JPH0378134A - 光学ディスクの表面ノイズを減少する方法 - Google Patents
光学ディスクの表面ノイズを減少する方法Info
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- JPH0378134A JPH0378134A JP1212869A JP21286989A JPH0378134A JP H0378134 A JPH0378134 A JP H0378134A JP 1212869 A JP1212869 A JP 1212869A JP 21286989 A JP21286989 A JP 21286989A JP H0378134 A JPH0378134 A JP H0378134A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学ディスク製造の際の表面ノイズを減少さ
せる方法に関する。
せる方法に関する。
光学ディスクの従来の加工では、トラック誘導のための
溝とデータの読み出しと書き込みのための設定領域への
誘導を可能にするコード化されたアドレス情報を含む表
面レリーフパターンを作るためにフォトレジストのエツ
チングを用いている。
溝とデータの読み出しと書き込みのための設定領域への
誘導を可能にするコード化されたアドレス情報を含む表
面レリーフパターンを作るためにフォトレジストのエツ
チングを用いている。
従来、ニッケル原盤をつくり、レジストを電気メツキし
てその原盤から射出成形又はキャスティングによってレ
プリカが製造されている。続いて、スピニング又は真空
蒸着のような方法により表面に記録層を沈着させる。こ
の工程中、特にフォトレジストの現像中において、表面
が粗面化し、最終製品の表面ノイズが増加することがあ
る。
てその原盤から射出成形又はキャスティングによってレ
プリカが製造されている。続いて、スピニング又は真空
蒸着のような方法により表面に記録層を沈着させる。こ
の工程中、特にフォトレジストの現像中において、表面
が粗面化し、最終製品の表面ノイズが増加することがあ
る。
本発明の目的は、製造の中間段階における処理によって
最終製品の表面ノイズを減少させることである。
最終製品の表面ノイズを減少させることである。
本発明は、表面レリーフパターンを有する型式の光学デ
ィスクの表面ノイズの減少方法を提供するものであり、
この方法は、記録層を形成する材料を被覆する前にディ
スクの支持体に接着層を塗布することを含むものである
。
ィスクの表面ノイズの減少方法を提供するものであり、
この方法は、記録層を形成する材料を被覆する前にディ
スクの支持体に接着層を塗布することを含むものである
。
本発明の第2の態様によると、表面レリーフパターンを
有する型式の光学ディスクの表面ノイズの減少方法が提
供され、この方法は、マスターディスクから作られたポ
リマーレプリカに緩やかな溶剤を塗布することを含むも
のである。
有する型式の光学ディスクの表面ノイズの減少方法が提
供され、この方法は、マスターディスクから作られたポ
リマーレプリカに緩やかな溶剤を塗布することを含むも
のである。
本発明の第3の態様によると、表面レリーフパターンを
有する型式の光学ディスクの表面ノイズの減少方法が提
供され、この方法は、光学ディスクの複製に使用するに
先立って中間の電鋳を電気研磨することを含むものであ
る。
有する型式の光学ディスクの表面ノイズの減少方法が提
供され、この方法は、光学ディスクの複製に使用するに
先立って中間の電鋳を電気研磨することを含むものであ
る。
実施例1 ニッケルスクンバーの処理
中間のニッケルコピー1(第1図参照)はマスターディ
スクから製造された。次に、(a)良好な湿潤特性を有
する好適な溶媒溶液中でポリメチルメタクリレ−) (
PMMA)を、又は℃)稀釈したフォトレジストを、又
は(C)稀釈した電子ビームレジストのいずれかを使用
して、スピン被覆又は浸漬によって、その表面に薄くな
めらかな層2を塗布した。 (b)又は(C)において
は、約800 rpa+で約5分間スピニングを行うの
が好ましい。もし望むならば、この処理すべき表面を、
均一性を改善するために、その表面にぴったり合ったト
ッププレートにより被覆してもよい。この操作の結果と
して、層2がニッケル表面における凸凹3の大部分を消
してしまった。被覆した後、その表面を金属化して導電
性とし、電鋳(図示しない)によりコピーを作った。こ
のコピー又は、さらなる次のコピーを用いて複製を行っ
た。このように行った表面平滑法は、表面ノイズを6d
B減少させることができた。
スクから製造された。次に、(a)良好な湿潤特性を有
する好適な溶媒溶液中でポリメチルメタクリレ−) (
PMMA)を、又は℃)稀釈したフォトレジストを、又
は(C)稀釈した電子ビームレジストのいずれかを使用
して、スピン被覆又は浸漬によって、その表面に薄くな
めらかな層2を塗布した。 (b)又は(C)において
は、約800 rpa+で約5分間スピニングを行うの
が好ましい。もし望むならば、この処理すべき表面を、
均一性を改善するために、その表面にぴったり合ったト
ッププレートにより被覆してもよい。この操作の結果と
して、層2がニッケル表面における凸凹3の大部分を消
してしまった。被覆した後、その表面を金属化して導電
性とし、電鋳(図示しない)によりコピーを作った。こ
のコピー又は、さらなる次のコピーを用いて複製を行っ
た。このように行った表面平滑法は、表面ノイズを6d
B減少させることができた。
実施例2 レプリカの処理
マスターディスク(図示せず)から作られたポリマーレ
プリカ10(第2図参照)を、弱溶剤又は弱溶剤混合物
中でスピン被覆又は浸漬により処理した。この溶剤混合
物は、表面上の少量の物質を除去し及び再び沈積する。
プリカ10(第2図参照)を、弱溶剤又は弱溶剤混合物
中でスピン被覆又は浸漬により処理した。この溶剤混合
物は、表面上の少量の物質を除去し及び再び沈積する。
この溶剤の湿潤特性は、支持体の凸凹を減少させ、溶剤
でスピン洗浄した後は、「高いスポット」が優先的に除
去され、続く乾燥中に、材料が「低いスポット」に再び
沈積した。第3図はこうして得られた改良された表面1
2を示している。被覆した後、表面ノイズはこの方法に
より5 dBi少したことが見い出された。
でスピン洗浄した後は、「高いスポット」が優先的に除
去され、続く乾燥中に、材料が「低いスポット」に再び
沈積した。第3図はこうして得られた改良された表面1
2を示している。被覆した後、表面ノイズはこの方法に
より5 dBi少したことが見い出された。
レリーフパターンの全体的な深さはこの処理により減少
した。乾燥中の表面張力により微視的な凸凹が優先的に
なめらかにされた。もし望むならば、レリーフパターン
の最初のアスペクト比を変えて、表面レリーフの深さを
減少させるようにすることができる。
した。乾燥中の表面張力により微視的な凸凹が優先的に
なめらかにされた。もし望むならば、レリーフパターン
の最初のアスペクト比を変えて、表面レリーフの深さを
減少させるようにすることができる。
実施例3 スタンパ−の研磨
実施例1で用いられた中間の電鋳を電気研磨して、前方
表面から少量の金属を除去した。この電鋳は直接複製に
用いてもよいし、あるいはコピーを作り、このコピーを
複製のために用いてもよい。
表面から少量の金属を除去した。この電鋳は直接複製に
用いてもよいし、あるいはコピーを作り、このコピーを
複製のために用いてもよい。
電気研磨溶液の適切な制御により、望ましい特徴を破壊
することなく表面から凸凹を選択的に除去することが可
能である。
することなく表面から凸凹を選択的に除去することが可
能である。
3つの実施例すべてにおいて、望ましい深さの特徴が減
少した。これを補償するため、マスターディスクは従来
求められていたよりも大きな表面レリーフを有するよう
に製造してもよい。
少した。これを補償するため、マスターディスクは従来
求められていたよりも大きな表面レリーフを有するよう
に製造してもよい。
上記方法は、溶剤のスピニング又は直接フォトレジスト
上へのなめらかな層の沈積のような方法において他の点
で適用することができること、及びこのような改善が本
発明の範囲に含まれることは明らかである。
上へのなめらかな層の沈積のような方法において他の点
で適用することができること、及びこのような改善が本
発明の範囲に含まれることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明方法により処理された光学ディスク表
面の拡大断面図である。 第2図は、本発明に従って処理する以前の他の光学ディ
スクの表面の略図である。 第3図は、本発明に係る方法により処理した後の第2図
の光学ディスクの表面を示している。 −25 第2図 第3図
面の拡大断面図である。 第2図は、本発明に従って処理する以前の他の光学ディ
スクの表面の略図である。 第3図は、本発明に係る方法により処理した後の第2図
の光学ディスクの表面を示している。 −25 第2図 第3図
Claims (3)
- (1)表面レリーフパターンを有する型式の光学ディス
クの表面ノイズを減少する方法であって、記録層を形成
する材料を被覆する前にディスクの支持体に接着層を塗
布することを含む上記方法。 - (2)表面レリーフパターンを有する型式の光学ディス
クの表面ノイズを減少する方法であって、マスターディ
スクから作ったポリマーレプリカに緩やかな溶剤を塗布
することを含む上記方法。 - (3)表面レリーフパターンを有する型式の光学ディス
クの表面ノイズを減少する方法であって、光学ディスク
の複製に用いるに先立ち中間の電鋳を電気研磨すること
を含む上記方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1212869A JPH0378134A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | 光学ディスクの表面ノイズを減少する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1212869A JPH0378134A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | 光学ディスクの表面ノイズを減少する方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0378134A true JPH0378134A (ja) | 1991-04-03 |
Family
ID=16629627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1212869A Pending JPH0378134A (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | 光学ディスクの表面ノイズを減少する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0378134A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007142362A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-06-07 | Lg Philips Lcd Co Ltd | スタンプ及びスタンプ製造方法、ナノパターン形成方法、並びにそれを利用した薄膜トランジスタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法 |
JP2008232249A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Nok Corp | ダストカバーの固定構造 |
US12060912B2 (en) | 2018-12-03 | 2024-08-13 | Trelleborg Carquefou | Protective bellows and transmission joint provided with such a bellows |
-
1989
- 1989-08-18 JP JP1212869A patent/JPH0378134A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007142362A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-06-07 | Lg Philips Lcd Co Ltd | スタンプ及びスタンプ製造方法、ナノパターン形成方法、並びにそれを利用した薄膜トランジスタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法 |
US8127674B2 (en) | 2005-11-14 | 2012-03-06 | Lg Display Co., Ltd. | Stamp and fabricating method thereof, thin film transistor using the stamp, and liquid crystal display device having the thin film transistor |
JP2008232249A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Nok Corp | ダストカバーの固定構造 |
US12060912B2 (en) | 2018-12-03 | 2024-08-13 | Trelleborg Carquefou | Protective bellows and transmission joint provided with such a bellows |
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