JP2001141521A - 位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置 - Google Patents

位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置

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JP2001141521A JP2000276659A JP2000276659A JP2001141521A JP 2001141521 A JP2001141521 A JP 2001141521A JP 2000276659 A JP2000276659 A JP 2000276659A JP 2000276659 A JP2000276659 A JP 2000276659A JP 2001141521 A JP2001141521 A JP 2001141521A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置を
提供する。 【解決手段】この装置は、位置測定方向に沿って配置さ
れた１本の位置測定部１１を有する１本のスケール１
０、及びこの位置測定部にその両側で隣接して配置され
た複数の案内誤差測定部１２ａ，１２ｂを備え、これら
の案内誤差測定部はこの位置測定部に対して垂直に配置
されている。さらに、１つの位置測定走査ユニット２０
が設けられている。この位置測定走査ユニットは、この
スケールに対して相対的に可動であり、この位置測定部
を走査して位置測定信号を生成する。さらに、本発明の
装置は、少なくとも１つの案内誤差走査ユニット３０を
有する。この案内誤差走査ユニットは、この位置測定走
査ユニットと共にこのスケールに対して可動であり、こ
れらの案内誤差測定部を走査して案内誤差測定信号を生
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、位置を測定しかつ
案内誤差（Fuehrungsfehler ）を算出する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近の精密工作機械又は座標測定機器(K
oordinatenmessgeraeten) に対しては、機械の軸線に沿
って位置を精確に測定することに加えてその都度の軸線
の場合によっては存在する案内誤差を算出することも要
求される。いろいろな案内誤差のうちの１つの案内誤差
の測定技術的な算出は、直進度測定(Geradheitsmessun
g) とも呼ばれる。このとき、稼動中のその都度の位置
の測定値が、適切な評価装置中でそれらの測定された案
内誤差から計算的に補正され得る。
【０００３】この問題は、ヨーロッパ特許第 0 082 244
号公開公報中で詳しく検討されている。さらに、この公
開公報の図３，４は、高解像度の増算測定部によって１
本の軸線に沿ったその都度の位置を測定すること、及び
上述した案内誤差又は直進度測定をも算出することの双
方を可能にする適切な装置を示す。この目的のために、
１本のスケールが設けられている。このスケールは、測
定方向に沿った従来の増算部の形をした１つの位置測定
部に加えてその位置測定部に対して垂直に配置された１
つの案内誤差測定部をも有する。この案内誤差測定部
は、複数の線分から構成される。これらの線分は、測定
方向に対して平行に方向付けされていて、正方形の断面
を有する１本の担持体のかどの領域まで延在している。
各種の測定部を走査するため、光電的な測定システムが
言及されている。しかしながら、この光電的な測定シス
テムに関しては再度説明しない。
【０００４】位置と案内誤差を同時に測定するその他の
装置が、ヨーロッパ特許第 0 660 085号公開公報から公
知である。この場合、測定器(Massverkoerperung) が、
ＣＣＤアレイによって走査される。このとき、この測定
器は、多数のトラック(Spuren)を有する。複数の線を有
する２本のトラックが、中央の非周期的な１本のバーコ
ード構造体に対して対称に隣接して配置されている。こ
れらの２本のトラックは、測定方向に対して平行に方向
付けされている。同様に、最後に述べたこれらの実際の
測定方向に対して垂直に指向されている両トラックは、
場合によっては起こりうる案内誤差の算出つまり直進度
測定を可能にする。しかしながら、ここでの絶対的な位
置は、比較的粗い解像度で測定される；それ故、この装
置は、高精度な用途には適さない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
の高解像度な位置測定装置から出発して可能な限りの僅
かな改造だけで、設けられている少なくとも１本の軸線
に沿って案内誤差をも高精度に算出する、位置を測定し
かつ案内誤差を算出する装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題は、請求項１の
特徴を備える装置によって解決される。
【０００７】本発明の好適な実施形は、従属請求項に記
載の解決手段から実現される。
【０００８】本発明によれば、例えばヨーロッパ特許発
明 0 387 520号明細書から公知であるような高解像度の
位置測定装置が、同時に案内誤差を算出することも可能
であるように改造される。本発明の装置のスケールの側
面上には、１本の位置測定部に対して垂直にそれぞれ方
向付けされている少なくとも２本の案内誤差測定部が、
増算部の形をした１本の従来の位置測定部に隣接して配
置されている。これらの異なる測定部を走査するため、
特に同一に構成された２つの走査ユニットが設けられて
いる。これらの走査ユニットは、単に互いに90°だけ回
転させて配置されている。これらの両走査ユニットの一
方の走査ユニットが、位置測定走査ユニットとして使用
される。この位置測定走査ユニットは、公知の方法でこ
の位置測定部を測定方向に沿って走査して位置測定信号
を生成する。案内誤差走査ユニットの働きをする２番目
の走査ユニットは、これらの案内誤差測定部を走査して
案内誤差測定信号を生成する。この案内誤差走査ユニッ
トは、この位置測定走査ユニットと共にスケールと対向
して測定方向に沿って可動である。
【０００９】したがって、このヨーロッパ特許発明 0 3
87 520号明細書から公知の位置測定装置と比較すると、
１台の装置で位置測定と案内誤差の算出の双方を遂行す
るためには、単にスケール上への両案内誤差測定部の追
加配置、及び第２の − 同一の − １つの走査ユニ
ットが必要なだけである。
【００１０】位置測定信号の生成も案内誤差測定信号の
測定も、干渉走査原理に基づいている。すなわち、相当
に高い解像度つまり精密さが両測定に対して保証され
る。
【００１１】さらに、スケール上の位置測定部及び両案
内誤差測定部の配置が、最も場所をとらないことが実証
されている。すなわち、このスケールの両側面上も大き
なスペースを必要としない。
【００１２】さらに、本発明の装置は、例えば、さらな
る案内誤差を算出するため走査ユニットをさらに追加す
ることによって、又は代わりの走査原理等を利用するこ
とによって等して多用な形態に改造又は拡張することが
できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明のその他の有利な
効果と特徴を添付した図面に基づく多数の実施の形態に
関して説明する。
【００１４】図１中には、本発明の装置の第１の実施の
形態が平面図で概略的に示されている。この場合、特に
それぞれの走査ユニット２０，３０の両側面にあって
は、より良好に見えるようにとの理由で、全ての要素は
示されていない。
【００１５】図１中で分かるように、位置を測定しかつ
案内誤差を算出する本発明の装置は、１本のスケール１
０及びこのスケール１０と対向して測定方向ｘに可動な
２つの走査ユニット２０，３０を有する。この場合、こ
の動作では、スケール１０が両走査ユニット２０，３０
に対して可動に配置されている；しかし、スケール１０
と走査ユニット２０，３０の可能な相対運動だけが重要
である。以下、これらの両走査ユニット２０，３０を位
置測定走査ユニット２０又は案内誤差走査ユニット３０
と記す。両走査ユニット２０，３０は、共に連動してス
ケール１０に対して可動であるか − 又は逆にスケー
ル１０が両走査ユニット２０，３０に対して可動である
− 。そのため、これらの両走査ユニット２０，３０
は、例えば − 図示しなかった − ハウジング内に
配置されている。基本的には、これらの両走査ユニット
２０，３０のスケール１０に対する連動動作は、言うま
でもなく、例えば適切な機械的な連結要素等によってい
ろいろに実現され得る。図１中には、これらの両走査ユ
ニット２０，３０の必ず連動する部分が、連結要素４０
ａ，４０ｂによって概略的に示されている。
【００１６】スケール１０及び両走査ユニット２０，３
０は、例えば複数の機械要素に連結されている。これら
の機械要素は、相対的に対向して測定方向ｘに運動す
る。高精度な相対位置のほかに、それぞれの測定長ＭＬ
に沿った機械側の案内誤差も、本発明の装置によって測
定されなければならない。スケール２０に対する相対運
動時にこれらの両走査ユニット２０，３０によって生成
された位置測定信号と案内誤差測定信号が、 − 図示
しなかった − 評価ユニットに入力されてさらに処理
される。これらの生成された信号の具体的な評価又はさ
らなる処理はここではこれ以上説明しないで、例えば既
に上述したヨーロッパ特許第 0 082 441号公開公報を参
照するだけでよい。
【００１７】この実施形では、本発明の装置のスケール
１０が反射式のスケールとして形成されている。すなわ
ち、そのスケール１０上に配置された異なる測定部１
１，１２ａ，１２ｂが、それぞれ反射分相方式の公知の
反射式測定部として形成されている。これらの反射式測
定部は、測定方向ｘに沿ってそれぞれ交互に配置された
異なるステップ高さ(Stufenhoehen)を有する複数の部分
領域１１．１，１１．２，１２ａ．１，１２ａ．２，１
２ｂ．１，１２ｂ．２から構成される。この反射式の分
相部分においては、例えば周期的に配置された金から成
る線状の反射部分領域１１．１，１２ａ．１，１２ｂ．
１つまり線材が重要である。これらの部分領域は、例え
ば同様に金から成る反射面上に配置されている。以下、
これらの線材の間に配置された部分領域１１．２，１２
ａ．２，１２ｂ．２を細隙と言う。
【００１８】図示された実施の形態中の本発明の装置の
スケール１０上には、測定方向ｘに沿って周期的に配置
された高反射性の複数の線材１１．１と複数の細隙１
１．２とから構成された１本の位置測定部１１が、１本
の担持要素１３の表面中央に設けられている。この場
合、これらの線材１１．１又は細隙１１．２の長手方向
は、測定方向ｘに対して垂直に方向付けされている。こ
の方向をｙ軸として定義する。これらの線材１１．１の
長さは、位置測定部１１のトラックの幅ｂPMT に一致す
る。位置測定部１１の部分周期をＴＰPMT で示す。
【００１９】本発明の装置の図示したこの実施形では、
２本の案内誤差測定部１２ａ，１２ｂが、位置測定部１
１にその両側で隣接するようにスケール１０の担持要素
１３上に設けられている。この場合、これらの案内誤差
測定部１２ａ，１２ｂは、位置測定部１１に対して垂直
に配置されている。このことは、これらの両案内誤差測
定部１２ａ，１２ｂの線材１２ａ. １，１２ａ. ２つま
りウェブ(Stege) 及び細隙(Luecken) １２ａ. ２，１２
ｂ. ２が、測定長ＭＬの全体にわたって測定方向ｘに対
して平行に延在していることを意味する。案内誤差測定
部１２ａ，１２ｂの両トラックの幅は等しく選択されて
いる。以下、この幅をｂGMT で示す；位置測定部１１の
中央のトラックに対する案内誤差測定部１２ａ，１２ｂ
の両トラックの間隔をそれぞれｄで示す。両案内誤差測
定部１２ａ，１２ｂは、等しい部分周期ＴＰGMT を有す
る。基本的には、これらの両案内誤差測定部１２ａ，１
２ｂは、中央の位置測定部１１に対して直接連続して配
置されてもよい。すなわち、ｄ＝０に選択してもよい。
【００２０】好適な実施形では、これらの異なる測定部
１１，１２ａ，１２ｂのＴＰMT，ＴＰGMT が全て等しく
形成されている。
【００２１】両走査ユニット２０，３０による走査信号
の生成は、例えば出願人のヨーロッパ特許発明 0 387 5
20号明細書中にそれぞれ詳しく説明されているような干
渉作用の原理に基づいている。対応する測定システム
が、ＬＩＰ３８２の製品名で出願人によって販売され
る。それ故、信号の生成に関しては、ここでは上述した
明細書を参照するだけでよい。
【００２２】図１中には、より良好に見えるようにとの
理由で、走査ユニット２０，３０の各種の要素のうちの
各走査部２１，２２だけが示されている。スケール１０
上の異なる測定部１１、１２ａ，１２ｂに対するこれら
の走査部２１，３１の示された向きから、左側の走査ユ
ニット２０が位置測定部１１の走査に使用されることが
分かる。この目的のために、この位置測定走査ユニット
２０のこの走査部２１は、スケール１０上の位置測定部
１１に対して同一方向に方向付けされている。その結
果、この位置測定走査ユニット２０によって周期的に変
調された信号周期ＴＰPMT /4の増算信号が、測定方向ｘ
に沿った相対運動時に生成される。これらの増算信号
は、公知の方法でさらに処理され得る。したがって、こ
うして生成された位置測定信号は、スケール１０に対す
る走査ユニット２０の相対位置を測定方向ｘに沿って精
確に測定するために使用される。すなわち、ヨーロッパ
特許発明 0 387 520号明細書の公知の装置と同じであ
る。
【００２３】上述したＬＰＩ３８２のシステムを使用す
る場合、部分周期はＴＰMT＝ 0.512μm であり、増算位
置測定信号から生じる信号周期は 0.128μm である。
【００２４】案内誤差走査ユニット３０は、測定方向ｘ
にほぼ沿わせて、かつ位置測定走査ユニット２０に対し
て垂直に配置されている。それに応じて、この走査ユニ
ット３０の走査部３１も、位置測定走査ユニット２０の
走査部２１に対して90°だけ回転して、すなわちｙ方向
に配置されている。すなわち、スケール１０上の両案内
誤差測定部１２ａ，１２ｂの向きと同じである。したが
って、場合によっては起こりうる案内誤差に起因したｙ
方向の、すなわち測定方向ｘに対して垂直方向の相対運
動も測定方向ｘに沿った運動時に発生すると、この相対
運動は案内誤差走査ユニット３０によって精確に測定さ
れる。それらの案内誤差測定信号は、場合によっては起
こりうるｙ方向の相対運動の発生中に周期的に変調され
た増算信号を表す。これらの増算信号は、両両案内誤差
測定部１２ａ，１２ｂを走査するために信号周期ＴＰ
GMT /4を有する。これらの信号も、公知の方法で上述し
た評価ユニットによってさらに処理される。上述したよ
うに、関与した全ての測定部１１，１２ａ，１２ｂの部
分周期が等しく選択される場合は、ＬＩＰ３８２システ
ムを使用し、ＴＰGMT ＝ 0.512μm のときに、増算した
案内誤差測定信号の信号周期が0.128 μm である。
【００２５】したがって、スケール１０上の異なる部分
トラック１１，１２ａ，１２ｂの幅ｂGMT ，ｂPMT 及び
間隔ｄを適切に寸法決めすることによって、ヨーロッパ
特許発明 0 387 520号明細書から公知の原理に基づく同
一に構成された２つの走査ユニット２０，３０を確実に
使用することができる。これらの走査ユニット２０，３
０は、90°だけ回転させて対向して配置されるだけでよ
い。その他には、追加の両案内誤差測定部１２ａ，１２
ｂだけがスケール１０上に必要である。その結果、大き
な測定経費をかけることなしに、ヨーロッパ特許発明 0
387 520号明細書の公知の測定システムを本発明の装置
に使用することができる。
【００２６】上述した事例による２つの分離した案内誤
差走査ユニット２０，３０から成る配置とは別に、本発
明の装置を変更することもできる。すなわち、例えば両
走査ユニットの光学機能をただ１つの走査ユニットに統
合することも可能である。このただ１つの走査ユニット
はスケールに対して可動であるか、又は、逆にスケール
がこの走査ユニットに対して可動である。この場合、特
にさらにコンパクトなシステムを走査側上に実現するこ
とができる。
【００２７】図２中には、本発明の装置のさらなる概略
的な部分が斜視図で示されている。この場合、異なる要
素の空間的な向き、又は案内誤差測定時の走査光路をよ
り良好に図式化するため、図１の案内誤差走査ユニット
３０の複数の要素のうちの幾つかの要素しか示されてい
ない。図２中に示さなかった位置測定走査ユニットは、
図２中に示されたこれらの要素に対して 90 °だけ回転
しているものの先に述べたように同一の要素を有する。
【００２８】すなわち、それぞれの走査ユニットは、１
つの光源３２，１つのコリメーター３５，１つの走査格
子３１，１つの逆反射構成ユニット３３及び多数の検出
要素３４ａ，３４ｂ，３４ｃを有する。まず、光源３２
から放出された光束が変換部材として形成された走査格
子３１に到達する前に、この光束はコリメーター３５に
よって平行光線にされる。この入射した光束は、この走
査格子３１で異なる回折次数の多数の部分光束に回折さ
れる。次いで、少なくとも２つの回折次数、特に +/-1
の次数が、案内誤差測定部１２ａ，１２ｂへ当たり、そ
こで新たに回折され、そして逆反射構成ユニット３３方
向に反射する。つまり、この実施の形態では、これらの
両案内誤差測定部１２ａ，１２ｂの中心距離 (Mittenab
stand)がスケール上に衝突するこれらの回折次数の間隔
に一致するように、この中心距離は選択されている。逆
反射構成ユニット３３の設計は、これらの入射した部分
光束が両案内誤差測定部１２ａ，１２ｂ方向に再び反射
されることを保証する。逆反射構成ユニット３３は、適
切に寸法決めされた三重プリズム(Tripelprisma)として
又は光学的に適した三面鏡(Tripelspiegel-Anordnung)
として形成されている；これに関するさらなる詳細は、
ヨーロッパ特許発明 0 387 520号明細書を参照するとよ
い。両案内誤差測定部１２ａ，１２ｂへの新たな反射
後、異なる部分光束が最終的に更新されて走査部３１上
に当たる。最後に、この走査部３１は、それらの干渉す
る部分光束の対を全部で３つの検出要素３４ａ，３４
ｂ，３４ｃへ向けて異なる空間方向に回折させる。案内
誤差走査ユニット３０がスケール１０に対してｙ方向に
相対運動すると、次いで周期的に変調された増算信号
が、これらの３つの検出要素３４ａ，３４ｂ，３４ｃで
最終的に出力される。この場合、これらの３つの検出要
素３４ａ，３４ｂ，３４ｃの信号の間には、120 °の位
相のずれがある。
【００２９】以下に、本発明の装置の第２の実施の形態
を図３に基づいて説明する。最初に説明した実施の形態
が入射光形のシステムとして構成されている一方で、こ
の装置は明らかに透過光形のシステムとしても構成され
得ることを図３に基づいて具体的に説明する。この場
合、図３は、特に案内誤差の測定つまり直進度を測定す
るときの走査光路を説明するためのスケール１００と案
内誤差走査ユニット３００のｙ−ｚ平面に沿った断面図
である。スケール１００と走査ユニット３００は、測定
方向ｘに連動するように配置されている。 − 図示し
なかった − 位置測定走査ユニットの配置に関して
は、例えばヨーロッパ特許発明 0 387 520号明細書中の
図２を参照するとよい。この図２は、ｘ−ｚ平面内で位
置を測定するための走査光路の状態を示す。
【００３０】同様に、スケール１００の側面上には、中
央に配置された１本の位置測定部１１１及び両側に隣接
した複数の案内誤差測定部１１２ａ，１１２ｂが、今度
は透過性の１本の担持要素１１３上に設けられている。
この場合、この透過形のシステムでは、それぞれの測定
部１１１，１１２ａ，１１２ｂが伝達部として、特に位
相伝達部として形成されている。これらの両案内誤差測
定部の断面から分かるように、これらの両案内誤差測定
部は、それぞれの測定方向に沿って周期的に配置された
複数のウェブと複数の細隙から構成される。この場合、
ウェブと細隙は異なるステップ高さを有する。
【００３１】案内誤差走査ユニット３００は、上述の実
施の形態のように１つの光源１３２，１つのコリメータ
ー１３５，１本の走査部１３１，三重プリズムとして形
成された１つの逆反射構成ユニット１３３及び３つの光
学的な検出要素１３４ａ，１３４ｂ，１３４ｃを有す
る。まず、光源１３２から出射し、コリメーター１３５
によって並行に指向された光束が、さらに走査部１３１
到達する。この走査部１３１では、これらの光束が複数
の異なる部分光束に回折つまり分割される。次いで、こ
れらの回折された部分光束が、スケール１００上のそれ
ぞれの案内誤差測定部１１２ａ，１１２ｂ上に当たり、
今度はこれらの案内誤差測定部１１２ａ，１１２ｂによ
って透過中にさらに回折される。逆反射構成ユニット１
３３による逆反射後、部分光束の干渉性の対が走査部１
３１の平面内に最終的に発生される前に、これらの部分
光束がこれらの両案内誤差測定部１１２ａ，１１２ｂを
再び通り抜ける。最後に、それぞれの干渉した部分光束
が、走査部１３１によって検出要素１３４ａ，１３４
ｂ，１３４ｃ方向に回折される。スケール１００と案内
誤差走査ユニット３００とがｙ方向に相対運動したとき
に、位相のずれた増算信号がこれらの検出要素１３４
ａ，１３４ｂ，１３４ｃで発生する。
【００３２】明らかに、本発明の装置のこの第２の実施
形のほかに、さらにその他の別の実施形もこの本発明の
範囲内で実現可能である。すなわち、異なる走査信号を
生成するために、例えばヨーロッパ特許発明第 0 311 1
44号明細書から公知の走査原理をそれぞれの走査ユニッ
トの側面に対して使用することも可能である。この場合
も、従来の走査ユニットに対して 90 °だけ回転させて
配置され、スケール上の位置測定部に隣接した同様に追
加した両案内誤差測定部を走査する１つの同一の第２の
走査ユニットしか必要としない。
【００３３】その他の公知の走査原理も、ほんの少しの
変更だけで適切に適合させることができ、かつこの本発
明の範囲内で使用することができる。
【００３４】さらに、明らかに本発明の装置は、別の案
内誤差も、例えば特定の軸線周りの回転に関する案内誤
差が検出され得るように変更することもできる。このと
き、この目的のために、例えば既に上述したヨーロッパ
特許第 0 082 441号公開公報の図３，５等中で提唱され
たような適切に追加した案内誤差測定ユニット又は案内
誤差測定部を設ける必要がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の装置の第１の実施形の概略的な平面
図である。
【図２】 図１の事例のスケールと案内誤差走査ユニッ
トの一部の斜視図である。
【図３】 本発明の装置の第２の実施形における案内誤
差を測定するための光路を示す。
【符号の説明】
１０，１００ スケール １１，１１１ 位置測定部 １２ａ，１２ｂ 案内誤差測定部 １１２ａ，１１２ｂ 案内誤差測定部 １３；１１３ 担持要素 ２０，３０ 位置測定走査ユニット ２１，３１；１３１ 走査部 ３０，３００ 案内誤差走査ユニット ３１ 走査格子 ３２，１３２ 光源 ３３，１３３ 逆反射構成ユニット ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ 検出要素 ３５ コリメーター １３４ａ，１３４ｂ，１３４ｃ 検出要素 ＭＬ 全測定長
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エルウイン・シユパンナー ドイツ連邦共和国、83278トラウンシュタ イン、フオルストマイヤーストラーセ、12

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 − 位置測定方向（ｘ）に沿って配置さ
    れた１本の位置測定部（１１；１１１）を有する１本の
    スケール（１０；１００）を備え、この位置測定部（１
    １；１１１）にその両側で隣接して配置された複数の案
    内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ；１１２ａ，１１２ｂ）
    を備え、これらの案内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ；１
    １２ａ，１１２ｂ）はこの位置測定部（ｘ）に対して垂
    直に配置されていて、 − １つの位置測定走査ユニット（２０，３０）を備
    え、この場合、この位置測定走査ユニット（２０，３
    ０）とこのスケール（１０；１００）とが、互いに相対
    的に可動であり、この位置測定走査ユニット（２０，３
    ０）が、この位置測定部（１１；１１１）を走査して位
    置測定信号を生成し、そして、 − 少なくとも１つの案内誤差走査ユニット（３０；３
    ００）を備え、この場合、この案内誤差走査ユニット
    （３０；３００）が、この位置測定走査ユニット（２
    ０）と共にこのスケール（１０；１００）に対して相対
    的に可動であり、この少なくとも１つの案内誤差走査ユ
    ニット（３０；３００）が、案内誤差測定部（１１；１
    １１）を走査して案内誤差測定信号を生成する、位置を
    測定しかつ案内誤差を算出する装置。
  2. 【請求項２】 両案内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ；１
    １２ａ，１１２ｂ）は、それぞれ位置測定部（１１；１
    １１）と同一の部分周期を有し、全測定長（ＭＬ）にわ
    たって延在している請求項１に記載の装置。
  3. 【請求項３】 位置測定部（１１；１１１）及び案内誤
    差測定部（１２ａ，１２ｂ；１１２ａ，１１２ｂ）は、
    １つの共通の担持要素（１３；１１３）の表面上に配置
    されている請求項１に記載の装置。
  4. 【請求項４】 位置測定部（１１）及び案内誤差測定部
    （１２ａ，１２ｂ）は、それぞれ反射式の測定部として
    形成されている請求項１に記載の装置。
  5. 【請求項５】 位置測定走査ユニット（２０）及び案内
    誤差走査ユニット（３０；３００）は、同一に形成され
    ていて、かつ互いに垂直に配置されている請求項１に記
    載の装置。
  6. 【請求項６】 位置測定走査ユニット（２０），案内誤
    差走査ユニット（３０；３００）又はこれらのどちらか
    一方は、１つの光源（３２；１３２），１つの走査部
    （２１，３１；１３１），１つの逆反射構成ユニット
    （３３；１３３）及び多数の検出要素（３４ａ，３４
    ｂ、３４ｃ；１３４ａ，１３４ｂ、１３４ｃ）を有する
    請求項１に記載の装置。
  7. 【請求項７】 光束が検出要素（３４ａ，３４ｂ，３
    ４ｃ）上に衝突する前に、まず、光源（３２）から放出
    されたその光束が、走査部（３１）を通り抜け、次いで
    案内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ）上に衝突し、そして
    この案内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ）から逆反射構成
    ユニット（３３）方向に反射され、この逆反射構成ユニ
    ット（３３）が、この入射した光束をこの案内誤差測定
    部（１２ａ，１２ｂ）方向に反射させ、この案内誤差測
    定部（１２ａ，１２ｂ）からこの走査部（３１）方向に
    再び反射するように、案内誤差走査ユニット（２０）及
    びそれに関連するこれらの両案内誤差測定部（１２ａ，
    １２ｂ）が配置されている請求項４，６に記載の装置。
  8. 【請求項８】 同一に形成された位置測定走査ユニッ
    ト（２０）及び案内誤差走査ユニット（３０）が使用可
    能であるように、両案内誤差測定部（１２ａ，１２ｂ）
    及び位置測定部（１１）のそれぞれの幅が位置測定方向
    （ｘ）に対して垂直に寸法決めされている請求項７に記
    載の装置。
  9. 【請求項９】 位置測定走査ユニット及び案内誤差走査
    ユニットは、１つの共通のハウジング内に配置されてい
    て、このハウジングは、スケールに対して可動に位置測
    定方向に沿って配置されている請求項７に記載の装置。
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