JPH01291194A - X−yテーブル - Google Patents

X−yテーブル

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JPH01291194A
JPH01291194A JP63121547A JP12154788A JPH01291194A JP H01291194 A JPH01291194 A JP H01291194A JP 63121547 A JP63121547 A JP 63121547A JP 12154788 A JP12154788 A JP 12154788A JP H01291194 A JPH01291194 A JP H01291194A
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JP
Japan
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stage
linear
axis
signal
encoder
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Application number
JP63121547A
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English (en)
Inventor
Hiroo Ono
博夫 小野
Soichi Sugano
聡一 菅野
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
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Publication of JPH01291194A publication Critical patent/JPH01291194A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、X−Yテーブルに関する。
(従来の技術) X−Yテーブルの構成は種々のものがあるが、いずれも
ステージベースに対してX方向にリニアな動作をするX
ステージと、Y方向にリニアな動作をするYステージと
が設けられ、その結果として2次元に移動可能なX−Y
ステージが得られるというものである。
このように、従来構造では2次元駆動の駆動方向を2方
向に分け、x−Yステージ自体はその一方向にのみ駆動
可能とし、この一方向駆動系全体を他の方向に駆動する
ことにより、間接的に2次元駆動するものであった。
また、上記のように間接的な2次元駆動を行っていなの
で、このX−Yステージの位置検出は、従来より次のよ
うな方法が採用されている。すなわち、2組のリニアエ
ンコーダをもちいて、前記XステージとYステージとの
位置をそれぞれ検出し、これをもってX−Yステージの
位置とするものである。なお、上記のような間接的な2
次元駆動は、Xステージ、Yステージ毎にリニアモータ
等を配置し、この各リニアモータの駆動を上記すニアエ
ンコーダの出力によって制御することにより、X−Yス
テージを位置決めしていた。そして、その結果として得
られる2次元に移動可能なX−Yステージが間接的に2
次元に位置決めされるというものであった。
(発明が解決しようとする問題点) 上述した従来の技術では、たとえば上記X−Yステージ
及びY方向駆動系の全体をX方向駆動系によって駆動す
ることで、間接的に2次元駆動するものであるので、X
−Yステージをガイドによって支持することが不可欠で
あり、万−X方向のガイドがずれている場合には、正確
な位置決めを実行することができなかった。
このように、従来の間接駆動方式ではガイドのずれがX
−Yステージの位71精度に大きく影響し、高精度なX
−Y駆動を行うのに限界があった。
また、このような間接駆動の場合には、駆動源の駆動力
が種々の部材を介してX−Yステージに伝達されるので
、駆動源の加速動作、停止動作に対1−5て、X−Yス
テージの移動が追従せずに遅れが生じ、動特性が悪いと
いう問題があった。
また、位置精度に関しては、X−Yステージの位置検出
が正確に実行できれば上記間接駆動による弊害を低減で
きるが、従来ではX−Yステージの位置検出を行う場合
に、2組のリニアエンコーダはXステージとYステージ
との位置をそれぞれ検出しているにすぎず、その後に何
等かのガイドを介して間接的に位置決めされるX−Yス
テージの位置は、そのガイドのガタや不安定さなどの悪
影響によって、位置決め精度が悪化してしまっていた。
したがって、正確な位置決めを実行できず、位置精度に
自ずから限界があった。。
また、X−YステージのX軸とY軸との直交度は、リニ
アエンコーダでは規定できず、X軸、Y軸を規定するそ
れぞれのガイドの直交度に依存するため、その精度にも
機械的な限界があった。
従って、この直交度のずれからも位置決め精度が悪化し
ていた。
そこで、本発明の目的とするところは、」二連した従来
の問題点を解決し、従来の間接駆動よりも位置精度を向
上でき、しかも動特性の良好なX−Yテーブルを提供す
ることにあり、さらには高精度の直交度と高位置決め精
度とを有するX−Yテーブルを提供することにある。
[発明の構成コ (問題点を解決するための手段) 本発明は、X−YステージをX、Y方向にテーブル駆動
するX−Yテーブルにおいて、2次元駆動される上記X
−Yステージに対して、それぞれ位置を変えて平面的に
X方向駆動部とY方向駆動部とを配置し、上記X−Yス
テージを直接的に2次元駆動する構成としている。
そして、上記のようなX方向駆動部は、X方向にのみ力
を発生し、Y方向には拘束力を持たないリニアDCモー
タ又はリニア誘導モータ等でitすることができ、Y方
向駆動部も同様に構成することができる。
なお、好ましくはX−YステージのX、Y方向の移動策
を、X−Yステージを基準として直接検出する構成を採
用することが望ましい。
位置検出方式として、例えばライン及スペースのスリッ
トパターンを有するメインスケールと、このメインスケ
ールと同様の形状で、かつ、各々1/4周期ずつ位相の
異なる4つのパターン領域を有するサブスケールとを有
し、相対移動する両スケールを透過した光を検出してエ
ンコーダ情報とする透過型光学式エンコーダを採用する
場合には、例えばサブスケールを−Yステージと共に移
動するように上記被照射部として形成し、一方メインス
ケールは固定するように構成すれば良い。
なお、反射型光学式エンコーダを採用することらできる
。また、レーザ測長機によりX−Yステージの位置を直
接検出する場合には、X、Y方向の参照用ミラーは固定
し、X、Y方向の反射ミ2−をX−Yステージに形成す
れば良い。
(作用) 本発明では、X−Yステージに対して、平面的に位置を
変えてX、Y方向駆動部を配置しているので、X−Yス
テージを直接的に2次元駆動することができる。したが
って、従来の間接駆動方式に比べれば、駆動系からX−
Yステージに至る系の中に何等のガイドを必要としない
ので、X−Yステージの位置精度は直接駆動系自体の位
置決め精度と同一となり、従来のようにガイドのずれな
どの機械的な位置ずれが生じないので、位置決め精度を
向上することができる。
また、直接駆動方式の採用により、駆動部の加速動作、
停止動作が何等のガイドを介せずに直接X−Yステージ
に作用するので、駆動部に対するX−Yステージの追従
性が向上し、動特性を良好とすることができる。
さらに、X−Yステージ自体の位置検出を行う構成とす
れば、X−Yステージが移動すると、このX−Yステー
ジ自体を基準としてX、Y方向の移e−tが直接検出さ
れるので、X−YステージのX、Y軸の移動位置に関す
るエンコーダ情報を、yLfa的に検出することができ
る。したがって、従来とは異なりガイドの機械的位置ず
れの影響がなく、X−Yステージ自体を基準としてその
位置を検出しているで、その移動位置を正確に制御する
ことが可能となる。さらに、移動方向であるX。
Y軸の直交角度は例えばパターンの形成角度にのみ依存
し、駆動系の影響を受けないので、より正確な位置検出
を実行することができる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例について、図面を参照して具体
的に説明する。
第1図、第2図に示すように、ステージベース1」二に
はX軸ガイドレール2が設けられている。
このX軸ガイドレール2にはX軸すニアガイド10を介
してXステージ3が取り付けられ、Xステージ3はX軸
方向にリニアな動作をする。ただし、Xステージ3の下
面には、ステージベース1との間に平面軸受3aが設け
られている。
また、Xステージ3にはY軸すニアガイド軸11を介し
てX−Yステージ4が取り付けられ、X−Yステージ4
はXステージ3に対してY軸方向にリニアな動作をする
ただし、X−Yステージ4の下面には、ステージベース
1との間に平面軸受12が組み込まれている(第3図参
照)。
このような構成により、X−Yステージ4は、ステージ
ベース1に対してX、Y方向に2次元に移動可能となる
このようなX−Yステージ4の駆動をリニアDCモータ
により行う一例を以下に説明する。
すなわち、第3図に示すように、X−Yステージ4が平
面軸受12によりステージ1上で2次元移動可能となっ
ていて、この駆動をX方向のりニアDCモータ8と、Y
方向のリニアDCモータ9によって行っている。リニア
DCモータ8,9は同様の構成を有し、第3図に示すよ
うにX−Yステージ4に取り付けられた1相コイル22
と、ステージベース1上に取り付けられたリニアモータ
ヨーク20及び永久磁石21とから構成されている。永
久磁石21とコイル22との関係は、第4図のようにN
f!、S極を向かい合わせた2組の永久磁石21と軟鉄
のヨーク20とにより矢印30のような磁界を作り、そ
の磁界中に1相コイル22を配置した形となっていて、
1相コイル22に電流を流すことによってコイル22が
矢印31の方向に力を発生する。
そして、隣りあった2つの永久磁石21.21を密着さ
せて配置することにより、第6図に示すように磁束密度
Bが一定に近い部分を長くとることができ、コイル22
のストロークをこの範囲に規定すれば発生力のムラの少
ないリニアDCモータを実現できる。
また、力の発生方向と垂直な方向(第5図における矢印
40の方向)には、第5図においてコイル22が永久磁
石21に対し相対的に41.a、41bの距離だけ移動
するまでは拘束力を持たない。
このようなリニアDCモータを、その駆動方向を直交さ
せ、かつ、第1図に示すように、X−Yステージ4の裏
面にその位置を変えて平面的に2組設けることにより、
X−Yステージ4をステージベース1から直接2次元に
駆動するためのX方向用リニアDCモータ8と、Y方向
用ニアDCモータ9とが構成できる。
このように、上記各方向のリニアDCモータ8゜9は、
その駆動軸方向に力を発するが、これとは直交する方向
には何等の拘束力を持たないので、リニアDCモータ8
,9のそれぞれのコイル22へ通電することによりX、
Y方向の駆動を独立して実施することで、X−Yテーブ
ル4を直接的に2次元駆動を実現することができる。
第7図(A)、(B)に、X−Yステージ4の駆動系の
変形例として、その駆動をリニア誘導モータ60により
行う場合の一例を示す。
ステータ61をステージベース1上に設け、導体板64
と磁性体板65とで構成されるムーバ62をX−Yステ
ージ4上に設ける。
ステータ61は、溝加工された軟鉄ヨーク63の溝部に
コイル66a、67a、68a、66b。
67b、68bを第7図(A)、(B)のように巻いて
構成される。コイル66aと66b、67aと67b、
68aと68bは、それぞれ同相の電流を流すコイルで
あり、これらにそれぞれ第8図の76.77.78に示
したような1204だけ位相をずらした交流電流を流す
ことにより、ステータ61とムーバ62との間に直接的
に移動する進行磁界が発生する。
この進行磁界がムーバ62を構成する導体板64の中に
渦電流を誘導し、これと磁界との作用で矢印69に示す
方向に力を発生する。
なお、ムーバ62を構成する磁性体板65は、磁束の通
り道を成すものである。
このようなリニア誘導毛−夕60においては、ムーバ側
は電気的にも磁気的にも極性を持たないので、第7図に
おいてムーバ62は磁界を発生する軟鉄ヨーク63の平
面的な面積よりも、X−Yステージ2のX、Yストロー
ク分だけそれぞれの方向に大きい面積を持っているだけ
で、矢印69の方向にそのストローク内で均一な力を発
生し、かつ、矢印70の方向には拘束力を待たない一方
向用のリニア誘導モータ60を実現できる。
このようなリニア誘導モータ60を、その駆動軸方向を
直交させ、かつ、X−Yステージ4に対して平面的にそ
の位置を変えて2組設けることで、X−Yステージ4を
ステージベース1から直接2次元に移動するためのリニ
ア誘導モータを構成することができる。
なお、リニア誘導モータは、第7図に示したような構成
のものの他、ムーバを導体板のみとしてコイルを挾み込
むような構成のものなど、種々の構成を採用し得る。
次に、X−Yステージ4を直接的に位置検出する構成例
について、第2図及び第9図〜第L5図を参照して説明
する。なお、本例は2次元位置検出用の透過型光学式エ
ンコーダの構成例である。
第2図に示すように前記ステージベース1上には、X方
向用とY方向用とのそれぞれのエンコーダパターンをガ
ラス基板−Eに形成したメインスケール303がメイン
スケール支持台323に支持されて設けられ(第9図を
も参照) 、X−Yステージ4の移動によってこのX−
Yステージ4に対して相対的に2次元に移動可能となっ
ている。
X−Yステージ4上に設けられたX方向用検出器6は、
第9図に示すように光源329.ミラー328、コリメ
ータレンズ327とから成る照明系と、エンコーダサブ
スケール325と受光素子326とから成る受光系で構
成され、両者の間にステージベース1上に固定されたメ
インスケール303が挾まれる構成となっている。
なお、図中330は光源329からの光線を示している
また、Y方向用検出器7も同様な構成となっている。
メインスケール303上には、第10図に示すように1
周期をL(例えばL=10μm)とし、光が透過する部
分(以下ラインとも称する)340aと透過しない部分
(以下スペースとも称する)340bとの比で1対1(
すなわち、それぞれ同じ幅L/2の幅を持つライン及ス
ペース)に形成されたエンコードパターン340と原点
信号用のパターン(図示せず)とが、X方向用、Y方向
検出用にそれぞれ直交して2組形成されている。
これに対し、サブスケール325上には、第10図の3
41a、341b、341c、341dに示すように、
上記メインスケール303と同じライン及スペースのパ
ターンで、それぞれ1in周期ずつメインスケール30
3のパターン340に対して位相をずらした4つのパタ
ーン領域と、原点信号用パターン(図示せず)とが形成
されている。
前記受光素子326は、サブスケール325の4つの領
域及び原点信号用パターン領域(2領域)を通過してき
た光の強度をそれぞれ検出するために、6分割された領
域をもち、光源329から出て、レンズ327.メイン
スケール303.サブスケール325を通過してきた光
の強度を検出する。
このように構成された2次元エンコーダは、以下のよう
に動作する。
すなわち、メインスクール303に対してX方向用検出
器6が相対的に2次元移動した場合、Y方向の移動成分
はエンコーダ信号の変化つまり受光素子326に入って
くる光の強度変化として現れないが、X方向の移動成分
は、エンコーダ信号の変化として現れる。
すなわち、第10図において、サブスケールの341a
の領域を通過してきた光の強度は、位置Xに対して−s
in x+α(αは外乱)のごとく変化し、同様に34
1bの領域はcos X+α、341cはsin X+
α、 341 dは−CO5X+ffのように変化する
これらの各信号を2つずつ組にして、 (Sin X+(Z ) −(−8in X+cx )
 = 2Sin X(cosX+α) −(−cos 
x+α)=2cosXのように演算することで、Sin
 x、cosxの2波が得られ、この信号からX−Yス
テージ4の位置をエンコードすることができる。
同様に、Y方向用検出器7からsin Y、 cos 
Yの2波が得られる。
原点信号は、メインスクール303の原点パターンと、
サブスケール32うの原点パターンとが重なった時に表
れる光及のピークをあるスレッショルドレベルで2値化
して得られる、長さが前記ライン及スペース1周期弱の
信号であり、原点位置はこの原点信号と、Sin X、
 COS X両信号との論理積によって1/8周期の範
囲で決められる。
Y方向も同様にして行われる。
原点信号用のパターンは、例えば前記ライン及スペース
の1本のラインの幅の2倍の幅を持つスリットを例えば
第11図のように並べたものである。なお同図において
、“1”は透明部であるスペースを意味し、“0”は非
透明部であるラインを意味する(例えば、1bit、=
10μm)、このスリットパターンのみをメインスケー
ル303及びサブスケール325上に設け、前記スリッ
トの長手方向と直交する方向にメインスケール303と
サブスケール325との位置関係が相対的に移動した場
合、第12図に示したような原点信号が得られる。
第12図において、原点信号となる透過光量は、全体的
にはメインスクール303とサブスケール325のスリ
ットパターンが重なり始めた時から少しずつ増加してゆ
き、両者が重なった時に最大となり(ピーク値を示す)
、そこから再び減少していき、両者の重なり部分がなく
なワた時にゼロとなるような、底辺の幅がスリットパタ
ーン全体の幅の2倍である三角形状を示す。
さらに、細かく見ると両スリットパターンがぴったり重
なった時の前後で裾野の幅が前記ライン及スペースの約
2周期であるような三角形状に光景のピークが表れる。
これをあるスレッショルドレベルで2値化して、前記ラ
イン及スペースの1周期弱のパルス信号(原点信号)と
することにより、この信号と前記sin X、C05X
両信号との論理積によって、前記ライン及スペースの1
/8周期の範囲内で原点が決められる。
原点出しは、ステージがどのような位置にあっても原点
信号とSin X、 COS Xの両信号とのみを参照
して行うことができるが、以下にその方法の一例を示す
第13図に示すように、1:1のライン及スペースのパ
ータン351の端に前記のような原点パターン352を
設けたメインスケール303に対して、第14図に示し
たような配置をしたサブスケール325が移動する場合
、サブスクール325の原点パターン領域360及び領
域全体が透明(スペース;光を透過する部分)である領
域361を通過する光量の信号は、それぞれ第15図に
おける370,371のような出力を示す、そして、信
号370から信号371を引いたものが信号372に示
すものとなる。
この信号をあるスレショルドレベルで2値化し、0と1
のディジタル信号としてとらえる。
まず、電源投入前に前記原点信号が1であれば、該信号
がOになるまで、第15図における出力特性が左側に移
行するような方向にサブスケール325を移動し、そこ
から再び該信号が1になるまで右側に移動し、そこを仮
の原点とする。この状態では第15図におけるA点かB
点か分からないので、次にA、B間距離以上に左側に移
動させて信号が0の状態から再び1になるまで右側に移
動させると、原点位2Aに至る。
次に、電源投入時に前記原点信号が0であれば、該信号
が1になるまで右側に動かし、そこを仮の原点とする。
それ以降は前記と同様なシーケンスにより原点位?ff
A点に至る。
以上のような方法により、電源投入時にステージがどの
ような位置であっても、メカリミット等に当てることな
く原点信号とsin X、 cos Xの両信号とのみ
を参照して原点出しを行うことができる。
このようにして、Y方向には感度を持たないX方向用の
エンコーダが構成されるが、同様にしてこれと直交する
方向にY方向用検出器7を構成することにより、2次元
移動するX−Yステージ4上で該ステージ4の位置をス
テージベース1から直接2次元的に検出できるエンコー
ダを構成することができる。
この2次元エンコーダのX、Y軸の直交度は、メインス
ケール3上に形成されるX、Y方向のパターンの直交度
に依存するが、これはEB措画法等により、かなり高精
度なものが得られるため、高い直交度を持つエンコーダ
を構成することかできる。
このように、X−Yステージ4を直接的に2次元駆動し
、かつ、その移動位置検出を上記実施例のようにX−Y
ステージ4から直接検出することで、X−Yステージの
位置検出をガイド等の精度に無関係に正確に検出でき、
かつ、この位置検出に基づ<x−yステージ4の位置決
めをガイド等の精度に無関係に直接的に実行することが
できるので、非常に正確なX−Y移動を実現することが
できる。
以上は透過型光学式エンコーダを採用した場合の一例で
あるが、反射型光学式エンコーダを採用することもでき
、また本例以外の構成のエンコーダを採用することも可
能である。
次に、X−Yステージ4の直接的な位置検出の変形例に
ついて、第16図を参照して説明する。
第16図は、レーザ測長機によってX−Yステージ4の
位置検出を実行する一例を示すものである。
同図において、81a、81b、81.cそれぞれミラ
ーであり、レーザ光源80から出た光はビームスプリッ
タ82によりX方向の位置検出用の光と、Y方向の位置
検出用の光とに分割される。
昼下、X方向の位置検出について説明するが、Y方向も
まったく同様にして実行される。
ミラー81bによりX軸と平行な方向に屈曲された光は
、ビームスプリッタ83aによりX方向用参照ミラー8
4aとX方向用反射ミラー85aの2方向に分割され、
それぞれのミラーで反射されて再びビームスプリッタ8
3aに戻り、両光の一部はX方向用光検出器86aに入
射する。
X方向用光検出器86aに入射する2本の光は、互いに
干渉し、X−Yステージ4がX方向に移動すると、レー
ザの波長λの周期で光の明暗が生じ、これからX−Yス
テージ4のX方向の移動量を測定することか出来る。
同様にして、Y方向の移動量も測定することが出来る。
このように、X−Yステージ4の位置検出にレーザ測長
機を使用した場合には、X方向とY方向との直交度は、
X−Yステージ4を構成しているメカニカルなガイドと
は無関係に、X方向用反射ミラー85aと、Y方向用反
射ミラー85bとの直交度によって法まる。したがって
、高精度を得るために、また、直交度が90°からある
角度θだけずれている場合、レーザ測長機で測長される
ステージの移動量が実際の移動量にCOSθを乗じた値
となってしまうことによる位置検出精度の悪化を防ぐた
めに、X方向用反射ミラー85aと、Y方向用反射ミラ
ー85bとは、高直交度を有することが必要である。
第17図に、本発明による」ユ記実施例のX−Yステー
ジの制御系の一例を示している。
本例はX−YステージをリニアDCモータで制御する場
合のものであり、第17図は1軸のみの制御系を示して
いる。
なお、本例の−Yステージは、X軸、Y軸がそれぞれ第
17図に示す制御系によって構成されており、この2系
統のリニアDCモーによって2次元的な位置決めを行う
ものである。
なお、ここではX軸制御用の制御系について説明するが
、Y軸制御用の制御も同様である。
本制御系は、エンコーダ信号処理部411.ディジタル
制御部412.アナログ制御部413゜パワーアンプ部
119により構成されている。
本例のX−Yステージ4は、その駆動系として90゛位
相の異なった2相の正弦波出力のリニアDCモータを用
いている。また、リニアDCモータは、パワーアンプ部
119の出力電流をコイル120の電流とし、そのコイ
ル電流に比例しな推力を発生するものである。
第17図において、リニアエンコーダ101の出力信号
201,202は、エンコーダ信号処理部11に入力さ
れ、増幅器102,103によって所要の振幅に増幅さ
れた後、8分割回路105および位相シフト回路104
に入力される。
前記8分割回路10うは、正弦波信号203(又は20
4)の1/8周期毎に1クロック時間のパルスを発生す
る。8分割回路105は、2つの出力205及び206
を持っており、例えば正方向進行中には205に、負方
向進行中には206にパルスが出力される。
したがって、10μm当たり1周期の正弦波を発生する
リニアエンコーダ101を使用した場合、8分割回路1
05の出力パルス間のX−Yステージ4の進行距離は1
,25μmであり、進行方向はパルスが出力される信号
線によって認識できる。
すなわち、205にパルスが出力された場合には、X−
Yステージ4は正方向に1.25μm進み、206にパ
ルスが出力された場合には、負方向に1.25μm進ん
だことになる。
なお、エンコーダ信号とパルスとの関係は第18図に示
す通りである。
位相シフト回路104は、2相正弦波信号203.20
4と、CPU121から出力される目標位置に関する位
相信号207,208とから、目標位置に負の勾配のゼ
ロクロス点ともつ正弦波13号209を合成する。
目標位置を含む1/8周期長及びその前後の1/8周期
長の範囲をアナログゾーンといい、アナログ制御413
によって制御を行う。
また、アナログゾーン外の範囲をディジタルゾーンとい
い、ディジタル制御部412によって制御を行う。
ディジタル制御部412について説明すると、CPU1
21から目標位置が指令されると、エンコーダ信号の1
/8周期長を単位とした位置の整数部が目標位置レジス
I−109に保持される。また、目標位置に負の勾配を
持つ正弦波信号209が位相シフト回路104から出力
される。
以下、具体例を持って説明すると、目標位置を例えばx
=1001μmとし、1周期10μmのリニアエンコー
ダ101を使用すると、その1/8周期は1.25μm
であり、1001μmを1゜25μmで割った商800
がCP LI 1.21の出力信号210として出力さ
れ、前記目標位置レジスタ109に保持される。また、
位相シフト回路から−sin  (x+1 ) 2yr
/10なる13号が−I−記正弦波信号209として出
力される。これは、X=1001μmの位置に負の勾配
のゼロクロス点をもつ正弦波である。この場合には、x
=998゜75〜1002.5μmの3.75μmの範
囲がアナログゾーンであり、その外の範囲がディジタル
ゾーンとなる。
現在位置カウンタ107は、上記8分割回l?8105
の出力信号205及び206のパルスをカウントするこ
とにより、X−Yステージ4の現在位置を常に更新出力
する。比較回路108は、目標位置と現在位置との差を
常に更新出力する。また、現在位置がアナログゾーンに
入った場合、つまり比転回路108が−1,0,1のい
ずれかの場合に、制御切り換えスイッチ122により制
御をアナログ制御部413に切り換えるや ROM1.11は、目標位置と現在位置との差に応じた
X−Yステージ4の目標速度が書き込まれる。そして、
比較回路108の出力に応じてこのROMIIIから目
標速度を読み出し、それをD/Aコンバータ112によ
りD/A変換し、電圧出力とする。速度カウンタ106
は、信号205又は206のパルス間のタロツク数をカ
ウントし、その逆数をとることによりディジタル速度を
算出する。このディジタル信号は、D/Aコンバータ1
10によりD/A変換され、電圧出力となる。
[目標速度及びディジタル速度の電圧出力は、加算器1
13に入力される。この加算器113の出力は、スイッ
チ122を通りパワーアンプ119により電圧−電流変
換され、コイル120へのコイル電流212となり、X
−Yステージ4の駆動力を発生ずる。目標速度信号とデ
ィジタル速度信号は、逆の特性を持ち、ディジタル速度
が目標速度に一致するようにコイル電流は制限される。
現在位置がアナログゾーン入ると、スイッチ122によ
り制御をアナログ制御部413に切り換える。
アナログ制御部413について説明すると、アナログ制
御は目標位置に負の勾配のゼロクロス点を持つ正弦波信
号209を利用し、そのゼロクロス点すなわち目標位置
にX−Yステージ4を整定させる。
波形整形回路114は、信号209を非線形増幅回路を
利用してアナログゾーン内でリニアな波形211に整形
する。これによって目標位置からの変位をリニアな電圧
として検出することができる。比例増幅器115.微分
増幅器116.積分増幅器117は、上記のようなリニ
アな波形に対して公知のPID制御を施すものである。
加算器118は、その出力がスイッチ122を通りパワ
ーアンプ119によって電圧−電流変換され、コイル1
20へのコイル電流となってX軸の駆動力を発生ずるも
のである。
これによって、X−Yステージ4を上記波形のゼロクロ
ス点つまり目標位置に整定させる。
以上の制御をX軸、YIIIIについてそれぞれ行うこ
とにより、2次元的な位置決めを実現することができる
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によればX−Yステージを
直接的に2次元駆動することができので、従来の間接駆
動方式と比較すればX−Yステージをガイドを介して駆
動する必要がないので、X−Yステージの位置精度は直
接駆動系自体の位置決め精度と同一となり、従来のよう
にガイドのずれなどの機械的な位置ずれが生じないので
、位置決め精度を向上することができる。
さらに、X−Yステージ自体の位置検出をX−Yステー
ジを基準として直接行う構成とすれば、x−Yステージ
が移動すると、このX−Yステージ自体に形成された各
軸毎の被照射部も移動することになり、この被照射部に
対して照射された透過光または反射光を検出することで
、X−YステージのX、Y軸の移動位置に関するエンコ
ーダ情報を直接的に検出することができる。
したがって、従来とは異なりガイドの機械的位置ずれの
影響がなく、X−Yステージ自体に形成した被照射部に
基づき検出しているで、その移動位置を正確に制御する
ことが可能となる。さらに、移動方向であるX、Y軸の
直交角度は被照射部の形成角度にのみ依存し、駆動系の
影響を受けないので、より正確な位置検出を実行するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例であるX−Yテーブルの平
面図、 第2図は、第1図に示すX−Yテーブルの概略斜視図、 第3図は、リニアDCモータの一構成例を示す概略説明
図、 第4図は、リニアDCモータの断面図、第5図は、リニ
アDCモータとコイルの位置関係を説明するための平面
図、 第6図は、第4図、第5図のように配置した場合の永久
磁石の磁束密度の分布を示す特性図、第7図(A)、(
B)は、リニア誘導モータの平面図、断面図、 第8図は、同上リニア誘導モータの各コイルへ流す電流
の関係を示す特性図、 第9図は、第1図に示すX−Yエンコーダの構成要素及
び照明系を説明するための断面図、第10図は、X−Y
エンコーダを構成するメインスケールとサブスクールと
に形成される各パターンの関係を示す概略説明図、 第11図は、原点パターンを構成するスリット列の並べ
方の一例を示す概略説明図、 第12図は、第11図のスリット列で構成された原点パ
ターン2組の位置関係と透過光量との関係を示す特性図
、 第13図は、メインスケール上の1=1のライン及スケ
ールのパターンと原点パターンの並べ方の一例を示す特
性図、 第14図は、サブスケール上の各種パターンの並べ方の
一例を示す概略説明図、 第15図は、エンコーダ信号のみを参照して原点出しを
するのに用いる原点信号の一例を示す特性図、 第16図は、X−Yステージの直接的な位置検   ′
出にレーザ測長機を採用した場合の構成例を示す平面図
、 第17図は、リニアモータ用いた場合のX−Yステージ
の制御系のブロック図、 第18図は、第17図の回路中のエンコーダ信号とパル
スとの関係を示す特性図である。 1・・・ステージベース、 4・・・X−Yステージ、 6・・・X方向用検出器、 7・・・Y方向用検出器、 8・・・X方向用リニアDCモータ、 9・・・Y方向用リニアDCモータ、 60・・・リニア誘導モータ、 81〜86・・・レーザ測長機、 85a、85b・・・被照射部(反射ミラー)、303
・・・メインスケール、 325・・・被照射部(サブスケール)、326・・・
受光素子、 340・・・メインスケールパターン、341a〜34
1d・・・サブスケールパターン。 代理人 弁理士 井 上  −(他1名)第3図 第4図 第5図 第7図 (A) (B) n 61又子−夕 第11図 一100111C)10.11100110100o1
00101011     (全35obit)第12
図 第14図 第15図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)X−YステージをX、Y方向にテーブル駆動する
    X−Yテーブルにおいて、 2次元駆動される上記X−Yステージ対して、それぞれ
    位置を変えて平面的にX方向駆動部とY方向駆動部とを
    配置し、上記X−Yステージを直接的に2次元駆動する
    構成としたことを特徴とするX−Yテーブル。
  2. (2)上記X−YステージのX、Y方向の移動量を、X
    −Yステージを基準として直接検出する検出部を設けた
    特許請求の範囲第1項記載のX−Yテーブル。
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