JPH0360044B2 - - Google Patents
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- JPH0360044B2 JPH0360044B2 JP13313983A JP13313983A JPH0360044B2 JP H0360044 B2 JPH0360044 B2 JP H0360044B2 JP 13313983 A JP13313983 A JP 13313983A JP 13313983 A JP13313983 A JP 13313983A JP H0360044 B2 JPH0360044 B2 JP H0360044B2
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- light
- mirror
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- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、位置検出装置に関するものであつ
て、詳しくは、高精度、高分解能で２次元方向の
位置検出が行える装置を提供するものである。
て、詳しくは、高精度、高分解能で２次元方向の
位置検出が行える装置を提供するものである。
近年の半導体技術の進展に伴ない、超LSI製造
装置や電子露光装置において、各種のサブミクロ
ン領域の位置検出装置が用いられている。
装置や電子露光装置において、各種のサブミクロ
ン領域の位置検出装置が用いられている。
しかし、このような位置検出装置の多くはHe
−Neレーザを用いたレーザ干渉計を使用してい
るために、小型化が困難であり、構成が複雑にな
る傾向が見られる。また、操作、調整に熟練が要
求され、扱いにくい。２次元方向の位置検出を行
う装置ではその傾向はより強くなる。
−Neレーザを用いたレーザ干渉計を使用してい
るために、小型化が困難であり、構成が複雑にな
る傾向が見られる。また、操作、調整に熟練が要
求され、扱いにくい。２次元方向の位置検出を行
う装置ではその傾向はより強くなる。
本発明は、このような従来の欠点を解決したも
のであり、円偏光を出力する可干渉性光源と、２
次元方向に回折格子が形成され円偏光が照射され
る反射形のスケールと、スケールの反射回折光を
各方向毎に特定の角度で反射させるミラーと、ミ
ラーで特定の角度で反射された反射回折光を各方
向毎に干渉させて各方向毎に90度位相の異なる第
１、第２の干渉光強度信号とする第１、第２のハ
ーフミラーと、ミラーで反射され各ハーフミラー
に入射される反射回折光の偏光面を入射面と平行
にする偏光板と、各ハーフミラーから出力される
90度位相の異なる第１、第２の干渉光強度信号を
それぞれ電気信号に変換する４個の受光素子と、
これら受光素子の出力信号に基づいてスケールの
各方向毎の移動量を演算する演算回路とで構成さ
れたことを特徴とする。
のであり、円偏光を出力する可干渉性光源と、２
次元方向に回折格子が形成され円偏光が照射され
る反射形のスケールと、スケールの反射回折光を
各方向毎に特定の角度で反射させるミラーと、ミ
ラーで特定の角度で反射された反射回折光を各方
向毎に干渉させて各方向毎に90度位相の異なる第
１、第２の干渉光強度信号とする第１、第２のハ
ーフミラーと、ミラーで反射され各ハーフミラー
に入射される反射回折光の偏光面を入射面と平行
にする偏光板と、各ハーフミラーから出力される
90度位相の異なる第１、第２の干渉光強度信号を
それぞれ電気信号に変換する４個の受光素子と、
これら受光素子の出力信号に基づいてスケールの
各方向毎の移動量を演算する演算回路とで構成さ
れたことを特徴とする。
以下、図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示すブロツク図
であつて、１は可干渉性光源、２は1/4波長板、
３は反射形のスケール、４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ
はミラー、６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙは偏光板、８
Ｘ，８Ｙはハーフミラー、９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，
１０Ｙは受光素子、１１Ｘ，１１Ｙは演算回路、
１２Ｘ，１２Ｙは表示回路である。
であつて、１は可干渉性光源、２は1/4波長板、
３は反射形のスケール、４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ
はミラー、６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙは偏光板、８
Ｘ，８Ｙはハーフミラー、９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，
１０Ｙは受光素子、１１Ｘ，１１Ｙは演算回路、
１２Ｘ，１２Ｙは表示回路である。
可干渉性光源１としては、例えばレーザダイオ
ードを用いる。1/4波長板２は、レーザダイオー
ド１の出力光を円偏光にするものである。スケー
ル３には、２次元方向に回折格子が設けられてい
る。ミラー４Ｘ，５ＸはＸ方向の±１次回折光を
第１のハーフミラー８Ｘで干渉させるように反射
させ、ミラー４Ｙ，５ＹはＹ方向の±１次回折光
を第２のハーフミラー８Ｙで干渉させるように反
射させる。偏光板６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙはミラ
ー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙで反射された回折光の
偏光面がそれぞれのハーフミラー８Ｘ，８Ｙの入
射面に対して平行になるように偏光角が設定され
ている。ハーフミラー８Ｘ，８ＹはそれぞれＸ、
Ｙ方向の反射回折光を干渉させて90度位相の異な
る第１、第２の干渉光強度信号を送り出すもので
あり、例えば金属薄膜ハーフミラーを用いる。受
光素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙは、各ハーフ
ミラー８Ｘ，８Ｙから出力される90度位相の異な
る第１、第２の干渉光強度信号をそれぞれ電気信
号に変換するものであり、例えばPINフオトダイ
オードを用いる。演算回路１１Ｘ，１１Ｙは、こ
れら受光素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙの出力
信号に基づいてスケール３のＸ、Ｙ各方向の移動
量を演算する。表示回路１２Ｘ，１２Ｙは、演算
回路１１Ｘ，１１Ｙの演算結果を表示する。な
お、これら可干渉性光源１、1/4波長板２、ミラ
ー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ、偏光板６Ｘ，６Ｙ，
７Ｘ，７Ｙ、ハーフミラー８Ｘ，８Ｙ、及び受光
素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙは読取ヘツド
HDとして共通のケースに収納することができ
る。
ードを用いる。1/4波長板２は、レーザダイオー
ド１の出力光を円偏光にするものである。スケー
ル３には、２次元方向に回折格子が設けられてい
る。ミラー４Ｘ，５ＸはＸ方向の±１次回折光を
第１のハーフミラー８Ｘで干渉させるように反射
させ、ミラー４Ｙ，５ＹはＹ方向の±１次回折光
を第２のハーフミラー８Ｙで干渉させるように反
射させる。偏光板６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙはミラ
ー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙで反射された回折光の
偏光面がそれぞれのハーフミラー８Ｘ，８Ｙの入
射面に対して平行になるように偏光角が設定され
ている。ハーフミラー８Ｘ，８ＹはそれぞれＸ、
Ｙ方向の反射回折光を干渉させて90度位相の異な
る第１、第２の干渉光強度信号を送り出すもので
あり、例えば金属薄膜ハーフミラーを用いる。受
光素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙは、各ハーフ
ミラー８Ｘ，８Ｙから出力される90度位相の異な
る第１、第２の干渉光強度信号をそれぞれ電気信
号に変換するものであり、例えばPINフオトダイ
オードを用いる。演算回路１１Ｘ，１１Ｙは、こ
れら受光素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙの出力
信号に基づいてスケール３のＸ、Ｙ各方向の移動
量を演算する。表示回路１２Ｘ，１２Ｙは、演算
回路１１Ｘ，１１Ｙの演算結果を表示する。な
お、これら可干渉性光源１、1/4波長板２、ミラ
ー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ、偏光板６Ｘ，６Ｙ，
７Ｘ，７Ｙ、ハーフミラー８Ｘ，８Ｙ、及び受光
素子９Ｘ，９Ｙ，１０Ｘ，１０Ｙは読取ヘツド
HDとして共通のケースに収納することができ
る。
このように構成された装置は、次のように動作
する。
する。
レーザダイオード１の出力光は1/4波長板２で
円偏光にされてスケール３に照射される。スケー
ル３には２次元方向に回折格子が形成されている
ので、照射光は回折する。このときの回折角θ
は、スケール３のピツチをｄ、レーザダイオード
１の波長をλとすると、 Sinθ＝ｍ・λ／ｄ（ｍ；整数） 但し−90゜≦θ≦90゜、−１≦ｍ・λ／ｄ≦１と
する。ここで、例えば、λ＝0.78μｍ、ｄ＝0.83μ
ｍとすると、ｍ＝０、±１となり、 θ＝0゜（ｍ＝０で０次回折光） θ＝±70.0゜（ｍ＝±１で±１次回折光） となる。Ｘ方向の±１次回折光はハーフミラー８
Ｘに入射するようにミラー４Ｘ，５Ｘで反射さ
れ、Ｙ方向の±１次回折光はハーフミラー８Ｙに
入射するようにミラー４Ｙ，５Ｙで反射される。
なお、ミラー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙで反射され
るこれら各±１次回折光はほぼ円偏光になつてい
るので、偏光板６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙを通して
所定の偏波光のみを取り出すようにする。ハーフ
ミラー８Ｘ，８Ｙは、入射されるこれら各±１次
回折光を混合して干渉させる。このとき、干渉し
た光には90゜の位相差を持たせなければならない。
以下にその方法を説明する。第２図はハーフミラ
ー８Ｘで干渉するときの様子を示す図である。図
において、Ａはガラス、Ｂは金属半透過面であ
る。一般に、金属面での反射の際には位相が遅
れ、ガラス面での反射及び透過では位相は遅れな
い。すなわち、−１次回折光のハーフミラー８Ｘ
での反射による位相遅れをδr1、＋１次回折光のハ
ーフミラー８Ｘでの反射による位相遅れをδr2、
ガラス媒質中での位相遅れをそれぞれδt1〜δt3と
する。＋１次回折光がハーフミラー８Ｘで反射透
過して受光素子９Ｘ，１０Ｘの方向に行く光をＰ
＋1、Ｑ＋1、−１次回折光がハーフミラー８Ｘで
反射透過してて受光素子９Ｘ，１０Ｘの方向に行
く光をＰ−1、Ｑ−1とする。これら４つの光束の
位相遅れは、それぞれ次のようになる。
円偏光にされてスケール３に照射される。スケー
ル３には２次元方向に回折格子が形成されている
ので、照射光は回折する。このときの回折角θ
は、スケール３のピツチをｄ、レーザダイオード
１の波長をλとすると、 Sinθ＝ｍ・λ／ｄ（ｍ；整数） 但し−90゜≦θ≦90゜、−１≦ｍ・λ／ｄ≦１と
する。ここで、例えば、λ＝0.78μｍ、ｄ＝0.83μ
ｍとすると、ｍ＝０、±１となり、 θ＝0゜（ｍ＝０で０次回折光） θ＝±70.0゜（ｍ＝±１で±１次回折光） となる。Ｘ方向の±１次回折光はハーフミラー８
Ｘに入射するようにミラー４Ｘ，５Ｘで反射さ
れ、Ｙ方向の±１次回折光はハーフミラー８Ｙに
入射するようにミラー４Ｙ，５Ｙで反射される。
なお、ミラー４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙで反射され
るこれら各±１次回折光はほぼ円偏光になつてい
るので、偏光板６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙを通して
所定の偏波光のみを取り出すようにする。ハーフ
ミラー８Ｘ，８Ｙは、入射されるこれら各±１次
回折光を混合して干渉させる。このとき、干渉し
た光には90゜の位相差を持たせなければならない。
以下にその方法を説明する。第２図はハーフミラ
ー８Ｘで干渉するときの様子を示す図である。図
において、Ａはガラス、Ｂは金属半透過面であ
る。一般に、金属面での反射の際には位相が遅
れ、ガラス面での反射及び透過では位相は遅れな
い。すなわち、−１次回折光のハーフミラー８Ｘ
での反射による位相遅れをδr1、＋１次回折光のハ
ーフミラー８Ｘでの反射による位相遅れをδr2、
ガラス媒質中での位相遅れをそれぞれδt1〜δt3と
する。＋１次回折光がハーフミラー８Ｘで反射透
過して受光素子９Ｘ，１０Ｘの方向に行く光をＰ
＋1、Ｑ＋1、−１次回折光がハーフミラー８Ｘで
反射透過してて受光素子９Ｘ，１０Ｘの方向に行
く光をＰ−1、Ｑ−1とする。これら４つの光束の
位相遅れは、それぞれ次のようになる。
Ｐ＋1；δt1＋δr2＋δt2
Ｐ−1；δt3
Ｑ＋1；δt1
Ｑ−1；δr1
従つて、Ｐ＋1とＰ−1との位相差Δ1及びＱ＋1
とＱ−1との位相差Δ2は、それぞれ次式で表わさ
れる。
とＱ−1との位相差Δ2は、それぞれ次式で表わさ
れる。
Δ1＝δt1＋δr2＋δt2−δt3
Δ2＝δt1−δr1
ここで、Ｐ＋1とＰ−1の光路を一致させると
δt1＝δt2となる。これにより次式が成立する。
δt1＝δt2となる。これにより次式が成立する。
Δ1＝δt1＋δr2
このようにして、Ｐ＋1とＰ−1及びＱ＋1とＱ
−1がそれぞれ干渉し、受光素子９Ｘ，１０Ｘに
入射される。このとき、受光素子９Ｘ，１０Ｘの
出力の位相差をαとすると、 α＝Δ1−Δ2 ＝δt1＋δr2−δt1＋δr1 ＝δr1＋δr2 となる。すなわち、受光素子９Ｘ，１０Ｘの出力
の位相差はδr1、δr2のみで決まり、ハーフミラー
８Ｘのガラスの厚さに無関係である。
−1がそれぞれ干渉し、受光素子９Ｘ，１０Ｘに
入射される。このとき、受光素子９Ｘ，１０Ｘの
出力の位相差をαとすると、 α＝Δ1−Δ2 ＝δt1＋δr2−δt1＋δr1 ＝δr1＋δr2 となる。すなわち、受光素子９Ｘ，１０Ｘの出力
の位相差はδr1、δr2のみで決まり、ハーフミラー
８Ｘのガラスの厚さに無関係である。
金属面でのδr1、δr2の値は、入射角φと入射光
の偏光面の角度によつて決まる。δr1、δr2が最大
になるのは偏光面を第２図にとつたときで、この
ときフレネルの公式及び屈折の法則より次式が成
立する。
の偏光面の角度によつて決まる。δr1、δr2が最大
になるのは偏光面を第２図にとつたときで、この
ときフレネルの公式及び屈折の法則より次式が成
立する。
Rp＝｛tan（φ−χ）｝・Ap／tan（φ＋Ｘ）
sinX＝sinφ／ｎ（１＋ｉ・ｋ）
但し、Rp；反射光複素振幅
Ap；入射光複素振幅
Ｘ；複素屈折角
ｎ；金属の屈折率
ｋ；減衰定数
上式からＸを消去すれば、反射光の位相遅れδ
は次式で示される。
は次式で示される。
δ＝tan-1［２・ｎ・ｋ・tanφ・sinφ（tan2φ
＋１）／｛（tan2φ（n2＋（ｎ・ｋ）2）
−（sin2φ（tan2φ＋１）2｝］
第４図中にα＝２・δと仮定してAuとNiの
ｎ・ｋ値を代入したものを示す。
ｎ・ｋ値を代入したものを示す。
しかし、ハーフミラーの場合には、金属面の他
にガラス面での反射があると考えられる。ガラス
面での反射はブリユータス角を境にして位相が
180゜反転する。そこで、ハーフミラーの場合、入
射角φと受光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αの関
係を実測すると、第３図のようになり、金属面反
射の特性とガラス面反射の特性を合せ持つインコ
ネルハーフミラーの場合、φが約75゜でαは90゜と
なる。図において、横軸は入射角φを表わし、縦
軸は受光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αを表わし
ている。従つて、この出力によりスケール３の移
動方向が判別でき、正弦波の波の数を計数するこ
とにより移動量がわかる。そして、このように受
光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αは正確に90゜に
なつているので、さらにアナログ的に補間して1/
１００〜1/1000μｍの超高分解能を得ることができ
る。このように構成した場合、スケール３に照射
される光ビームの径を４〜５mm、スケール３のピ
ツチｄを0.8μｍとすると、このビーム径の中に格
子は約5000本存在することになり、このすべての
格子で１本の干渉縞を作ることになる。従つて、
スケール３の格子欠陥や小さなピツチむらあるい
はスケール３に付着したゴミや汚れの影響も非常
に小さくできる。なお、第２図ではＸ方向の±１
次回折光がハーフミラー８Ｘで干渉するときの様
子について説明したが、Ｙ方向の±１次回折光に
ついてもハーフミラー８Ｙで同様に干渉動作する
ことになる。
にガラス面での反射があると考えられる。ガラス
面での反射はブリユータス角を境にして位相が
180゜反転する。そこで、ハーフミラーの場合、入
射角φと受光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αの関
係を実測すると、第３図のようになり、金属面反
射の特性とガラス面反射の特性を合せ持つインコ
ネルハーフミラーの場合、φが約75゜でαは90゜と
なる。図において、横軸は入射角φを表わし、縦
軸は受光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αを表わし
ている。従つて、この出力によりスケール３の移
動方向が判別でき、正弦波の波の数を計数するこ
とにより移動量がわかる。そして、このように受
光素子９Ｘ，１０Ｘ間の位相差αは正確に90゜に
なつているので、さらにアナログ的に補間して1/
１００〜1/1000μｍの超高分解能を得ることができ
る。このように構成した場合、スケール３に照射
される光ビームの径を４〜５mm、スケール３のピ
ツチｄを0.8μｍとすると、このビーム径の中に格
子は約5000本存在することになり、このすべての
格子で１本の干渉縞を作ることになる。従つて、
スケール３の格子欠陥や小さなピツチむらあるい
はスケール３に付着したゴミや汚れの影響も非常
に小さくできる。なお、第２図ではＸ方向の±１
次回折光がハーフミラー８Ｘで干渉するときの様
子について説明したが、Ｙ方向の±１次回折光に
ついてもハーフミラー８Ｙで同様に干渉動作する
ことになる。
第４図は、本発明に係る装置を用いてＸ−Ｙス
テージの位置制御を行う例を示したものである。
スケール３はステージ１３上の一角に取り付けら
れている。ステージ１３は駆動装置１４により読
取ヘツドHDに対して２次元方向に駆動される。
すなわち、駆動装置１４は、ステージ１３を、読
取ヘツドHD→Ｘ信号処理回路１５Ｘ→Ｘ信号偏
差増幅器１６Ｘ→Ｘ信号サーボ増幅器１７Ｘより
なるサーボループでＸ方向に移動させると共に、
読取ヘツドHD→Ｙ信号処理回路１５Ｙ→Ｙ信号
偏差増幅器１６Ｙ→Ｙ信号サーボ増幅器１７Ｙよ
りなるサーボループでＹ方向に移動させる。この
ように構成することにより、１個の読取ヘツド
HDでステージ１３の２次元方向の位置を高精
度、高分解能で制御することができ、構成の簡略
化も図れる。
テージの位置制御を行う例を示したものである。
スケール３はステージ１３上の一角に取り付けら
れている。ステージ１３は駆動装置１４により読
取ヘツドHDに対して２次元方向に駆動される。
すなわち、駆動装置１４は、ステージ１３を、読
取ヘツドHD→Ｘ信号処理回路１５Ｘ→Ｘ信号偏
差増幅器１６Ｘ→Ｘ信号サーボ増幅器１７Ｘより
なるサーボループでＸ方向に移動させると共に、
読取ヘツドHD→Ｙ信号処理回路１５Ｙ→Ｙ信号
偏差増幅器１６Ｙ→Ｙ信号サーボ増幅器１７Ｙよ
りなるサーボループでＹ方向に移動させる。この
ように構成することにより、１個の読取ヘツド
HDでステージ１３の２次元方向の位置を高精
度、高分解能で制御することができ、構成の簡略
化も図れる。
以上説明したように、本発明によれば、一個の
読取ヘツドで２次元方向の位置を高精度、高分解
能で検出測定できる装置が実現でき、２次元方向
の駆動機構を備えた各種の装置の位置検出装置と
して好適である。
読取ヘツドで２次元方向の位置を高精度、高分解
能で検出測定できる装置が実現でき、２次元方向
の駆動機構を備えた各種の装置の位置検出装置と
して好適である。
第１図は本発明の一実施例を示すブロツク図、
第２図はハーフミラーで干渉するときの位相関係
の説明図、第３図は入射角と受光素子出力間の位
相差の関係を示す説明図、第４図は本発明に係る
装置を用いてＸ−Ｙステージの位置制御を行う例
を示す説明図である。 １……可干渉性光源、２……1/4波長板、３…
…反射形スケール、４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ……
ミラー、６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙ……偏光板、８
Ｘ，８Ｙ……ハーフミラー、９Ｘ，９Ｙ，１０
Ｘ，１０Ｙ……受光素子、１１Ｘ，１１Ｙ……演
算回路、１２Ｘ，１２Ｙ……表示回路。
第２図はハーフミラーで干渉するときの位相関係
の説明図、第３図は入射角と受光素子出力間の位
相差の関係を示す説明図、第４図は本発明に係る
装置を用いてＸ−Ｙステージの位置制御を行う例
を示す説明図である。 １……可干渉性光源、２……1/4波長板、３…
…反射形スケール、４Ｘ，４Ｙ，５Ｘ，５Ｙ……
ミラー、６Ｘ，６Ｙ，７Ｘ，７Ｙ……偏光板、８
Ｘ，８Ｙ……ハーフミラー、９Ｘ，９Ｙ，１０
Ｘ，１０Ｙ……受光素子、１１Ｘ，１１Ｙ……演
算回路、１２Ｘ，１２Ｙ……表示回路。
Claims (1)
- １ 円偏光を出力する可干渉性光源と、２次元方
向に回折格子が形成され円偏光が照射される反射
形のスケールと、スケールの反射回折光を各方向
毎に特定の角度で反射させるミラーと、ミラーで
特定の角度で反射された反射回折光を各方向毎に
干渉させて各方向毎に90度位相の異なる第１、第
２の干渉光強度信号とする第１、第２のハーフミ
ラーと、ミラーで反射され各ハーフミラーに入射
される反射回折光の偏光面を入射面と平行にする
偏光板と、各ハーフミラーから出力される90度位
相の異なる第１、第２の干渉光強度信号をそれぞ
れ電気信号に変換する４個の受光素子と、これら
受光素子の出力信号に基づいてスケールの各方向
毎の移動量を演算する演算回路とで構成されたこ
とを特徴とする位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13313983A JPS6024414A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13313983A JPS6024414A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 位置検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6024414A JPS6024414A (ja) | 1985-02-07 |
| JPH0360044B2 true JPH0360044B2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=15097663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13313983A Granted JPS6024414A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6024414A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01291194A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Tokyo Electron Ltd | Ｘ−ｙテーブル |
| JPH01291101A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Tokyo Electron Ltd | Ｎ次元エンコーダ |
| DE4302313C2 (de) * | 1993-01-28 | 1996-12-05 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Mehrkoordinaten-Meßeinrichtung |
| JP4779117B2 (ja) * | 2006-05-15 | 2011-09-28 | 国立大学法人東北大学 | Ｘｙｚ軸変位測定装置 |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP13313983A patent/JPS6024414A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6024414A (ja) | 1985-02-07 |
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