JPH0365214A - 気体分離法およびそれに用いるメンブレン - Google Patents
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-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は一般に透過性メンブレンによる気体分離法,よ
り詳細にはへキサ7ルオロプロバンなどの部分を含むポ
リイミド系材料を用いる上記方法に関する。
り詳細にはへキサ7ルオロプロバンなどの部分を含むポ
リイミド系材料を用いる上記方法に関する。
(背景技術)
気体混合物を分離し、または選択的に分離するために透
過性メンブレンを用いることは周知である。たとえばメ
ンブレンは馬を超臨界ガス、たとえばN,、Coおよび
CB,から分離する際; CO,および水蒸気を天然ガ
スから分離する際;ならびに空気に窒素または酸素を富
化する際に用いられる。
過性メンブレンを用いることは周知である。たとえばメ
ンブレンは馬を超臨界ガス、たとえばN,、Coおよび
CB,から分離する際; CO,および水蒸気を天然ガ
スから分離する際;ならびに空気に窒素または酸素を富
化する際に用いられる。
水素は大規模メンブレン技術などκよりアンモニア製造
プラントから回収され、合成燃料製造のためにB,を石
炭から回収することができる。
プラントから回収され、合成燃料製造のためにB,を石
炭から回収することができる。
気体分離の基本は透過度方程式を基礎とし,これは成分
量の強い相互作用のない低圧下では下記κより表わされ
る: α0−ヘ/九 式中:α。は理想分離係数と呼ばれる。
量の強い相互作用のない低圧下では下記κより表わされ
る: α0−ヘ/九 式中:α。は理想分離係数と呼ばれる。
P.はメンプレン中の成分Aの透過度である。
PBハメンブレン中の成分Bの透過度である。
高分子メンプレンによる気体成分の分離は化学的親和性
、動直径,および構造特性に応じて異なると考えられ:
ごく一般的にはゴム状ボリマーは高い拡散性および比較
的低い選択性を特色とし、一方ガラス質ボリマーは比較
的低い拡散性および比較的低い選択性を特色とすること
が知られている。しかしいずれの場合も,実験データな
しに妥当な程度の信頼限界をもって分離を予想すること
は不可能である。
、動直径,および構造特性に応じて異なると考えられ:
ごく一般的にはゴム状ボリマーは高い拡散性および比較
的低い選択性を特色とし、一方ガラス質ボリマーは比較
的低い拡散性および比較的低い選択性を特色とすること
が知られている。しかしいずれの場合も,実験データな
しに妥当な程度の信頼限界をもって分離を予想すること
は不可能である。
この分野の報文の多くは特定の系の分離係数および全7
ラツクスを最適化するメンブレンの開発を目的とする。
ラツクスを最適化するメンブレンの開発を目的とする。
米国特許第4,7 1 7,3 9 4号明細書(ヘー
ズ)rCは、アルキル化芳香族ジアミンの残基な含む芳
香族ポリイミドが各種気体の分離に有用であることが示
されている。さらにこの文献に11、他のポリイミド、
ポリカーボ不一ト、ボリクレタン、ポリスルホンおよび
ポリフェニレンオキシドが同様な目的κ有用であると報
告されている。
ズ)rCは、アルキル化芳香族ジアミンの残基な含む芳
香族ポリイミドが各種気体の分離に有用であることが示
されている。さらにこの文献に11、他のポリイミド、
ポリカーボ不一ト、ボリクレタン、ポリスルホンおよび
ポリフェニレンオキシドが同様な目的κ有用であると報
告されている。
本発明κよれば,ジアリール7ツ素含有ジアミン部分の
残基な含むt#定のポリイミドは高い7ラックス速度お
よび分離係数を共に示すという事実κより,たとえば馬
. N, 、 CH, 、Co, CO, 、Haおよ
びO,を伴う分離操作に有用であることが見出された。
残基な含むt#定のポリイミドは高い7ラックス速度お
よび分離係数を共に示すという事実κより,たとえば馬
. N, 、 CH, 、Co, CO, 、Haおよ
びO,を伴う分離操作に有用であることが見出された。
(発明の要約)
本発明は下記式の反復単位を有するポリイミドを用いる
新規方法,およびそれに用いるメンブレンに関する。
新規方法,およびそれに用いるメンブレンに関する。
式中: st’jl.約1 5 〜約2 5 0 ノ!
ItL”Cあ9;Rは下記のものよりなる群から選ばれ
る4価の芳香族残基: またはそれらの混合物であり; Zは下記より選ばれる2価の基: またはそれらの混合物であり; Xl・・・・・・・・X、は後記に定められ;またはそ
れらの混合物であり; Arは またはそれらの混合物であり; Ay’は ろ またはそれらの混合物であり: R′、Zは前記に定められたものであり;xl・・・・
・・・・・・X、 tt別個にH1炭素原子1〜611
を含むアルキル基、好ましくはメデル基;Br%Cj:
または炭素原子6〜134mを含む芳香族残基である。
ItL”Cあ9;Rは下記のものよりなる群から選ばれ
る4価の芳香族残基: またはそれらの混合物であり; Zは下記より選ばれる2価の基: またはそれらの混合物であり; Xl・・・・・・・・X、は後記に定められ;またはそ
れらの混合物であり; Arは またはそれらの混合物であり; Ay’は ろ またはそれらの混合物であり: R′、Zは前記に定められたものであり;xl・・・・
・・・・・・X、 tt別個にH1炭素原子1〜611
を含むアルキル基、好ましくはメデル基;Br%Cj:
または炭素原子6〜134mを含む芳香族残基である。
本発明による気体分離は高い透過度および分離係数を特
色とする。
色とする。
詳細な形態においては、下記の縮合物から構成される膜
状ポリイミド構造物が提供される:2.2’−ビス(3
−アミノフェニル)へキサフルオロプロバント3.3’
、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
; 2 、2’−ビス(3−アミノ7エ二ル)へキサフ
ルオロプロバント2.2’−ビス(3# 4− ジカル
ボキシフェニル)へキサフルオロプロパン・二無水物;
2 、2’−ビス(4−7ミノフエニル)へキサフル
オロプロバント2.2’−ビX(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキ?フルオロプロパン・二無水物; 2
、2’−ビス(4−7ミ/ 7 :Cニル)へキサフル
オロプロバント3 、3’、 4 、4’−ジフェニル
ナト2カルボン繊二無水物;および2−(3−アミノフ
ェニル)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロバント2.2’−ヒス(3,4−ジカルボキシ7エ
二ル)へキサフルオロプロパン・二無水物。
状ポリイミド構造物が提供される:2.2’−ビス(3
−アミノフェニル)へキサフルオロプロバント3.3’
、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
; 2 、2’−ビス(3−アミノ7エ二ル)へキサフ
ルオロプロバント2.2’−ビス(3# 4− ジカル
ボキシフェニル)へキサフルオロプロパン・二無水物;
2 、2’−ビス(4−7ミノフエニル)へキサフル
オロプロバント2.2’−ビX(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキ?フルオロプロパン・二無水物; 2
、2’−ビス(4−7ミ/ 7 :Cニル)へキサフル
オロプロバント3 、3’、 4 、4’−ジフェニル
ナト2カルボン繊二無水物;および2−(3−アミノフ
ェニル)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロバント2.2’−ヒス(3,4−ジカルボキシ7エ
二ル)へキサフルオロプロパン・二無水物。
当業者に認識されるように、′メンブレン”または1メ
ンブレン構造体”とは気体分離に用いられる構造体、た
とえば薄a、厚膜、複合構造体、非対称構造体、中空繊
維、モジュラスなどの物品を意味する。同様に、詳細な
形態に示された二無水物とジアミンから形成されるポリ
イミドが互いに、またはたとえば下記のジアミンもしく
は二無水物のうち1種または2fi以上と共重合するこ
Lはg識されるであろう。
ンブレン構造体”とは気体分離に用いられる構造体、た
とえば薄a、厚膜、複合構造体、非対称構造体、中空繊
維、モジュラスなどの物品を意味する。同様に、詳細な
形態に示された二無水物とジアミンから形成されるポリ
イミドが互いに、またはたとえば下記のジアミンもしく
は二無水物のうち1種または2fi以上と共重合するこ
Lはg識されるであろう。
s−フェニレンジアミン;
p−フェニレンジアミン:
1.3−ビス(4−アミノフェニル)フロパン:2.2
−ビス(4−アミノフェニル)フロパン;4.4′−ジ
アミノ−ジフェニルメタン:1.2−ビス(4−アミノ
フェニル)エタン:1.1−ビス(4−アミノフェニル
)エタン;2#2′−ジアミノ−ジエチルスルフィド:
1:’X(4−アミノフェニル)スル;yf)’;2.
4′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド;ビス(3−ア
ミノフェニル)スルホン;ビス(4−アミノ7エール)
スルホン;4.4′−ジアミノ−ジフェニルスルホキシ
ド:ビス(4−7ミノ7エ=ル)エーテル ビス(3−アミノフェニル)エーテル;ビス(4−アミ
ノフェニル)ジエチルシラン;ビス(4−アミノフェニ
ル)ジフェニルシラン:ビス(4−アミノフェニル)エ
ーテルホスフィンオキシト; 1:’ス(4−7ミノフエニル)7エ二ルホスフインオ
キシド: ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン: ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン: 1.2−ジアミノ−ナフタリン 1.4−ジアミノ−ナフタリン; 1.5−ジアミノ−ナフタリン; 1.6−ジアミノ−ナフタリン; 1.7−ジアミノ−ナフタリン: 1.8−シアミノ−ナフタリン: 2.3−ジアミノ−ナフタリン: 2.6−ジアミノ−ナフタリン; 1.4−ジアミノ−2−メゾルーナフタリン;1.5−
シアくノー2−メゾルーナフタリン;1.3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタリン:4.4′−ジアミノ−ビ
フェニル; 3.3′−ジアミノ−ビフェニル; 3.3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノ−ビフェニル
; 3.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノービ7工二ル
: 3.4′−ジノデル−4,4′−ジアミノービフ工二ル
; 3.3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノ−ビフェニ
ル; 4.4′−ビス(4−アミンフェノキシ)−ビフェニル
; 2.4−ジアミノ−トルエン; 2.5−ジアミノ−トルエン: 2.6−ジアミノ−トルエン; 3.5−ジアミノ−トルエン; 1.3−ジアミノ−2,5−ジクaa−ベンセン; 1.4−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;l−
メトキシ−2,4−ジアミノ−ペンセン:1.4−ジア
ミノ−2−メトキシ−5−メチル−ベンゼン; 1.4−ジアミノ−2,3,5,6−チトラメチルーベ
ンセン; 1.4−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−
ベンゼン; 1.4−ビス(1,l−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ペンセン; 1.4−ビス(4−アミンフェノキシ)−ベンセン; 0−キシレンジアミン; 鶴−キシレンジアミン; p−キシレンジアミン; 3.3′−ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′−ジア
ミノ−ベンゾフェノン;2.6−ジアミノ−ピリジン: 3,5−ジアミノ−ピリジン; 1.3−ジアミノ−アダマンタン; 3.3′−ジアミノ−1、1、1’−ジアダマンタン:
N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
; 4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2.2
−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキ
サフルオロプロパン: 2.2−ビス[4−(2−り一〇−4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕へキサフルオロプロパン; 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−フェニル−
2,2,2−トリフルオロエタン;1.1−ビス(4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1−フェニル−
2,2,2−)リフルオロエタン: 1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン−
3−イン: 1.5−ビス(3−アミノフェニル)デカフルオロペン
タン; およびそれらの混合物。
−ビス(4−アミノフェニル)フロパン;4.4′−ジ
アミノ−ジフェニルメタン:1.2−ビス(4−アミノ
フェニル)エタン:1.1−ビス(4−アミノフェニル
)エタン;2#2′−ジアミノ−ジエチルスルフィド:
1:’X(4−アミノフェニル)スル;yf)’;2.
4′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド;ビス(3−ア
ミノフェニル)スルホン;ビス(4−アミノ7エール)
スルホン;4.4′−ジアミノ−ジフェニルスルホキシ
ド:ビス(4−7ミノ7エ=ル)エーテル ビス(3−アミノフェニル)エーテル;ビス(4−アミ
ノフェニル)ジエチルシラン;ビス(4−アミノフェニ
ル)ジフェニルシラン:ビス(4−アミノフェニル)エ
ーテルホスフィンオキシト; 1:’ス(4−7ミノフエニル)7エ二ルホスフインオ
キシド: ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン: ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン: 1.2−ジアミノ−ナフタリン 1.4−ジアミノ−ナフタリン; 1.5−ジアミノ−ナフタリン; 1.6−ジアミノ−ナフタリン; 1.7−ジアミノ−ナフタリン: 1.8−シアミノ−ナフタリン: 2.3−ジアミノ−ナフタリン: 2.6−ジアミノ−ナフタリン; 1.4−ジアミノ−2−メゾルーナフタリン;1.5−
シアくノー2−メゾルーナフタリン;1.3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタリン:4.4′−ジアミノ−ビ
フェニル; 3.3′−ジアミノ−ビフェニル; 3.3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノ−ビフェニル
; 3.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノービ7工二ル
: 3.4′−ジノデル−4,4′−ジアミノービフ工二ル
; 3.3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノ−ビフェニ
ル; 4.4′−ビス(4−アミンフェノキシ)−ビフェニル
; 2.4−ジアミノ−トルエン; 2.5−ジアミノ−トルエン: 2.6−ジアミノ−トルエン; 3.5−ジアミノ−トルエン; 1.3−ジアミノ−2,5−ジクaa−ベンセン; 1.4−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;l−
メトキシ−2,4−ジアミノ−ペンセン:1.4−ジア
ミノ−2−メトキシ−5−メチル−ベンゼン; 1.4−ジアミノ−2,3,5,6−チトラメチルーベ
ンセン; 1.4−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−
ベンゼン; 1.4−ビス(1,l−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ペンセン; 1.4−ビス(4−アミンフェノキシ)−ベンセン; 0−キシレンジアミン; 鶴−キシレンジアミン; p−キシレンジアミン; 3.3′−ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′−ジア
ミノ−ベンゾフェノン;2.6−ジアミノ−ピリジン: 3,5−ジアミノ−ピリジン; 1.3−ジアミノ−アダマンタン; 3.3′−ジアミノ−1、1、1’−ジアダマンタン:
N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
; 4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2.2
−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキ
サフルオロプロパン: 2.2−ビス[4−(2−り一〇−4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕へキサフルオロプロパン; 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−フェニル−
2,2,2−トリフルオロエタン;1.1−ビス(4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1−フェニル−
2,2,2−)リフルオロエタン: 1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン−
3−イン: 1.5−ビス(3−アミノフェニル)デカフルオロペン
タン; およびそれらの混合物。
1.2,4.5−ベンセンテトラカルボン酸二無水物;
1.2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物:
1.4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
セン・二無水物: 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベン
−ビン; 1.2,4.5−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 1.2,5.6−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 1.4,5.8−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,6.7−す7タリンテトラカルボン酸二無水物
; 2.6−ジクロロナフタリン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.7−ジクロロナフタリン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸二無水物: 2.3,6.7−チトラタロaナフタリンー1.4,5
.8−テトラカルボン酸二無水物:2.2’、3.3’
−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物: 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルニ酸無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル・二無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル・二無水物: 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル・二tm水物;ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルフィド・二無水物: 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド・二無水物:4.4′−ビス(3,
4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド・
二無水物:ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スル
ホン・二無水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン・二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン・二無水物; 2 、2’、 3 、3’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物: 2 、3 、3’、 4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベ
ンゾフェノン・二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン・二無水
物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン・二無水
物; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシ7エ二ル)プロパ
ン・二無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン・二無水物: 2.2−ビスl:4−(2,3−ジカルボキシ7エ/−
+り)7エ二ル〕プロパン・二無水物;2.2−ビス[
4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)7エ二ル〕フ
ロパン・二無水物;4−(2,3−ジカルボキシフェノ
キシ)−4′−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニル−2,2−プロパン・二無水物; 2.2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル〕7c。
セン・二無水物: 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベン
−ビン; 1.2,4.5−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 1.2,5.6−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 1.4,5.8−ナフタリンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,6.7−す7タリンテトラカルボン酸二無水物
; 2.6−ジクロロナフタリン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.7−ジクロロナフタリン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸二無水物: 2.3,6.7−チトラタロaナフタリンー1.4,5
.8−テトラカルボン酸二無水物:2.2’、3.3’
−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物: 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルニ酸無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル・二無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル・二無水物: 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル・二tm水物;ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルフィド・二無水物: 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド・二無水物:4.4′−ビス(3,
4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド・
二無水物:ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スル
ホン・二無水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン・二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン・二無水物; 2 、2’、 3 、3’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物: 2 、3 、3’、 4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベ
ンゾフェノン・二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン・二無水
物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン・二無水
物; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
・二無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシ7エ二ル)プロパ
ン・二無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン・二無水物: 2.2−ビスl:4−(2,3−ジカルボキシ7エ/−
+り)7エ二ル〕プロパン・二無水物;2.2−ビス[
4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)7エ二ル〕フ
ロパン・二無水物;4−(2,3−ジカルボキシフェノ
キシ)−4′−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニル−2,2−プロパン・二無水物; 2.2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル〕7c。
パン・二無水物;
2.3,4.5−チオ7エンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,4.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物; 1.8,9.10−7エナントレンテトラカルボン酸二
無水物; 3.4,9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物
; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパン・二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン・二無水物
; 2.2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)7工品ル〕へキサフルオロプロパン・二無水物; 1.1−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル)−1−フェニル−2,2゜2−トリフルオ
ロエタン−二無水物: および 4.4′−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル・
二無水物。
; 2.3,4.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
; 2.3,5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物; 1.8,9.10−7エナントレンテトラカルボン酸二
無水物; 3.4,9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物
; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサ
フルオロプロパン・二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン・二無水物
; 2.2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)7工品ル〕へキサフルオロプロパン・二無水物; 1.1−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル)−1−フェニル−2,2゜2−トリフルオ
ロエタン−二無水物: および 4.4′−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル・
二無水物。
これらを用いるこLrcよって本発明方法およびメンブ
レンの基本的かつ新規な特性が変化することはない。
レンの基本的かつ新規な特性が変化することはない。
(詳細な説明)
種々の二無水物およびジアミンを用いてヘキサフルオロ
プロパ/部分を含む一連のポリイミドが合成された。一
般にこの方法はジアミンと二無水物な重縮合したのち得
られたポリアミン酸を脱水してポリイミドを製造する。
プロパ/部分を含む一連のポリイミドが合成された。一
般にこの方法はジアミンと二無水物な重縮合したのち得
られたポリアミン酸を脱水してポリイミドを製造する。
より詳細には等モル量の二無水物およびジアミンを出願
中の米国特許出願第217,929号明細書(1988
年7月12日出臘、R,グオラら)□記載の方法に従っ
て用いる。その記載をここに参考として引用する。
中の米国特許出願第217,929号明細書(1988
年7月12日出臘、R,グオラら)□記載の方法に従っ
て用いる。その記載をここに参考として引用する。
簡略化のため特定の用r!%測定法および処理法を挙げ
るが、これらは限定のためのものでt工ない。
るが、これらは限定のためのものでt工ない。
q#に指示しrxい限り、用語は全体として下記に従っ
て用いられる。
て用いられる。
内部粘度
ポリマー試料の内部粘度はポリマー溶液および溶剤の粘
度を測定することにより求められ、内部粘度(IV))
8次式から算出された。
度を測定することにより求められ、内部粘度(IV))
8次式から算出された。
式中、Cは溶液IQQat当た9のポリマーの1数で表
わした#に度である。すべての場合、内部粘度はジメチ
ルアセトアミド100d中0.5Fのポリマーまたは反
応混合物を用いて測定された。
わした#に度である。すべての場合、内部粘度はジメチ
ルアセトアミド100d中0.5Fのポリマーまたは反
応混合物を用いて測定された。
分子量データ
ポリマーの分子tは重tsF−均分子量、Mw、または
数平均分子量1M九、のいずれもポリマーの希溶液□つ
いて実施されたゲル透過クロマトグラフィー(GPC)
により測定された。用いた装置は一般にプログラム可能
rx自動サンプラー、真空ポンプ、クロマトグラフィー
カラム、および示差屈折計−付随するン7トウエアを含
むデータ処理システムに接続−からなる。このシステム
は現在入手しうる複数の基準液を用いて検量される。こ
うして検量されたシステムを用いて、後記具体例により
製造されたポリマーにつき重量平均分子量、M、、数平
均分子量、MtL、 および多分散度、Afw /K
n 、を求めた。
数平均分子量1M九、のいずれもポリマーの希溶液□つ
いて実施されたゲル透過クロマトグラフィー(GPC)
により測定された。用いた装置は一般にプログラム可能
rx自動サンプラー、真空ポンプ、クロマトグラフィー
カラム、および示差屈折計−付随するン7トウエアを含
むデータ処理システムに接続−からなる。このシステム
は現在入手しうる複数の基準液を用いて検量される。こ
うして検量されたシステムを用いて、後記具体例により
製造されたポリマーにつき重量平均分子量、M、、数平
均分子量、MtL、 および多分散度、Afw /K
n 、を求めた。
ガラス転移WA度
ガラス転移温度(T))は差動走査熱量針により測定さ
れた。この方法□よるガラス転移温度は一般にポリマー
の加熱曲線のほぼ第1変曲点における接線の交点である
と定義される。
れた。この方法□よるガラス転移温度は一般にポリマー
の加熱曲線のほぼ第1変曲点における接線の交点である
と定義される。
GA
熱重量分析は20℃/分で空気速度80cc/分により
行われた。ここに挙げるTGA値は5%損失に関するも
のである。すなわちこの方法により5%の減量が起こっ
た温度を112表に報告する。
行われた。ここに挙げるTGA値は5%損失に関するも
のである。すなわちこの方法により5%の減量が起こっ
た温度を112表に報告する。
反応体
後記の例に従って用いる七ノマーは好ましくは実質的に
分析上純粋であり;たとえば1エレクトロニクス”用二
無水物が好ましい。この材料は二無水物9&5%以上、
対応する一無水物−ジ酸1.5%以下、および対応する
テトラ酸0.1%以下を含有する。ここで用いる2、2
′−ビス(3,4−ジカルボキシ7エ二ル)へキサフル
オロプロパン・二無水物(6FDA)+1へキスト・セ
ラニーズコーポレーション(R,%1*202 206
Nor*h*Somav曽ijLm會11aw Je
rsey 08876 )から入手される。エレクト
ロニクス用二無水物はナトリウムl Oppm以下、鉄
5 ’f)’I)%以下、コバルト2 p’lJm以下
、およびマンガン2 pp惰以下を含有し。
分析上純粋であり;たとえば1エレクトロニクス”用二
無水物が好ましい。この材料は二無水物9&5%以上、
対応する一無水物−ジ酸1.5%以下、および対応する
テトラ酸0.1%以下を含有する。ここで用いる2、2
′−ビス(3,4−ジカルボキシ7エ二ル)へキサフル
オロプロパン・二無水物(6FDA)+1へキスト・セ
ラニーズコーポレーション(R,%1*202 206
Nor*h*Somav曽ijLm會11aw Je
rsey 08876 )から入手される。エレクト
ロニクス用二無水物はナトリウムl Oppm以下、鉄
5 ’f)’I)%以下、コバルト2 p’lJm以下
、およびマンガン2 pp惰以下を含有し。
246.5℃の融点を有する。
本発明により用いられるジアミンも好ましくは実質的に
分析上純粋である。たとえば好ましい純度の後記ジアミ
ンを得るためには、入手された純度または台底された純
度の2.2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパンまた◆工2.2′−ビス(3−アミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパンを水性塩酸に溶解し、活
性炭で処理し、30分間撹拌し、P遇する。着色不純物
を除去するために必要なだけこの処理を反復する。反復
濾過後に得られた水溶液を、生じるスラリーのpHが約
9になるまで水酸化アンモニウムで処理する。次いでこ
のジアミンスラリーをF遇し、脱イオン水または蒸留水
で洗浄して濾過ケークとなし、これを次いでメタノール
に再溶解し、5ミクロy以下のフィルター□より澄明化
する。次いでジアミンをメタノール溶液から蒸留水また
は脱イオン水の添加により沈殿させ、同様に水洗する。
分析上純粋である。たとえば好ましい純度の後記ジアミ
ンを得るためには、入手された純度または台底された純
度の2.2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパンまた◆工2.2′−ビス(3−アミノフェ
ニル)へキサフルオロプロパンを水性塩酸に溶解し、活
性炭で処理し、30分間撹拌し、P遇する。着色不純物
を除去するために必要なだけこの処理を反復する。反復
濾過後に得られた水溶液を、生じるスラリーのpHが約
9になるまで水酸化アンモニウムで処理する。次いでこ
のジアミンスラリーをF遇し、脱イオン水または蒸留水
で洗浄して濾過ケークとなし、これを次いでメタノール
に再溶解し、5ミクロy以下のフィルター□より澄明化
する。次いでジアミンをメタノール溶液から蒸留水また
は脱イオン水の添加により沈殿させ、同様に水洗する。
この温調ジアミンを真空オープン内で一夜乾燥する。こ
れはl Oppm以下の鉄、ナトリウムおよびクロリド
イオンを含む。ジアミンに関する情報はさらに出願中の
米国特許出願第105,857号明@@(1987手l
O月7日出願)に記載されており、その記載をここに参
考として引用する。
れはl Oppm以下の鉄、ナトリウムおよびクロリド
イオンを含む。ジアミンに関する情報はさらに出願中の
米国特許出願第105,857号明@@(1987手l
O月7日出願)に記載されており、その記載をここに参
考として引用する。
例 I−BTDAおよび3.3′ジアミン、のポリイ
ミド この例は2,2′−ビス(3−アミノフェニル)へキサ
フルオロプロパンおヨヒ3 、3’、 4 、4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、BTDA、の
ポリマーに関する。三ロフラスコに攪拌機、冷却器、氷
水浴、温度計および窒素雰囲気を設けた。このフラスコ
に36.74 ts (0,11sol)の2.2′−
ビス(3−アミノフェニル)へキサフルオロプロパンを
2002の新たに蒸留したN−メチルピロリドン(NM
P)と共に装填した。
ミド この例は2,2′−ビス(3−アミノフェニル)へキサ
フルオロプロパンおヨヒ3 、3’、 4 、4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、BTDA、の
ポリマーに関する。三ロフラスコに攪拌機、冷却器、氷
水浴、温度計および窒素雰囲気を設けた。このフラスコ
に36.74 ts (0,11sol)の2.2′−
ビス(3−アミノフェニル)へキサフルオロプロパンを
2002の新たに蒸留したN−メチルピロリドン(NM
P)と共に装填した。
混合物を室温で数分間攪拌したのち、透明なわずかに黄
色の溶液を得た。次いでこの溶液を室温(約15℃)以
下に冷却し、EDTA35.981tを少量づつ等間隔
で約30分間にわたって添加した。純度98.5%とし
て、市販の高純度ポリマー用BTD、435.981f
は0.11モルとなるであろう。無水物の添加は溶液が
15〜25℃に維持されるように反応温合物を緩和に攪
拌しながら慎重に行わなければならない。BTDA添加
後にモノマーを入れたビーカーをさらに212.11の
NMPで洗浄し、NMPおよび残留モノマーを反応混合
物に添加して、不揮発分濃度20%の溶液を得た。約2
5〜30℃の均一々温度に維持された混合物を約20時
間緩和に攪拌し、生成したポリアミン酸の試料を粘度分
析用として採取した。
色の溶液を得た。次いでこの溶液を室温(約15℃)以
下に冷却し、EDTA35.981tを少量づつ等間隔
で約30分間にわたって添加した。純度98.5%とし
て、市販の高純度ポリマー用BTD、435.981f
は0.11モルとなるであろう。無水物の添加は溶液が
15〜25℃に維持されるように反応温合物を緩和に攪
拌しながら慎重に行わなければならない。BTDA添加
後にモノマーを入れたビーカーをさらに212.11の
NMPで洗浄し、NMPおよび残留モノマーを反応混合
物に添加して、不揮発分濃度20%の溶液を得た。約2
5〜30℃の均一々温度に維持された混合物を約20時
間緩和に攪拌し、生成したポリアミン酸の試料を粘度分
析用として採取した。
重合した混合物に8.58Pのβ−ピコリンを添加し、
十分に分散させた。β−ピコリンののち85.80fの
無水酢酸を滴加し、混合物をさらに24時間(同様に2
5〜30℃の均一な温度で)緩和に攪拌して環化を完結
した。上記の処理および以下の処理はすべて乾燥音素雰
囲気で行われ、反応体はすべて、目的外の作用を避ける
ために少量ずつ添加された。また、すべての工程におい
て反応混合物の温度を適度に均一に維持することが1:
g!!である。たとえば環化に際してすら温度が局部的
に上昇すると反応混合物はゲル化し、適切なポリマーを
生成しないであろう。
十分に分散させた。β−ピコリンののち85.80fの
無水酢酸を滴加し、混合物をさらに24時間(同様に2
5〜30℃の均一な温度で)緩和に攪拌して環化を完結
した。上記の処理および以下の処理はすべて乾燥音素雰
囲気で行われ、反応体はすべて、目的外の作用を避ける
ために少量ずつ添加された。また、すべての工程におい
て反応混合物の温度を適度に均一に維持することが1:
g!!である。たとえば環化に際してすら温度が局部的
に上昇すると反応混合物はゲル化し、適切なポリマーを
生成しないであろう。
上記により生成したポリマーをメタノール中の溶液から
反応液へのメタノールの添加、すたわち逆沈殿により、
ポリマー溶液5009毎に2000−のメタノールを用
いて沈殿させた。ポリマー(乾燥後)およびポリアミン
酸の特性を第1表に示す。
反応液へのメタノールの添加、すたわち逆沈殿により、
ポリマー溶液5009毎に2000−のメタノールを用
いて沈殿させた。ポリマー(乾燥後)およびポリアミン
酸の特性を第1表に示す。
例 1fi −B P D Aおよび4,4′−ジア
ミンのポリイミド 例Iの方法に従って下記の材料を用いた:334t
2,2’−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロパン 295.68g′ BPDA(3,3’、4.4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物) 2518LOOt 新たに蒸留したNMP797t
無水酢酸 79.70t /−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す:20%濃度に
おける重合時間二 20時間重重合度=
20〜25℃環化時間=
21時間環化温度: 2
0〜25℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第1表に示す。
ミンのポリイミド 例Iの方法に従って下記の材料を用いた:334t
2,2’−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロパン 295.68g′ BPDA(3,3’、4.4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物) 2518LOOt 新たに蒸留したNMP797t
無水酢酸 79.70t /−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す:20%濃度に
おける重合時間二 20時間重重合度=
20〜25℃環化時間=
21時間環化温度: 2
0〜25℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第1表に示す。
例 ■−6FDA/3,3’−ジアミンのポリイミド
例Iの方法に従って下記の材料を用いた=267.20
? 2.2’−ビス(3−アミノフェニル)へキサフ
ルオロプロパン 355.20t 6FDAC2,2’−ビス(3,4
−ジカA/ボキシフエニル)へキサ フルオロプロパン・二無水物) 2490? 新たに蒸留したNMP782.00?
無水酢酸 78.209 71−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す:20%濃度に
おける重合時間= 16時間重重合度:
20〜30℃環化時間:
20時間環化温度= 2
5〜30℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第0表に示す。
? 2.2’−ビス(3−アミノフェニル)へキサフ
ルオロプロパン 355.20t 6FDAC2,2’−ビス(3,4
−ジカA/ボキシフエニル)へキサ フルオロプロパン・二無水物) 2490? 新たに蒸留したNMP782.00?
無水酢酸 78.209 71−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す:20%濃度に
おける重合時間= 16時間重重合度:
20〜30℃環化時間:
20時間環化温度= 2
5〜30℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第0表に示す。
例 IV −6FDAI4 、4’−ジアミンのポリ
イミド 例Iの方法に従って下記の材料を用いた二133.6F
2.2’−ビス(4−アミノ7エ二ル)へキサフ
ルオロプロパン 177.60f 6FDA 1418.00 ? 新たに蒸留したNMP393.
50 f 無水酢酸 39.35 t β−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す;20%濃度に
おける重合時間= 19時間重重合度:
20〜25℃環化時間=
20時間環化温度: 2
5〜30℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第■表に示す。
イミド 例Iの方法に従って下記の材料を用いた二133.6F
2.2’−ビス(4−アミノ7エ二ル)へキサフ
ルオロプロパン 177.60f 6FDA 1418.00 ? 新たに蒸留したNMP393.
50 f 無水酢酸 39.35 t β−ピコリン 反応時間および温度(約)を下記に示す;20%濃度に
おける重合時間= 19時間重重合度:
20〜25℃環化時間=
20時間環化温度: 2
5〜30℃ポリマーおよび中間体ポリアミン酸に関する
データを第■表に示す。
例 V−6FDA/3.4−ジアミンのポリイミド
この例は2−(3−アミノフェニル)−2−(4−7ミ
ノフエニル)へキサフルオロプロパンおよび2,2′−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ
プロパン・二無水物のポリマーに関する。このポリマー
およびその成分については出願中の米国粋許出願第25
2,428号明細書(1988年9月30日出願、R,
グオーラら)に記載されており、その記載をここに参考
として引用する。上記ジアミンは2−(4−メチルフェ
ニル)へキサフルオロプロパン−2−オールおよびベン
ゼンを原料として用いて下記に従って6エ程法により製
造される: a)2−(4−メチルフェニル)−2−フェニル−ヘキ
サフルオロプロパン 129Ofの2−(4−メチルフェニル)へキサフルオ
ロプロパン−2−オールおよび780tのベンゼンを5
1の鋼製オートクレーブに装入し、15001の無水7
ツ化水素を密閉オートクレーブに送入した。反応混合物
を170〜175℃に攪拌下で64時間加熱した。反応
終了後、フッ化水素ガスを80℃で逸出させ、次いで液
体生成物を水で2回洗浄し、塩化カルシウムで乾燥させ
、分留した。沸点135−136℃/L4shar。
ノフエニル)へキサフルオロプロパンおよび2,2′−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ
プロパン・二無水物のポリマーに関する。このポリマー
およびその成分については出願中の米国粋許出願第25
2,428号明細書(1988年9月30日出願、R,
グオーラら)に記載されており、その記載をここに参考
として引用する。上記ジアミンは2−(4−メチルフェ
ニル)へキサフルオロプロパン−2−オールおよびベン
ゼンを原料として用いて下記に従って6エ程法により製
造される: a)2−(4−メチルフェニル)−2−フェニル−ヘキ
サフルオロプロパン 129Ofの2−(4−メチルフェニル)へキサフルオ
ロプロパン−2−オールおよび780tのベンゼンを5
1の鋼製オートクレーブに装入し、15001の無水7
ツ化水素を密閉オートクレーブに送入した。反応混合物
を170〜175℃に攪拌下で64時間加熱した。反応
終了後、フッ化水素ガスを80℃で逸出させ、次いで液
体生成物を水で2回洗浄し、塩化カルシウムで乾燥させ
、分留した。沸点135−136℃/L4shar。
収量:1424f(89,5%)。
6)2−(4−カルボキシフェニル)−2−7二二ルー
へキサフルオロプロパン 298fの2−(4−メチルフェニル)−2−フェニル
−へキサフルオロプロパン−工程(a)で製造したもの
−2,49tの酢酸コバル) (II)4水化物、2.
45fの酢酸マンガン(■)4水化物、および0.41
tの臭化水素(氷酢酸中のlO%EEr溶液4.12に
相当)を11のガラス製オートクレーブに装入した。混
合物は酸素圧6.5baデにおいて発熱反応下で約18
0℃にまで加熱され、170〜180℃で1時間放置さ
れた。次いで200tの酢酸が反応液から留出し、約1
00℃に冷却された。275tの水をフラスコ内に残さ
れた溶液(約5oof)に徐々に添加した。晶出したカ
ルボン酸を吸引濾過し、75−ずつの50%酢酸で2回
、および85−ずつの水で5回洗浄し、60℃/60惰
haデで乾燥させた。
へキサフルオロプロパン 298fの2−(4−メチルフェニル)−2−フェニル
−へキサフルオロプロパン−工程(a)で製造したもの
−2,49tの酢酸コバル) (II)4水化物、2.
45fの酢酸マンガン(■)4水化物、および0.41
tの臭化水素(氷酢酸中のlO%EEr溶液4.12に
相当)を11のガラス製オートクレーブに装入した。混
合物は酸素圧6.5baデにおいて発熱反応下で約18
0℃にまで加熱され、170〜180℃で1時間放置さ
れた。次いで200tの酢酸が反応液から留出し、約1
00℃に冷却された。275tの水をフラスコ内に残さ
れた溶液(約5oof)に徐々に添加した。晶出したカ
ルボン酸を吸引濾過し、75−ずつの50%酢酸で2回
、および85−ずつの水で5回洗浄し、60℃/60惰
haデで乾燥させた。
収量:311F(95,5%)。
c)2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニト
ロフェニル)へキサフルオロプロパン261tの2−(
4−カルボキシフェニル)−2−フェニルヘキサフルオ
ロプロパンーエ1i(6)で製造されたもの−を500
−の塩化メチレンに懸濁し、1881Ltの濃硫酸、7
5−の濃硝酸を一5〜θ℃で滴加した。反応混合物をこ
の温度でさらに1時間攪拌し、次いで200(lの氷に
注いだ。固体を戸別し、すすぎ水が、H3〜4となるま
で水洗した。粗生成物208f、融点180〜185℃
。P液の処理:有機相を分離し、2回水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、蒸発させた。粘稠な黄色の残渣を
トルエンから2回再結晶し、次いで融点180〜184
℃の粗生成物をさらにSat得た。
ロフェニル)へキサフルオロプロパン261tの2−(
4−カルボキシフェニル)−2−フェニルヘキサフルオ
ロプロパンーエ1i(6)で製造されたもの−を500
−の塩化メチレンに懸濁し、1881Ltの濃硫酸、7
5−の濃硝酸を一5〜θ℃で滴加した。反応混合物をこ
の温度でさらに1時間攪拌し、次いで200(lの氷に
注いだ。固体を戸別し、すすぎ水が、H3〜4となるま
で水洗した。粗生成物208f、融点180〜185℃
。P液の処理:有機相を分離し、2回水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、蒸発させた。粘稠な黄色の残渣を
トルエンから2回再結晶し、次いで融点180〜184
℃の粗生成物をさらにSat得た。
粗生成物を合わせて(238?)、トルエンから2回再
結晶し、次いで白色固体186t(63%)を得た。こ
れはガスクロマトグラフィーにより測定して99.2%
の純度を示した。
結晶し、次いで白色固体186t(63%)を得た。こ
れはガスクロマトグラフィーにより測定して99.2%
の純度を示した。
d)2−(4−カルバモイルフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)へキサフルオロプロパンの製造 198tの2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3
−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン−工程(6
)で製造したもの−を700−の濃硫酸および350−
のオレウム(65%)の混合物に装入した。200fの
スルファミン酸を添加したのち、反応混合物を90〜9
5℃に3時間加熱した。約20℃に冷却した懸濁液を約
6#の氷に一定の攪拌下に注いだ。次いで沈殿した固体
を戸別し、中性にkるまで水洗した。
トロフェニル)へキサフルオロプロパンの製造 198tの2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3
−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン−工程(6
)で製造したもの−を700−の濃硫酸および350−
のオレウム(65%)の混合物に装入した。200fの
スルファミン酸を添加したのち、反応混合物を90〜9
5℃に3時間加熱した。約20℃に冷却した懸濁液を約
6#の氷に一定の攪拌下に注いだ。次いで沈殿した固体
を戸別し、中性にkるまで水洗した。
収量:白色固体191f(97%)。融点147〜14
8℃。
8℃。
*)4.4’−ビス(2−(3−ニトロフェニル)へキ
サフルオロイソプロピル〕アゾベンゼンの製157Fの
2−(4−カルバモイルフェニル)−2−(3−ニトロ
フェニル)へキサフルオロプロパン−工程(d)で製造
したもの−を0〜5℃で900−の13%次亜塩素酸す
) IJウム水溶液、150−の50%水酸化ナトリウ
ム溶液、および5−のトリカプリルメチルアンモニウム
クロリドの混合物に装入した。この懸濁液を24時間攪
拌し、その間反応温度は50℃を越えるべきでない。
サフルオロイソプロピル〕アゾベンゼンの製157Fの
2−(4−カルバモイルフェニル)−2−(3−ニトロ
フェニル)へキサフルオロプロパン−工程(d)で製造
したもの−を0〜5℃で900−の13%次亜塩素酸す
) IJウム水溶液、150−の50%水酸化ナトリウ
ム溶液、および5−のトリカプリルメチルアンモニウム
クロリドの混合物に装入した。この懸濁液を24時間攪
拌し、その間反応温度は50℃を越えるべきでない。
反応混合物を希酢酸で中和し、固体を戸別し、水洗した
。乾燥した粗生成物(1499)を再結晶したのち、融
点185〜187℃の固体619’を得た。母液を処理
してさらに142の生成物を得た。
。乾燥した粗生成物(1499)を再結晶したのち、融
点185〜187℃の固体619’を得た。母液を処理
してさらに142の生成物を得た。
収量: 75tC52%)。
/)2−(3−アミノフェニル)−2−(4−7ミノフ
エニル)へキサフルオロプロパンの製造74.2rの4
,4′−ビス(2−(3−ニトロフェニル)へキサフル
オロイソプロピル〕アゾベンゼンー工程(#)で製造し
たもの−を600−の酢酸工fルに溶解し、1ノの5%
Pd/Cを添加し、混合物を水素(1006ar)rc
よりオートクレーブ内で、まず25℃において還元し、
反応がおさまった時点で100℃において処理した。触
媒を戸別したのち、溶剤を除去した。残渣を希塩ffK
装入し、活性炭で処理した。これにより得られた無色F
液を半濃縮した( half−concentrate
d)アンモニア溶液で中和した。分離した沈殿を炉別し
、水洗し、一定重量になるまで乾燥させた。収量:白色
固体48y12%)。融点142−143℃。
エニル)へキサフルオロプロパンの製造74.2rの4
,4′−ビス(2−(3−ニトロフェニル)へキサフル
オロイソプロピル〕アゾベンゼンー工程(#)で製造し
たもの−を600−の酢酸工fルに溶解し、1ノの5%
Pd/Cを添加し、混合物を水素(1006ar)rc
よりオートクレーブ内で、まず25℃において還元し、
反応がおさまった時点で100℃において処理した。触
媒を戸別したのち、溶剤を除去した。残渣を希塩ffK
装入し、活性炭で処理した。これにより得られた無色F
液を半濃縮した( half−concentrate
d)アンモニア溶液で中和した。分離した沈殿を炉別し
、水洗し、一定重量になるまで乾燥させた。収量:白色
固体48y12%)。融点142−143℃。
ポリマーを製造するためrcは、三ロクラス′Sに冷却
器、温度計、撹拌機を取付け、窒素雰囲気下に6.68
P C0,02mol )の2−(3−アミノフェニ
ル)−z−(4−アミノフェニル)へ”Ptフルオロプ
ロパンを20Fの蒸留N−メチルピロリドン(NMP)
と共に装填した。混合物を透明な溶液が得られるまで撹
拌した。この透明な淡黄色溶液にas sip (0,
02%ol )の2,2′−ビス(3゜4’−ジカルボ
キシフェニル)へキサフルオロプロパン・二無水物(6
FDA)を撹拌下に添加した。
器、温度計、撹拌機を取付け、窒素雰囲気下に6.68
P C0,02mol )の2−(3−アミノフェニ
ル)−z−(4−アミノフェニル)へ”Ptフルオロプ
ロパンを20Fの蒸留N−メチルピロリドン(NMP)
と共に装填した。混合物を透明な溶液が得られるまで撹
拌した。この透明な淡黄色溶液にas sip (0,
02%ol )の2,2′−ビス(3゜4’−ジカルボ
キシフェニル)へキサフルオロプロパン・二無水物(6
FDA)を撹拌下に添加した。
次いで423gのNMPを反応混合物に添加し、室温で
約20時間撹拌を続げた。得られたポリアミド酸R(ポ
リアミン酸)は第■表に示すように25℃で測定して0
.4 z dl/yの内部粘度を有していた。
約20時間撹拌を続げた。得られたポリアミド酸R(ポ
リアミン酸)は第■表に示すように25℃で測定して0
.4 z dl/yの内部粘度を有していた。
このポリアミド酸を下記によりイミド化した:15.5
5’の無水酢酸および1.6Fのβ−ピコリンをポリア
ミド酸溶液に添加した。反応混合物を室温で約20時間
撹拌し、得られたポリイミドをメタノール中で沈殿させ
、新鮮なメタノールで洗浄し、真空オープン内で125
℃において4時間乾燥させた。このポリマー$I NM
P、テトラヒドロ7うy、7 セ) ン、 MEN、ジ
グライA (diglywsa)、DMAc、クロロホ
ルムおよびBLOなとの溶剤に可溶であることが見出さ
れた。
5’の無水酢酸および1.6Fのβ−ピコリンをポリア
ミド酸溶液に添加した。反応混合物を室温で約20時間
撹拌し、得られたポリイミドをメタノール中で沈殿させ
、新鮮なメタノールで洗浄し、真空オープン内で125
℃において4時間乾燥させた。このポリマー$I NM
P、テトラヒドロ7うy、7 セ) ン、 MEN、ジ
グライA (diglywsa)、DMAc、クロロホ
ルムおよびBLOなとの溶剤に可溶であることが見出さ
れた。
このポリマー糸は下記第1表匝示す特性を備えていた。
メンブレンの製造
一般に上記ポリマーのメンブレンを方法AまたはBによ
り溶液キャストして、透過度試験用のメンブレンを製造
した。
り溶液キャストして、透過度試験用のメンブレンを製造
した。
方法A
γ−ブチロラクトン:プロピレングリコールメチルエー
テルアセテ−)(5G: 50重量比)中の10〜25
%ポリマー溶液(重量に基づく)をガラス板上に25℃
で、あらかじめ定められたナイフギャップにおいてキャ
ストした。これらのフィルムをガラス板上において50
℃で16時間、真空下に150℃で24時間、そして真
空下に260℃で24時間乾燥させた。これらのフィル
ムを水浴中でガラス板から剥離した。
テルアセテ−)(5G: 50重量比)中の10〜25
%ポリマー溶液(重量に基づく)をガラス板上に25℃
で、あらかじめ定められたナイフギャップにおいてキャ
ストした。これらのフィルムをガラス板上において50
℃で16時間、真空下に150℃で24時間、そして真
空下に260℃で24時間乾燥させた。これらのフィル
ムを水浴中でガラス板から剥離した。
方法B
塩化メチレン中5〜15%のポリマー溶液(重量に基づ
く)を塩化メチレン飽和雰囲気を含むグローブバッグ内
でガラス板上の金属リングの内側に注入した。4時間後
にガラス板をグローブバッグから取出し、水浴に浸漬し
てフィルムを浮上させた。フィルムを真空オーブン内に
おいて周囲温度で12時間、50℃で24時間、そして
200℃で18時間乾燥させた。
く)を塩化メチレン飽和雰囲気を含むグローブバッグ内
でガラス板上の金属リングの内側に注入した。4時間後
にガラス板をグローブバッグから取出し、水浴に浸漬し
てフィルムを浮上させた。フィルムを真空オーブン内に
おいて周囲温度で12時間、50℃で24時間、そして
200℃で18時間乾燥させた。
各ポリマーの詳細を以下に示す。
例 ■
例Iのポリマー、BTDA/3,3’−ジアミ。
ポリイミドを上記方法Bに概説した操作により厚さ65
ミクロンのメンブレンに成形した。
ミクロンのメンブレンに成形した。
例 ■
例■のポリマー、EPDA/4.4’−ジアミンポリイ
ミドを例■の方法により厚さ65ミクロンのメンブレン
に成形した。
ミドを例■の方法により厚さ65ミクロンのメンブレン
に成形した。
例 ■
例■のポリマー、f)FDA/3.3’−ジアミンポリ
イミドを上記方法AlIC概説した操作により厚さ25
ミクロンのメンブレンに成形した。
イミドを上記方法AlIC概説した操作により厚さ25
ミクロンのメンブレンに成形した。
例 ■
例■のポリマー 6FDA/4.4’−ジアミンポリイ
ミドを例糧の方法により厚さ25ミクロンのメンブレン
に成形した。
ミドを例糧の方法により厚さ25ミクロンのメンブレン
に成形した。
例 X
例Vのポリマー 6FDA/3,4−ジアミンポリイミ
ドを例■の方法により厚さ25ミクロンのメンブレンに
成形した。
ドを例■の方法により厚さ25ミクロンのメンブレンに
成形した。
透過度測定
例■〜Xのメンブレンそれぞれをヘリウム、メタン、二
酸化炭素、酸素および窒素に対する透過度につき試験し
た。用いた方法はASTM d−1434−82(マ
ノメーター法)に記載されている。基本的にはフィルム
の動的測定はバレルのタイムラグ(Barrar’a
Tityca Lag)試験法により行われる。メンブ
レンは温度制御された雰囲気内で管系および溜めに接続
された鋼製槽内に挿入される。まずこの系の両側を数時
間排気したのち漏れ速度測定を行う。試料の一方側に気
体を一定圧力において導入する。この上流圧は下流圧よ
りはるかに大きく、従って透過による圧力差の変化は無
視しうる。下流の圧力上昇(漏れ速度測定値を差引いた
もの)をディジタル装置PDP711マイクロコンピュ
ータ−により記録し、時間に対してプロットした。
酸化炭素、酸素および窒素に対する透過度につき試験し
た。用いた方法はASTM d−1434−82(マ
ノメーター法)に記載されている。基本的にはフィルム
の動的測定はバレルのタイムラグ(Barrar’a
Tityca Lag)試験法により行われる。メンブ
レンは温度制御された雰囲気内で管系および溜めに接続
された鋼製槽内に挿入される。まずこの系の両側を数時
間排気したのち漏れ速度測定を行う。試料の一方側に気
体を一定圧力において導入する。この上流圧は下流圧よ
りはるかに大きく、従って透過による圧力差の変化は無
視しうる。下流の圧力上昇(漏れ速度測定値を差引いた
もの)をディジタル装置PDP711マイクロコンピュ
ータ−により記録し、時間に対してプロットした。
例■〜XのメンブレンそれぞれについてのM来を下記第
■表に示す。
■表に示す。
測定された透過度が用いる圧力において圧力とほぼ無関
係であることは認められるであろう。第1図は酸素およ
び窒素に関する分離係数を酸素透過率に対してプロット
したものである。例■および■のメンブレンは著しく高
い理想分離係数および酸素に対する妥当な透過度を示し
;一方他のメンブレンはきわめて高い7ラツクス速度お
よび妥当々分離係数を示すことが分かるであろう。
係であることは認められるであろう。第1図は酸素およ
び窒素に関する分離係数を酸素透過率に対してプロット
したものである。例■および■のメンブレンは著しく高
い理想分離係数および酸素に対する妥当な透過度を示し
;一方他のメンブレンはきわめて高い7ラツクス速度お
よび妥当々分離係数を示すことが分かるであろう。
以上、本発明を多数の形態につき詳述したので、これ以
上の説明、データおよび例は不必要であると思われる。
上の説明、データおよび例は不必要であると思われる。
各種の別形態が当業者には明らかであろう。これらの形
態は特許請求の範囲の記載のみによって限定および規定
される本発明の範囲に含まれる。
態は特許請求の範囲の記載のみによって限定および規定
される本発明の範囲に含まれる。
4、図面の簡単な説明〕
図面は実施例で得たメンブレンについて酸素/窒素系に
関する理想分離係数を酸素の透過率に対してプロットし
たグラフである。
関する理想分離係数を酸素の透過率に対してプロットし
たグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、2種以上の気体を加圧下に芳香族ポリイミド製の分
子透過性メンブレンと接触させることよりなる気体分離
法において、下記化学式の反復単位を有する高分子メン
ブレン構造物を用いることにより改良された方法: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中:mは約15〜約250の整数であり;Rは下記
のものよりなる群から選ばれる4価の芳香族残基: ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; Zは下記より選ばれる2価の基: ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; Arは、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの温合物であり: X_1・・・・・・・X_8は後記に定められ;▲数式
、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; Ar′は ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; R′、Zは前記に定められたものであり; X_1・・・・・・・X_8は別個にH、炭素原子1〜
6個を含むアルキル基、好ましくはメチル基;Br、C
l;または炭素原子6〜13個を含む芳香族残基である
)。 2、メンブレンがヘリウムに対し少なくとも約15バレ
ルの透過度を示す、請求項1に記載の方法。 3、メンブレンが酸素に対し少なくとも約0.4バレル
の透過度を示す、請求項2に記載の方法。 4、メンブレンが窒素に対し少なくとも約0.05バレ
ルの透過度を示す、請求項3に記載の方法。 5、メンブレンがヘリウム/メタン混合物に対し少なく
とも約85の理想分離係数を示す、請求項1に記載の方
法。 6、メンブレンが二酸化炭素/メタン混合物に対し少な
くとも約35の理想分離係数を示す、請求項1に記載の
方法。 7、メンブレンが窒素/メタン混合物に対し少なくとも
約2の理想分離係数を示す、請求項1に記載の方法。 8、メンブレンが酸素/窒素温合物に対し少なくとも約
5の理想分離係数を示す、請求項1に記載の方法。 9、2種以上の気体を加圧下に芳香族ポリイミド製メン
ブレンと接触させることよりなる気体分離法において、
下記のものよりなる群から選ばれるジアミン:2,2′
−ビス(3−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパン
、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、および2−(3−アミノフエニル)−2′
−(4−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパン、ま
たはそれらの混合物、ならびに下記のものよりなる群か
ら選ばれる二無水物:3,3′,4,4′−ベンゾフエ
ノンテトラカルボン酸二無水物、2,2′−ビス(3,
4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフルオロプロパン・
二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカル
ボン酸二無水物およびそれらの混合物の高分子縮合物か
ら構成されるメンブレンを用いることにより改良された
方法。 10、高分子縮合物が少なくとも約100,000の分
子量、Mwを有する、請求項9に記載の方法。 11、下記化学式の反復単位を有する気体分離用高分子
メンブレン構造物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中:mは約15〜約250の整数であり;Rは下記
のものよりなる群から選ばれる4価の芳香族残基: ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; Zは下記より選ばれる2価の基: ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; X_1・・・・・・・・X_8は後記に定められ;▲数
式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; Arは ▲数式、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合物であり; R′、Zは前記に定められたものであり; X_1・・・・・・・・・X_8は別個にH、炭素原子
1〜6個を含むアルキル基、好ましくはメチル基:Br
、Cl;または炭素原子6〜13個を含む芳香族残基で
ある)。 12、メンブレンがヘリウムに対し少なくとも約15バ
レルの透過度を示す、請求項11に記載のメンブレン。 13、メンブレンが酸素に対し少なくとも約0.4バレ
ルの透過度を示す、請求項12に記載のメンブレン。 14、メンブレンが窒素に対し少なくとも約0.05バ
レルの透過度を示す、請求項13に記載のメンブレン。 15、メンブレンがヘリウム/メタン混合物に対し少な
くとも約85の理想分離係数を示す、請求項11に記載
のメンブレン。 16、メンブレンが二酸化炭素/メタン混合物に対し少
なくとも約35の理想分離係数を示す、請求項11に記
載のメンブレン。 17、メンブレンが窒素/メタン混合物に対し少なくと
も約2の理想分離係数を示す、請求項11に記載のメン
ブレン。 18、メンブレンが酸素/窒素混合物に対し少なくとも
約5の理想分離係数を示す、請求項11に記載のメンブ
レン。 19、下記のものよりなる群から選ばれるジアミン:2
,2′−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、および2−(3−アミノフェニル)
−2′−(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、またはそれらの混合物、ならびに下記のものよりな
る群から選ばれる二無水物:3,3′,4,4′−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2′−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン・二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルテト
ラカルボン酸二無水物およびそれらの混合物の高分子縮
合物から構成される気体分離用メンブレン。 20、高分子縮合物が少なくとも約100,000の分
子量、Mwを有する、請求項19に記載のメンブレン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/386,528 US5074891A (en) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | Method of gas separation and membranes therefor |
US386528 | 1989-07-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0365214A true JPH0365214A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=23525969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2201038A Pending JPH0365214A (ja) | 1989-07-27 | 1990-07-27 | 気体分離法およびそれに用いるメンブレン |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5074891A (ja) |
EP (1) | EP0410793A1 (ja) |
JP (1) | JPH0365214A (ja) |
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