JPH0367449A - 粒子線装置の絞り清浄化方法および装置 - Google Patents

粒子線装置の絞り清浄化方法および装置

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JPH0367449A
JPH0367449A JP1201326A JP20132689A JPH0367449A JP H0367449 A JPH0367449 A JP H0367449A JP 1201326 A JP1201326 A JP 1201326A JP 20132689 A JP20132689 A JP 20132689A JP H0367449 A JPH0367449 A JP H0367449A
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JP
Japan
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aperture
filament
particle beam
electron beam
cleaning
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JP1201326A
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English (en)
Inventor
Hideki Nakatsuka
中塚 秀樹
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AKASHI BIIMU TECHNOL KK
Original Assignee
AKASHI BIIMU TECHNOL KK
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、粒子線装置において、粒子線の開口角を制
御するために設けた絞りに、ハイドロカーボン等が付着
することによって、絞りの性能低下が起こることを防止
するための、粒子線装置の絞り清浄化方法および装置に
関する。
〔従来の技術〕
従来の粒子線装置例えば走査型電子顕微鏡において、粒
子線すなわち電子線の開口角を制御するために、電子線
の通路に絞りが設けられている。
この絞りは例えば第5図、第6図に示すように、鏡筒l
内に設けられる対物絞り板2として、厚さが数十JLm
のモリブデンの薄板3を用い、この薄板3に直径が数十
ないし数百JLmの円形の孔4を明けたものが用いられ
る。しかして絞りとなる小さい孔4に電子線を長い間照
射しつづけたときには、鏡筒1内は真空ではあるが、真
空中のハイドロカーボン等が電子線照射部分(第6図の
Aの部分)に蓄積するため、絞りである円形の孔4の形
状が変化して電子線を不正に偏向し、そのため非点収差
が発生して、得られる像の質が低下し、像のドリフトが
生ずる。特に低加速電圧の電子線の場合には著しい影響
を受けるので、頻繁に絞り板2を取り外して清浄化を行
うか、新しい絞り板と交換することが必要である。
(発明が解決しようとする課題) ところでこのような従来の絞りの清浄化方法にあっては
、汚れが付着した絞りが設けられている絞り板(モリブ
デンの板)を、電子線装置から取り外して清浄化を行わ
なければならず、その際は一回毎に絞り部分の真空を破
って、絞りの部分を装置から取り外し、清浄化が終った
絞り、または新しい絞りを電子線装置に装着し、再び真
空を引くという操作が必要であり、その間長時間測定が
中断し、また多くの手数と時間を必要とするという問題
があった。
この発明は、このような従来の課題に着目してなされた
もので、電子線装置などの真空を破ることなく、絞りを
装置内に設置したままの状態で、清浄化を行うようにし
た、絞り清浄化方法および装置を提供することをその目
的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は、上記の課題を解決するための手段として、そ
の構成を、粒子線装置の粒子線開口角を制御する絞りに
近接した位置に、清浄化用電子ビーム発生装置のフィラ
メントを装着し、該フィラメントに制御電源から電流を
流し、前記絞りの位置を前記フィラメント位置に対して
相対運動させることにより、前記絞り孔の周囲を加熱し
て、該絞りの清浄化を行うようにし、また粒子線装置の
粒子線開口角を制御する絞りに近接した位置に装着した
清浄化用電子ビーム発生装置のフィラメントと、該フィ
ラメントに電流を流して絞り孔の周囲を加熱する電源装
置と、前記絞りを前記フィラメント位置に対して相対運
動させる絞り移動装置とを有する粒子線装置の絞り清浄
化装置を形成することとした。
(作用) 次に本発明の詳細な説明する。粒子線装置の粒子線開口
角を制御する絞りに電子線を長い間照射しつづけたとき
には、真空中のハイドロカーボン等が電子線照射部分に
蓄積する。その時は絞りを粒子線装置に設置したままで
、絞りに近接した位置に装着したフィラメントに、電源
装置から電流を流して絞り孔の周囲を加熱し、絞りに付
着したハイドロカーボン等を焼き出して、絞りの清浄化
を行う。
〔実施例〕
以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の装置の構成を示す実施例の模式図で、
粒子線装置として走査電子顕微鏡10の鏡筒11に、電
子線の絞り装置12が設けられている状態を示し、絞り
装置12の先端部には、第2図に示すように絞り板保持
金具13が取付けられ、絞り板保持金具13に絞り板1
4が装着されている。そして絞り板14には絞り孔15
があけられていて、これによって絞りとしての役割を演
じ、電子線の通過する開口角を制御するようになってい
る。絞り孔15はこの場合3個設けられており、孔径の
異なる3個の絞り孔15を、目的に応じて選択して用い
るようにする。そのためそれぞれの絞り孔15を、走査
電子顕微鏡10の電子線軸である鏡筒11の中心軸16
上に位置させるように、絞り装置12を移動させる絞り
移動装置17が設けられている。この絞り移動装置17
は前後、左右に移動が可能である。一方絞り孔15に近
接する位置に、清浄化用電子ビーム発生装置20のフィ
ラメント21が装着される。
フィラメント21の位置はこの場合固定しており、鏡筒
11の中心軸16の位置に対してや\外れた位置に装着
されて、フィラメント21が絞り孔15を通過する観察
用電子ビームの邪魔にならないようにする。そしてフィ
ラメント21は高圧電源22と接続し、高圧電源22は
制御装置23と接続しており、清浄化のための電流が供
給される。
絞り孔15にハイドロカーボン等が付着したときには、
絞り移動装置17によって、その絞り孔15を清浄化用
電子ビーム発生装置20のフィラメント21の位置に移
動し、制御装置23によって高圧電源22を制御して、
フィラメント21に電流を流す。このときの電流は絞り
板の厚さや材質、絞り孔の大きさ、汚れの程度によって
電流の強さを変えるようにするが、それには制御装置2
3を制御して電流が制御され、絞り孔15にそのとき付
着している汚れを取るのに必要かつ十分な電流が流され
る。その電流によりフィラメント21から電子ビームを
放射させ、絞り孔15の周囲を加熱してハイドロカーボ
ン等を焼き出し清浄化を行う。なおこのとき鏡筒11内
は内部を真空とするため、真空ポンプによって常時ガス
が排出されるようになっているから、ハイドロカーボン
等が焼けたときに出るガスは、真空ポンプの負圧によっ
て装置の外に排出される。
このようにして絞り孔15にハイドロカーボン等が付着
したときも、その度に鏡筒11内の真空を破って絞りを
取り出す必要がなくなり、制御装置23によって制御さ
れた電流を、高圧電源22からフィラメント21に流す
だけで、絞りの清浄化が極めて速く、簡単な操作によっ
て行うことができるようになる。
また第3図は本発明の他の実施例で、清浄化用電子ビー
ム発生装置20に、フィラメント21を装着した状態で
、フィラメント移動装置25によって移動させるもので
ある。この移動位置は、一般には、フィラメント21が
鏡筒11の中心軸16上にある第1の位置21aと、フ
ィラメント21がその位置から少し離れた位置となる第
2の位置21bの2箇所である。そして走査電子顕微鏡
10によって観察を行うときは、フィラメント21は第
2の位置21bにあり、清浄化を行うときは第1の位置
21aに来るようにする。これによって観察を行うとき
は、フィラメントが観察の障害にならないようにし、清
浄化を行うときはフィラメントが絞り孔の位置に来るた
め、絞り孔15の周辺に電子ビームが放出され、加熱さ
れて清浄化が行われる。すなわちフィラメント移動装置
25により、第1および第2の位置にフィラメント21
を移動させ、走査電子顕微鏡10による観察と、絞りの
清浄化とが交互に行われる。
また第4図は本発明のさらに他の実施例で、第2図の場
合と同様に、絞り装置12の先端部に絞り板保持金具1
3が取付けられ、絞り板保持金具13に絞り板14が装
着されて、絞り板14には絞り孔15があけられており
、同一部材は第2図のものと同一符号を以って示す。こ
の場合、第2図におけるヘアピン状のフィランプント2
1の代りに、ループ型のフィラメント26が装着され、
フィラメント26の位置は、常時鏡筒11の中心軸16
上に固定されている。しかしフィラメント26の先端が
ループ状となっているため、観測中には走査電子顕微鏡
10の電子線は、フィラメント26のループの中を通過
し、フィラメント26が電子線通過の障害にならない。
このようなフィラメントは絞り孔の大きさが比較的大き
い場合にも適している。ここでフィラメント26が高圧
電源22と接続し、高圧電源22は制御装置23と接続
している点は第1図に示すものと同様で、同様の作用を
行う。
なお上記の実施例では粒子線装置の粒子線開口角を制御
する絞り孔は、絞り板保持金具13に装着された絞り板
14に、3個設けられているものについて述べたが、そ
の構造は上記のものに限定されるものではなく、絞り孔
の数も3個とは限らない。また絞り孔を清浄化するに当
って、フィラメントを移動する場合と、絞り装置を移動
する場合について、別々のものとして述べたが、両者の
一方を移動させても、両者を同時に移動させてもよく、
さらに高圧電源22は第1図に示すように単独の電源と
してもよいが、電子線装置の本来の電子線発生のための
高圧電源を用い、これを切換えて清浄化のために利用す
ることもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、粒子線装置の粒
子線開口角を制御する絞りに近接してフィラメントを装
着し、清浄化を行うとき該フィラメントに制御電源から
電流を流し、絞り孔の周囲を加熱して清浄化を行うこと
としたので、絞りの清浄化のために粒子線装置の真空を
破ったり、絞りを取付けた後に再び排気したりする操作
が不要になって、粒子線装置の保守が極めて簡単になり
、かつ短時間で行うことができ、また粒子線装置として
観察中は電子線通過の障害にならないように、絞り清浄
化用の電子ビーム発生装置を設置することができる。よ
って絞りの清浄化を行う間、測定が長い間中断すること
がなくなり作業能率が向上する。そして真空を破る機会
が少なくなるので、粒子線装置内の真空度を常に高真空
の状態に保持しうるようになり、装置の性能向上に役立
つこととなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る模式図、第2図は絞り装
置先端部の斜視図、第3図は他の実施例の作用を説明す
る模式図、第4図はさらに他の実施例の絞り装置先端部
の斜視図、第5図は従来の電子線装置の絞り装置の部分
の断面図、第6図は第5図の絞り板の拡大断面図である
。 0・・・走査電子顕微鏡(粒子線装置)5・・・絞り孔 7・・・絞り移動装置 0・・・清浄化用電子ビーム発生装置 1・・・フィラメント

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)粒子線装置の粒子線開口角を制御する絞りに近接
    した位置に、清浄化用電子ビーム発生装置のフィラメン
    トを装着し、該フィラメントに制御電源から電流を流し
    、前記絞りの位置を前記フィラメント位置に対して相対
    運動させることにより、前記絞り孔の周囲を加熱して、
    該絞りの清浄化を行うことを特徴とする粒子線装置の絞
    り清浄化方法。
  2. (2)粒子線装置の粒子線開口角を制御する絞りに近接
    した位置に装着した清浄化用電子ビーム発生装置のフィ
    ラメントと、該フィラメントに電流を流して絞り孔の周
    囲を加熱する電源装置と、前記絞りを前記フィラメント
    位置に対して相対運動させる絞り移動装置とを有するこ
    とを特徴とする粒子線装置の絞り清浄化装置。
JP1201326A 1989-08-04 1989-08-04 粒子線装置の絞り清浄化方法および装置 Pending JPH0367449A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010212583A (ja) * 2009-03-12 2010-09-24 Nuflare Technology Inc 成形アパーチャ部材のクリーニング方法及び描画方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011073363A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 積層体及びそれを用いた化粧材
JP2012232459A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Fujimori Kogyo Co Ltd ハードコートフィルム及びそれを用いたタッチパネル
JP2013152639A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Dainippon Printing Co Ltd 表示装置用前面保護板、及び表示装置
JP2013225080A (ja) * 2012-04-23 2013-10-31 Dainippon Printing Co Ltd 偏光板一体型光学積層体
JP2014178922A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Fujifilm Corp タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011073363A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 積層体及びそれを用いた化粧材
JP2012232459A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Fujimori Kogyo Co Ltd ハードコートフィルム及びそれを用いたタッチパネル
JP2013152639A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Dainippon Printing Co Ltd 表示装置用前面保護板、及び表示装置
JP2013225080A (ja) * 2012-04-23 2013-10-31 Dainippon Printing Co Ltd 偏光板一体型光学積層体
JP2014178922A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Fujifilm Corp タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010212583A (ja) * 2009-03-12 2010-09-24 Nuflare Technology Inc 成形アパーチャ部材のクリーニング方法及び描画方法

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