行に合わされ、以下第1図の実施例と同じ作用を受ける
。尚、ビームエキスバング62のレンズ表面等からレー
ザ光源58側に反射されるレーザ光は、AOモジュール
により周波数変調されるため、レーザ光源58は反射レ
ーザ光の影響を受けないようにされている。
光は計測ビームにされ、以下第1図の実施例と同じ作用
を受けて第1の計測ビームと第2の計測ビームにされる
。一方、偏光ビームスプリッタ20で反射されて分離さ
れたレーザ光は参照ビームにされ、1/4波長板68を
通過させられ、反射鏡70で反射され、1/4波長板を
再度通過させられて、入射時とは偏光方向が90”回転
された直線偏光にされるので偏光ビームスプリッタ20
を通過させられて、第1.第2の計測ビームと光軸が平
行に合わされ、以下第1図の実施例と同じ作用を受ける
。尚、ビームエキスバング62のレンズ表面等からレー
ザ光源58側に反射されるレーザ光は、AOモジュール
により周波数変調されるため、レーザ光源58は反射レ
ーザ光の影響を受けないようにされている。
第3図に更に別の実施例の構成を示す0本実施例は第2
図の実施例に光ファイバーが利用され、光送受信部10
0と光センサヘッド部120が光ファイバーによって7
レキシブルに継げられ、実装が容易にされた装置である
。図において直交2周波レーザ光源58から出射された
レーザ光はAOモジュール60を通過させられ、集光レ
ンズ72で定偏波光フアイバ−74に入射させられる。
図の実施例に光ファイバーが利用され、光送受信部10
0と光センサヘッド部120が光ファイバーによって7
レキシブルに継げられ、実装が容易にされた装置である
。図において直交2周波レーザ光源58から出射された
レーザ光はAOモジュール60を通過させられ、集光レ
ンズ72で定偏波光フアイバ−74に入射させられる。
このとき、直交2周波レーザ光の2つの成分光が、定偏
波光フアイバ−74の直交する2つの伝送モートド(E
とHE に別々に入射させられるように、定偏波
光フアイバ−74の光軸回りの向きが調整されている。
波光フアイバ−74の直交する2つの伝送モートド(E
とHE に別々に入射させられるように、定偏波
光フアイバ−74の光軸回りの向きが調整されている。
定偏波光7アイパー74の他端は光センサヘッドffl
5120に固定されていて、定偏波光フアイバ−74か
ら出射されたレーザ光は集光レンズ82によって平行ビ
ームにされ、以下第2図の実施例と同じ作用を受けるが
、2種の子種光は集光レンズ46.56で集光された後
、直接光検出器に入射されず、−旦シングルモード7T
イパ、あるいはマルチモード7Tイバ76.78に入射
されて光送受信glooまで戻され、そこで光検出器4
8.56で電気信号に変換される。
5120に固定されていて、定偏波光フアイバ−74か
ら出射されたレーザ光は集光レンズ82によって平行ビ
ームにされ、以下第2図の実施例と同じ作用を受けるが
、2種の子種光は集光レンズ46.56で集光された後
、直接光検出器に入射されず、−旦シングルモード7T
イパ、あるいはマルチモード7Tイバ76.78に入射
されて光送受信glooまで戻され、そこで光検出器4
8.56で電気信号に変換される。
以上、本発明の一実施例を説明したが、本発明はその他
の態様においでも適用される。たとえば、円錐台形レン
ズ24は、上下を逆にして配置されても良いし、対物レ
ンズ26が無限遠補正のタイプでなければ、対物レンズ
との関係で曲率が設計された曲面を底面にもつ円錐上平
面下曲面レンズが使用されれば良い。なお、上述したの
はあくまでも本発明の一実施例であり、本発明はその精
神を逸脱しない範囲においで種々変更が加えられ得るも
のである。
の態様においでも適用される。たとえば、円錐台形レン
ズ24は、上下を逆にして配置されても良いし、対物レ
ンズ26が無限遠補正のタイプでなければ、対物レンズ
との関係で曲率が設計された曲面を底面にもつ円錐上平
面下曲面レンズが使用されれば良い。なお、上述したの
はあくまでも本発明の一実施例であり、本発明はその精
神を逸脱しない範囲においで種々変更が加えられ得るも
のである。
[発明の効果1
以上詳述したことから明らかなように本発明によれば、
高価な2重焦点レンズの不要な、安価な光スキッド式表
面粗さ計測装置が提供される6
高価な2重焦点レンズの不要な、安価な光スキッド式表
面粗さ計測装置が提供される6
牛
第1図から第李図までは本発明を具体化した実施例を示
すもので、第1図は一実施例の構成図であり、第2図は
別の実施例の構成図であり、第3図は更に別の実施例の
構成図であり、第4図は、円錐台形レンズと其物レンズ
の機能の説明図であ20・・・ビームスプリフタ、24
・・・円錐台形レンズ、26・・・対物レンズ、42・
・・波面分割反射鏡、44・・・ポーラライザ(検光子
)、50・・・ポーラライザ(検光子)。
すもので、第1図は一実施例の構成図であり、第2図は
別の実施例の構成図であり、第3図は更に別の実施例の
構成図であり、第4図は、円錐台形レンズと其物レンズ
の機能の説明図であ20・・・ビームスプリフタ、24
・・・円錐台形レンズ、26・・・対物レンズ、42・
・・波面分割反射鏡、44・・・ポーラライザ(検光子
)、50・・・ポーラライザ(検光子)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 微小スポット状の第1の計測ビームと、前記第1の
計測ビームを中心とする円環状の第2の計測ビームとを
同時に被測定面上に投射する光学的手段と、 前記被測定面上から反射された前記第1、第2の計測ビ
ームと、それらとは周波数がわずかに異なる参照ビーム
とを干渉させて、2種の干渉ビート光を生成する光学的
手段と、 前記2種の干渉ビート光を光検出器により、2種の電気
ビート信号に変換した後、前記2種の電気ビート信号の
位相差を位相計により測定し、該位相差により被測定面
の凹凸量を出力する制御手段とを有することを特徴とす
る光スキッド式表面粗さ計測装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1216273A JPH0378609A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 光スキッド式表面粗さ計測装置 |
US07/567,741 US5068541A (en) | 1989-08-23 | 1990-08-15 | Surface roughness measuring method and apparatus utilizing truncated conical lens and objective lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1216273A JPH0378609A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 光スキッド式表面粗さ計測装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0378609A true JPH0378609A (ja) | 1991-04-03 |
Family
ID=16685959
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1216273A Pending JPH0378609A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 光スキッド式表面粗さ計測装置 |
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JP (1) | JPH0378609A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100416497B1 (ko) * | 2001-05-03 | 2004-01-31 | (주) 인펙 | 박막패턴 검사장치 |
JP2009139234A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 粗さ測定装置 |
JP2011158381A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Waida Seisakusho:Kk | 形状計測方法、形状計測装置、及び工作機械 |
JP7297179B1 (ja) * | 2022-06-02 | 2023-06-23 | 三菱電機株式会社 | 工作装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5402234A (en) * | 1992-08-31 | 1995-03-28 | Zygo Corporation | Method and apparatus for the rapid acquisition of data in coherence scanning interferometry |
DE19512771A1 (de) * | 1994-04-08 | 1995-10-12 | Fuji Electric Co Ltd | Optische Signalübertragungsvorrichtung |
US5604592A (en) * | 1994-09-19 | 1997-02-18 | Textron Defense Systems, Division Of Avco Corporation | Laser ultrasonics-based material analysis system and method using matched filter processing |
US5796890A (en) * | 1995-04-10 | 1998-08-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Bidirectional optically powered signal transmission apparatus |
US5724138A (en) * | 1996-04-18 | 1998-03-03 | Textron Systems Corporation | Wavelet analysis for laser ultrasonic measurement of material properties |
DE19721882C2 (de) * | 1997-05-26 | 1999-04-29 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Meßvorrichtung |
DE19721881C2 (de) * | 1997-05-26 | 1999-05-20 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Meßvorrichtung |
DE19914994A1 (de) * | 1998-04-03 | 1999-10-14 | Advantest Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenprüfung |
DE10139754B4 (de) * | 2001-08-13 | 2004-07-08 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Beleuchtungsverfahren für ein Scanmikroskop und Scanmikroskop |
JP4133884B2 (ja) * | 2004-03-18 | 2008-08-13 | 株式会社ミツトヨ | 光学的変位測定器 |
US20120232818A1 (en) * | 2009-03-29 | 2012-09-13 | National University Corportion Nagaoka University of Technology | Relative phase detector, relative phase detecting method and information reading device |
CN104121872B (zh) | 2013-04-26 | 2018-04-13 | 通用电气公司 | 表面粗糙度测量装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3624605A (en) * | 1968-12-13 | 1971-11-30 | Honeywell Inc | Optical character recognition system and method |
US3930732A (en) * | 1974-11-22 | 1976-01-06 | Atlantic Research Corporation | Device and process for testing a lens system |
US3999865A (en) * | 1974-12-09 | 1976-12-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method and apparatus for determining the mechanism responsible for laser-induced damage |
US4061427A (en) * | 1976-10-15 | 1977-12-06 | Nasa | Laser extensometer |
FR2482325A1 (fr) * | 1980-05-08 | 1981-11-13 | Thomson Csf | Systeme optique d'observation en temps reel a balayage |
JPS61219802A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | Hitachi Ltd | 変位の光学的測定装置 |
JPH0674963B2 (ja) * | 1988-02-08 | 1994-09-21 | 株式会社日立製作所 | レーザ干渉測長器及びそれを用いた位置決め方法 |
JPH0287005A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-27 | Brother Ind Ltd | 光ヘテロダイン干渉表面形状測定装置 |
-
1989
- 1989-08-23 JP JP1216273A patent/JPH0378609A/ja active Pending
-
1990
- 1990-08-15 US US07/567,741 patent/US5068541A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100416497B1 (ko) * | 2001-05-03 | 2004-01-31 | (주) 인펙 | 박막패턴 검사장치 |
JP2009139234A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 粗さ測定装置 |
JP2011158381A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Waida Seisakusho:Kk | 形状計測方法、形状計測装置、及び工作機械 |
JP7297179B1 (ja) * | 2022-06-02 | 2023-06-23 | 三菱電機株式会社 | 工作装置 |
WO2023233607A1 (ja) * | 2022-06-02 | 2023-12-07 | 三菱電機株式会社 | 工作装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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