JPH037138B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は集積回路パタン形成に用いるレンズ投
影露光方法及び装置に関するものである。等倍投
影露光装置と縮小投影露光装置があり、両者に適
用可であるが、とくに縮小投影露光装置に適用し
た場合有効である。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

従来の方法、装置のうち、まず、原図基板を動
かして被露光物上の所望位置に該原図の等倍また
は縮小投影像を露光する方法および装置の原理概
念を第１図に示す。第１図において、１は原図基
板、２は感光剤を塗布した被露光物、３は被露光
物移動台、４は被露光物移動台位置決め装置、５
は位置決め指令回路、６は位置検出器、７は演算
器、８は等倍または縮小投影レンズ、９は原図基
板移動台、１０は原図基板移動台位置決め装置、
１１は露光指令回路、１２は露光光源である。

従来の装置では例えば特公昭55−18043号公報、
特開昭54−96374号公報、特開昭55−162227号公
報、米国特許USP4057347明細書等に示されるご
とく、原図基板１の感光剤を塗布した被露光物２
への等倍または縮小投影露光像位置を次のように
制御する。

被露光物２を装着した被露光物移動台３を被露
光物移動台位置決め装置４に位置決め指令回路５
から指令を与えることにより位置決めする。位置
検出器６により被露光物移動台３が実際に位置決
めされた位置を検出し演算器７で、該実位置と位
置決め指令回路５からの指令目標値との差Δ_xを
算出、さらに、等倍または縮小投影レンズ８の倍
率ｋで前記差Δ_xを除して、原図基板１を装着し
た原図基板移動台９の位置決め装置１０にその演
算結果を伝達する。原図基板移動台位置決め装置
１０は原図基板移動台９の位置決めを前記演算結
果に従つて行なう。すなわち−Δ_x／ｋだけ原図基板 移動台９を動かし、被露光物２の位置誤差を補償
する。

以上の説明では原理説明のため、位置決め誤差
Δ_xを一次元的なものとして扱つているが、実際
には、前記引例の特公昭55−18043号公報、特開
昭54−96374号公報、特開昭55−162227号公報、
米国特許USP4057347明細書等に示されるよう
に、直交ｘ、y2方向の位置決め誤差Δ_x、Δ_y、ま
た場合によつて原図基板１と被露光物２の相対回
転による位置決め誤差Δθをも含めて、被露光物
２の位置誤差を補償する。

原図基板移動台９が所望の位置に位置決めされ
ると、原図基板移動台位置決め装置１０は、露光
指令回路１１に位置決め終了の信号を送り、露光
光源１２のシヤツタを開閉して被露光物２上の所
望位置にパターン原図の等倍または縮小投影像を
露光する。

かくのごとく、被露光物２への等倍または縮小
投影像露光位置を原図基板１をその面内で動かし
て制御する方法および装置では、位置決め誤差を
等倍または縮小投影レンズ８の倍率ｋで除した量
だけ制御すればよいので、例えばｋ＝１／10の場合 には、被露光物２だけを微動させて位置決めする
場合の10倍の制御精度が得られる。すなわち、例
えば原図基板１を1μｍ精度で動かせれば、被露
光物２の0.1μｍの位置決め誤差を補償できる。

これに対し、原図基板を動かさずに被露光物を
動かして等倍または縮小投影露光位置を制御する
方法、装置も従来の技術として普遍している（特
開昭57−153432号公報、特開昭55−134934号公
報）。このタイプの従来技術の原理を第２図に示
す。X1軸だけについて示してあるが、Ｙ、θの
合わせがある場合も同様である。

１３は原図基板、１４は位置検出器、１５は位
置決め指令回路、１６は位置決め装置、１７は被
露光物、１８は移動台、１９は露光指令回路、２
０は露光光源、２１は等倍または縮小投影レンズ
である。第２図において、原図基板１３は所定の
位置に固定する。次に位置検出器１４からの位置
情報に基き、位置決め指令回路１５から指令を発
し、位置決め装置１６により、該被露光物１７の
装着された移動台１８を正確に位置決めする。こ
ののち、露光指令回路１９から指令を発し、露光
光源２０のシヤツタを開閉し、等倍または縮小投
影レンズ２１を通して被露光物１７上の所望位置
に原図基板１３の等倍または縮小投影像を露光す
る。

かくのごとく、被露光物１７側を動かして、露
光位置を定める方法および装置では、原図基板１
３側に微動機構を要しないので簡便となる利点を
有する。

しかしながら、いずれにしろ、前記に示した各
種の従来技術では原図基板１あるいは１３と被露
光物２あるいは１７の寸法が理想な値となつてい
る場合を想定しており、各々につけた位置検出用
のマークにより、原図基板１あるいは１３と被露
光物２あるいは１７との相対的位置決め誤差が一
義的に定まり、これを正せば全体が重なることを
想定している。すなわち、例えば、第３図に示す
ように、原図基板１あるいは１３の２ケ所Ａ、Ｂ
に＃印のマークを付けておき、被露光物２あるい
は１７の対応する箇所A′、B′に＋印のマークを
付けておく時、Ａ、Ｂにおける＃マークの間隔
Ｌ、およびA′、B′における＋マークの間隔L′が
理想的にkL＝L′の関係をみたし、ＡとA′、Ｂと
B′双方ともマークが等倍または縮小投影レンズ
８あるいは21を介して＃の中央に＋がくるように
重ねられるケースを想定している。

ところが実際には、 原図基板１あるいは１３に形成される原図、
マーク間距離の寸法誤差、 等倍または縮小投影レンズ８あるいは２１の
焦点距離、等倍または縮小投影レンズ８あるい
は２１と原図基板１あるいは１３との距離の誤
差に基く倍率ｋの誤差、 レンズの歪に基く等倍または縮小投影像の
歪、 温度変化による原図基板１あるいは１３、被
露光物２あるいは１７の膨張、収縮、 温度変化による等倍または縮小投影レンズ８
あるいは２１と原図基板１あるいは１３との距
離変化に基く倍率ｋの変動、 被露光物２あるいは17が受ける露光以外の熱
処理、エツチング等の各種プロセスに基く被露
光物２あるいは17の変形、 により、厳密にはkL＝L′とならないのが普通で
ある。このため、例えばＡとA′を位置決めすれ
ばＢとB′はｙ方向は位置決めし得るが、ｘ方向
には合致させることができなくなる。当然、Ａ−
A′、Ｂ−B′以外のパタン箇所例えばＣ−C′等は、
ｘ方向もｙ方向もずれることになる。

前記〜の原因による原図基板１あるいは１
３と被露光物２あるいは１７との寸法誤差は、
（kL−L′）すなわち被露光物面寸法で通常0.5μｍ
以下のオーダーであるが、パタン線幅が1μｍ内
外となり、高精度な位置合わせが必要な場合には
位置合わせマーク点での位置決め誤差よりずつと
大きい値となり、いかに原図基板１あるいは１
３、または被露光物２あるいは１７を精密に制御
しても、原図基板１あるいは１３の等倍または縮
小投影像の寸法が、被露光物２あるいは１７の既
形成パタンの寸法と異なる限り、両者を所望の関
係に重ね合わせることは不可能である。第４図に
この状況を示す。

〔発明の目的〕

本発明は以上のような不都合をなくすため、原
図基板および被露光物と等倍または縮小投影レン
ズとの相対位置および傾き角を装置に装着した状
態で検出して制御することにより、等倍または縮
小投影像の形状、寸法を被露光物の既形成パタン
に合わせて変化させ、両者が位置合わせマーク点
における重ね合わせ精度で、露光領域内の全域で
合致し得るようにする方法および装置である。

〔発明の実施例〕

以下、図面について詳細に説明する。

第５図は本発明の原理説明のための図であり、
２２は原図基板、２３は原図パタン、２４は等倍
または縮小投影レンズ、２５は被露光物、２６は
等倍または縮小投影像、２７は既形成パタンであ
る。

原図基板２２上の寸法Ｌの原図パタン２３が等
倍または縮小投影レンズ２４を通して被露光物２
５上に寸法L′で結像するとする。この等倍または
縮小投影像２６が露光パタンとなる。等倍または
縮小投影レンズ２４の前後焦点を各々F₁，F₂と
し、レンズ２４の主点０から原図パタン２３迄の
距離をａ、等倍または縮小投影像２６迄の距離を
ｂ、焦点距離をｆとすれば １／ａ＋１／ｂ＝１／ｆ …(1) ｂ／ａ＝L′／Ｌ≡ｋ …(2) の関係が成り立つ。ｋは倍率である。

等倍または縮小投影像２６を重ねて露光すべき
被露光物２５の既形成パタン２７と比較する時、
既形成パタン２７の寸法L″は本来L″＝L′となる
べきものであるが、前記原因により、一般に
L″＝L′とはならない。本発明は、前記の距離ａ
およびｂを適当な値に制御することにより、等倍
または縮小投影像２６の寸法L′を変え、既形成パ
タンの寸法L″に合致させる。すなわちL″＝L′の
本来満たされるべき条件を満たすようにしたもの
である。

式(1)、(2)において、等倍または縮小投影レンズ
２４に固有の値は焦点距離ｆだけであり、距離ａ
およびｂは、式(1)を満たす関係にしさえすれば、
像を形成する上での支障はない。

そこで、L′＝L″とするには、(2)より ｂ／ａ＝L″／Ｌしたがつてｂ＝L″／Ｌａ とし、(1)に代入 １／ａ＋１／L″／Ｌａ＝１／ｆ （１＋Ｌ／L″）１／ａ＝１／ｆ ∴ａ＝（１＋Ｌ／L″）ｆ ｂ＝（１＋L″／Ｌ）ｆ とすれば良い。

仮に、L′＝L″＋ΔL、ΔL＞０とすれば、 ａ＝（１＋Ｌ／L′−ΔL）ｆ＞（１＋Ｌ／L′）ｆ ｂ＝（１＋L′−ΔL／Ｌ）ｆ＜（１＋L′／Ｌ）ｆ a₀＝（１＋Ｌ／L′）ｆ、b₀＝（１＋L′／Ｌ）ｆは等
倍ま たは縮小投影像２６を寸法L′で結像させる時に等
倍または縮小投影レンズ２４を置くべき位置であ
る。

したがつて、等倍または縮小投影像２６の寸法
L′が、重ね露光すべき被露光物２５上の既形成パ
タン２７の寸法L″より大きい時は、原図基板２
２の位置を等倍または縮小投影レンズ２４からや
や遠ざけ、対応する所定の距離だけ、被露光物２
５を等倍または縮小投影レンズ２４に近付ければ
よく、Ｌ＜L″の場合には、逆の移動を行なえば
よい。

ゆえに、例えば、前記の、、、等の原
因により、第６図に示すように、等倍または縮小
投影像２６と既形成パタン２７が、相似形をなし
て、寸法が異なる場合には、前記の原理をそのま
ま適用して、原図基板２２、等倍または縮小投影
レンズ２４、被露光物２５の間隔を該等倍または
縮小投影像２６と既形成パタン２７が合致するよ
うに変えればよい。

また、例えば前記の、等の原因により、第
７図に示すように等倍または縮小投影像２６に対
し、既形成パタン２７の形状が歪んでいる場合に
は、原図基板２２と等倍または縮小投影レンズ２
４の距離を場所に応じて変えて、相対的に傾け、
被露光物２５も追随して傾ければよい。第７図の
場合、原図パタン２３の等倍または縮小投影像２
６の辺PQに相当する側を等倍または縮小投影レ
ンズ２４から遠ざけ、被露光物２５の辺PQ側を
対応する距離だけ縮小レンズ２４に近付ければよ
い。

第７図のごとく歪が一方向だけでなく、第８図
のごとく２方向に生じている場合も同様であり、
原図基板２２および被露光物２５の等倍または縮
小投影レンズ２４に対する直交２方向の相対傾き
角を制御すれば良い。

原図基板２２、等倍または縮小投影レンズ２
４、被露光物２５の相対的位置および傾き角を変
えるにはこれらのうち、いずれか２つ以上の位置
および傾き角が変わるようにすればよい。

また、元々前記原因〜に示すように、変え
るべく距離および傾き角はほんのわずかであり、
等倍または縮小投影レンズ２４の焦点深度の範囲
ならば、被露光物２５の位置及び傾き角は変える
必要がなくなる。原因基板２２か等倍または縮小
投影レンズ２４の位置及び傾き角を可変とし、他
方を固定とする場合、前記の理由から、被露光物
２５を等倍または縮小投影レンズ２４に対して常
に一定の位置を保つ機構を付与するだけでも本発
明は効果を有する。

第９図は本発明の実施例であり、２８は原図基
板、２９は原図基板ステージ、３０は主光線束、
３１は原図パタン、３２は等倍または縮小投影レ
ンズ、３３は被露光物、３４，３５は相対位置検
出装置、３６は既形成パタン、３７〜４４は反射
鏡、４９は被露光物ステージ、５０は移動ステー
ジ、５１は演算器、５２は原図基板ステージ駆動
回路、５３は被露光物ステージ駆動回路、５４は
露光指令回路、５５は露光光源である。

原図基板２８を直交３軸Ｘ、Ｙ、Ｚ方向位置座
標および各軸まわりの回転角α、β、θを調整可
能な原図基板ステージ２９に搭載する。Ｘ、Ｙ、
Ｚおよびα、β、θのとり方については、図のご
とく主光線束３０が垂直の場合の他、水平の場合
や、途中に反射鏡が設置され、光路の方向が変わ
る場合があるので、主光線束３０が入射してくる
方向をＺとする。

原図基板２８上の原図パタン３１は等倍または
縮小投影レンズ３２により、被露光物３３上に結
像する。

相対位置検出装置３４および３５により、原図
基板２８上の原図パタン３１と被露光物３３上の
既形成パタン３６との相対位置関係を検出する。
相対位置関係を検出するには、原図基板２８およ
び被露光物３３上の重なりあうべき対応する各位
置に検出用のマークを設けておけばよい。各マー
クを光電的あるいはレーザ干渉計等により位置検
出することにより、相対位置関係が求まる。ま
た、撮像管とテレビジヨン受像機の組合せや顕微
鏡等により重なるべきマークや各パタン３１およ
び３６そのものを観察あるいはずれ計測してもよ
い。

なお第９図に示した反射鏡３７〜４４は、わか
りやすく光路を描くため入れたもので特段の意味
を有しない。一方、原図パタン３１と既形成パタ
ン３６との相対位置関係の検出方式については、
第９図のごとく、両者を別々に検出せず、第１０
図に示すように等倍または縮小投影レンズ３２を
通して、同時に検出してもよい。第１０図の場合
も反射鏡４５，４６は便宜的に示したもので、破
線で示したごとく４７，４８の反射鏡を使う光路
を用いるなどしてもよく、等倍または縮小投影レ
ンズ３２を通していわゆるTTL方式（Through
The Lense方式）で検出する場合に適用できる
ことを示すものである。

原図パタン３１と既形成パタン３６の対応寸法
の差を知るには、最低２ケ所で相対位置関係を検
出することが必要であり、例えば、第１１図に示
すようにチツプ内に設けた＋印で示す２カ所の相
対応する位置を比較する。一方、Ｘ、Ｙ方向の寸
法差およびパターン形状の歪を検出するには、程
度に応じて、例えば第１２図〜第１４図に示すよ
うに３カ所以上の点で相対位置を検出することが
必要である。いずれも＋印が相対位置の検出箇所
であり検出箇所数に応じて相対位置検出装置をふ
やす。

被露光物３３は、被露光物ステージ４９上に搭
載し、主光線束の方向ＺおよびＺに垂直な２軸
Ｘ、Ｙまわりの回転α、βが調整できるようにす
る。

等倍または縮小投影レンズ３２の焦点深度は縮
小倍率と開口数によつてほぼ決まるが、現在使用
されている最も厳しい条件の装置で縮小倍率1/1
０、開口数0.35の場合、±1μｍ〜±2μｍ程度であ
り、他はこれより大きい。

一方、この場合、原図基板２８とレンズ３２の
間の距離を例えば500mmとすれば、10mm大の縮小
投影像の寸法を0.1μｍ増減するために動かすべき
原図基板２８の微動量は、第５図から容易にわか
るようにおおよそ 500／10×0.1μｍ＝5μｍ となる。

これに対し、結像位置のＺ方向移動量は計算に
よると、約 5μｍ×（縮小倍率）²＝5μｍ×（１／10）² ＝0.05μｍ である。

よつて、寸法加減量が±２〜3μｍ程度であれ
ば、結像位置の変化量は焦点深度内に入る。

このような場合は、被露光物ステージ４９の調
整機構は被露光物３３の表面が、等倍または縮小
投影レンズ３２に対して一定位置になるよう保つ
だけの機能を有していさえすればよく、Ｚ、α、
βの調整機構でなくてもよい。

なお、被露光物３３の複数の箇所に投影露光を
要する場合には、被露光物ステージ４９をステツ
プ＆レピートさせるため、被露光物移動ステージ
５０に搭載する。移動ステージ５０には最低Ｘ、
Ｙの位置決め機能を付与する。

該移動ステージ５０により、被露光物３３をお
おむね所定の露光位置に移動した後、相対位置検
出装置３４および３５により原図パタン３１と、
既形成パタン３６の相対位置関係を調べる。演算
器５１は、両者の位置ずれと、寸法の相違を各々
計算し、原図基板ステージ駆動回路５２に位置ず
れ補償のためのＸ、Ｙ、θに関する調整指令と、
寸法および歪補償のためのＺ、α、βに関する調
整指令を、また被露光物ステージ駆動回路５３に
は寸法、歪補償に伴なう結像位置調整のための
Ｚ、α、βに関する駆動指令を発する。

原図基板ステージ駆動回路５２および被露光物
ステージ駆動回路５３は各々原図基板ステージ２
９および被露光物ステージ４９を駆動し、寸法お
よび歪補償を含めた既形成パタン３６と原図パタ
ン３１との位置合わせを行なう。

位置合わせ後、再び相対位置検出装置３４およ
び３５により、両者の相対位置関係を検出し、各
位置検出点における位置ずれが許容値以下になる
迄、前記の位置合わせ動作を繰り返すフイードバ
ツク方式をとれば、より一層精度良く、既形成パ
タン３６と原図パタン３１を対応させることがで
きる。

位置合わせ完了後、演算器５１より、露光指令
回路５４に信号を送り、露光光源５５のシヤツタ
を開閉して露光する。

前記の説明中、相対位置検出装置３４および３
５からの情報により、演算器５１で位置ずれと寸
法、形状の誤差とを分離演算を行なうには、例え
ば次のように行なう。第１５図は、第１１図のご
とく２カ所にマークを設けた場合の位置ずれ、寸
法、形状誤差、算出の説明図である。被露光物３
３上の既形成パタン３６に原図パタン３１の縮小
投影像を重ねた場合を想定し、５６，５７は既形
成パタンマーク、５８，５９は原図パタンマーク
とする。Ａ、B2ケ所における既形成パタンマー
ク５６，５７に対する原図パタンマーク５８，５
９のＸ、Ｙ方向のずれを各々ΔX_A、ΔY_A、ΔX_B、
ΔY_Bとする。マークの間隔をｌとすれば、Ｘ方向
の寸法の相違Δ_lxは Δ_lx＝ΔX_A−ΔX_B 位置ずれは、 Ｘ方向がΔX＝１／２（ΔX_A＋ΔX_B） Ｙ方向がΔY＝１／２（ΔY_A＋ΔY_B） θ方向がΔθ＝１／２（ΔY_A−ΔY_B） となる。

寸法の誤差が、Ｘ、Ｙ方向同一で、露光領域内
で均一とすれば前記Δ_lxの値に基いて、寸法補償
を行なえばよい。

またＸ、Ｙ方向または露光領域内で寸法の誤差
が変わる場合には、例えば第１２図〜第１４図の
ごときマーク配置により、各マーク間での位置ず
れ分布を調べることにより、重ね合わせ誤差が最
小となるよう、寸法および歪の補償を行なえばよ
いことは自明である。

さらに、第９図では前記のごとく原図基板ステ
ージ２９と被露光物ステージ４９に駆動系を配分
したが第５図の説明において既述したように、原
図基板２８、等倍または縮小投影レンズ３２、被
露光物３３相互の距離関係調整ができるよう駆動
系をこれら３者に配分すればよいことは明らかで
ある。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、レンズ
投影露光において、被露光物上の既形成パタンと
露光する原図パタンの位置合わせと同時に、両者
の寸法の相違および形状歪を補償することができ
るので、露光領域内全体を見る時の既形成パタン
と露光原図パタンの重ね合わせ精度を向上させる
ことができる。

したがつて、 集積回路作成時の各層の原図基板寸法誤差
や、同層における多数のワーキング原図基板間
の寸法ばらつきを補償できるほか、 工場等において多数の露光装置を併用する場
合の互換性を大幅に向上させることができる。

別種の露光装置たとえば電子ビーム露光装
置、Ｘ線露光装置、反射投影光露光装置、密着
型光露光装置等と併用した集積回路作成プロセ
スいわゆるハイブリツド露光に適用できる。

温度変化に基く、原図基板や被露光物の寸法
変化に対応できる。

装置の温度制御を厳しくしなくても、投影倍
率を所定の値にいつでも調整できる。

熱処理やエツチング等により、被露光物が変
形し寸法が変化しても対応可能である。

等、数々の利点がある。

このため、従来と露光パタンの解像性が同じ投
影レンズや露光光学系を用いても、集積回路設計
の重ね合わせマージンを小さくすることができる
ため、集積度および製品歩留りを大幅に上げるこ
とが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のレンズ投影露光方式の概念図、
第２図は別の従来のレンズ投影露光方式の概念
図、第３図は原図基板と被露光物の重ね合わせに
関する説明図、第４図は原図基板と被露光物重ね
合わせ不可能の状態図、第５図は本発明の原理説
明図、第６図〜第８図はそれぞれ原図基板投影像
と既形成パタンとの寸法差、形状歪を示す説明
図、第９図は本発明の実施例の概念図、第１０図
は原図パタンと既形成パタンとの相対位置検出方
式の別の実施例の概念図、第１１図〜第１４図は
それぞれパタン寸法差、形状歪を検出するための
検出位置の例を示す説明図、第１５図は位置ず
れ、寸法、形状誤差算出の説明図である。 １……原図基板、２……被露光物、３……被露
光物移動台、４……被露光物移動台位置決め装
置、５……位置決め指令回路、６……位置検出
器、７……演算器、８……等倍または縮小投影レ
ンズ、９……原図基板移動台、１０……原図基板
移動台位置決め装置、１１……露光指令回路、１
２……露光光源、１３……原図基板、１４……位
置検出器、１５……位置決め指令回路、１６……
位置決め装置、１７……被露光物、１８……移動
台、１９……露光指令回路、２０……露光光源、
２１……等倍または縮小投影レンズ、２２……原
図基板、２３……原図パタン、２４……等倍また
は縮小投影レンズ、２５……被露光物、２６……
等倍または縮小投影像、２７……既形成パタン、
２８……原図基板、２９……原図基板ステージ、
３０……主光線束、３１……原図パタン、３２…
…等倍または縮小投影レンズ、３３……被露光
物、３４，３５……相対位置検出装置、３６……
既形成パタン、３７〜４８……反射鏡、４９……
被露光物ステージ、５０……移動ステージ、５１
……演算器、５２……原図基板ステージ駆動回
路、５３……被露光物ステージ駆動回路、５４…
…露光指令回路、５５……露光光源、５６，５７
……既形成パタンマーク、５８，５９……原図パ
タンマーク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 原図基板上のパタンを投影レンズを介して、
   感光剤を塗布した被露光物上に露光、転写するレ
   ンズ投影露光方法において、原図基板上の原図パ
   タンと被露光物上の既形成パタンとの対応寸法の
   相違及び／又はパタンの相対形状歪を、原図基板
   および被露光物を装置に装着した状態で検出し、
   該検出結果に基いて、原図基板、投影レンズ、被
   露光物間の相互間隔及び／又は相対傾斜角を調整
   して、該原図パタンの投影露光像を対応する被露
   光物上の既形成パタンに所期の関係で、重なり得
   る寸法、形状に補正し、然る後に、原図基板と被
   露光物とのパタン面内おける位置合わせを行なつ
   て、原図パタンと被露光物上の既形成パタンを投
   影レンズを介して重ね合わせ、該原図パタンを露
   光、転写することを特徴とするレンズ投影露光方
   法。 ２ 原図基板上のパタンを投影レンズを介して感
   光剤を塗布した被露光物上に露光、転写するレン
   ズ投影露光装置において、該原図基板上の原図パ
   タンと被露光物上の既形成パタンとの相対的重ね
   合わせを行なうための位置合わせ機構と、原図基
   板上の原図パタンと被露光物上の既形成パタンと
   の対応寸法の相違及び／又はパタンの相対形状歪
   を、原図基板および被露光物を装置に装着した状
   態で検出する検出装置と、該検出装置の検出結果
   に基いて、原図基板、投影レンズ、被露光物間の
   相互間隔及び／又は相対傾斜角を調整して、該原
   因パタンの投影露光像を対応する被露光物上の既
   形成パタンに所期の関係で重なり得る寸法、形状
   に補正する機構とを具備したことを特徴とするレ
   ンズ投影露光装置。 ３ 原図基板、投影レンズ、被露光物間の相互間
   隔及び／又は相対傾斜角を調整するため、投影レ
   ンズを固定し、原図基板および被露光物の位置及
   び／又は傾斜角を調整、制御可能としたことを特
   徴とする特許請求の範囲第２項記載のレンズ投影
   露光装置。 ４ 原図基板、被露光物各々に、投影レンズとの
   間隔を調整する装置を設け、かつ原図基板に投影
   レンズに対する傾斜角を調整する装置を設けたこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のレン
   ズ投影露光装置。 ５ 原図基板、被露光物各々に、投影レンズとの
   間隔及び／又は投影レンズに対する傾斜角を調整
   する装置を設けたことを特徴とする特許請求の範
   囲第２項記載のレンズ投影露光装置。