JP4503803B2 - 位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置 - Google Patents

位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位置を測定しかつ案内誤差(Fuehrungsfehler)を算出する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
最近の精密工作機械又は座標測定機器(Koordinatenmessgeraeten)に対しては、機械の軸線に沿って位置を精確に測定することに加えてその都度の軸線の場合によっては存在する案内誤差を算出することも要求される。いろいろな案内誤差のうちの1つの案内誤差の測定技術的な算出は、直進度測定(Geradheitsmessung)とも呼ばれる。このとき、稼動中のその都度の位置の測定値が、適切な評価装置中でそれらの測定された案内誤差から計算的に補正され得る。
【0003】
この問題は、ヨーロッパ特許第0082244号公開公報中で詳しく検討されている。さらに、この公開公報の図3,4は、高解像度の増算測定部によって1本の軸線に沿ったその都度の位置を測定すること、及び上述した案内誤差又は直進度測定をも算出することの双方を可能にする適切な装置を示す。この目的のために、1本のスケールが設けられている。このスケールは、測定方向に沿った従来の増算部の形をした1つの位置測定部に加えてその位置測定部に対して垂直に配置された1つの案内誤差測定部をも有する。この案内誤差測定部は、複数の線分から構成される。これらの線分は、測定方向に対して平行に方向付けされていて、正方形の断面を有する1本の担持体のかどの領域まで延在している。各種の測定部を走査するため、光電的な測定システムが言及されている。しかしながら、この光電的な測定システムに関しては再度説明しない。
【0004】
位置と案内誤差を同時に測定するその他の装置が、ヨーロッパ特許第0660085号公開公報から公知である。この場合、測定器(Massverkoerperung)が、CCDアレイによって走査される。このとき、この測定器は、複数のトラック(Spuren)を有する。複数の線を有する2本のトラックが、中央の非周期的な1本のバーコード構造体に対して対称に隣接して配置されている。これらの2本のトラックは、測定方向に対して平行に方向付けされている。同様に、最後に述べたこれらの実際の測定方向に対して垂直に指向されている両トラックは、場合によっては起こりうる案内誤差の算出つまり直進度測定を可能にする。しかしながら、ここでの絶対的な位置は、比較的粗い解像度で測定される;それ故、この装置は、高精度な用途には適さない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、従来の高解像度な位置測定装置から出発して可能な限りの僅かな改造だけで、設けられている少なくとも1本の軸線に沿って案内誤差をも高精度に算出する、位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この課題は、位置測定方向xに沿って配置された1本の位置測定部11を有する1本のスケール10を備え、この位置測定部11にその両側で隣接して配置された複数の案内誤差測定部12a,12bを備え、これらの案内誤差測定部12a,12bの部分領域が、前記位置測定部11の部分領域11.1,11.2に対して垂直に配置されていて、1つの位置測定走査ユニット20を備え、この位置測定走査ユニット20とこの前記スケール10とが、互いに相対的に可動であり、この位置測定走査ユニット20が、前記位置測定部11を走査して位置測定信号を生成し、そして、少なくとも1つの案内誤差走査ユニット30を備え、この案内誤差走査ユニット30が、前記位置測定走査ユニット20と一緒に前記スケール10に対して相対的に可動であり、前記少なくとも1つの案内誤差走査ユニット30が、前記案内誤差測定部11を走査して案内誤差測定信号を生成すること、
前記位置測定走査ユニット20及び/又は前記案内誤差走査ユニット30は、1つの光源32、1つの走査部21,31、1つの逆反射構成ユニット33及び複数の検出要素34a,34b,34cを有すること、及び、光束が前記検出要素34a,34b,34c上に衝突する前に、まず、前記光源32から放出されたその光束が、前記走査部31を透過し、次いで前記案内誤差測定部12a,12b上に衝突し、そしてこの案内誤差測定部12a,12bから前記逆反射構成ユニット33方向に反射され、この逆反射構成ユニット33が、この入射した光束を前記案内誤差測定部12a,12b方向に反射させ、この案内誤差測定部12a,12bから前記走査部31方向に再び反射するように、前記案内誤差走査ユニット20が、構成されていて且つ前記両案内誤差測定部12a,12bに対して配置されていることによって解決される。
さらにこの課題は、位置測定方向xに沿って配置された1本の位置測定部111を有する1本のスケール100を備え、この位置測定部111にその両側で隣接して配置された複数の案内誤差測定部112a,112bを備え、これらの案内誤差測定部112a,112bの部分領域が、前記位置測定部111の部分領域に対して垂直に配置されていて、1つの位置測定走査ユニットを備え、この位置測定走査ユニットとこの前記スケール100とが、互いに相対的に可動であり、この位置測定走査ユニットが、前記位置測定部111を走査して位置測定信号を生成し、そして、少なくとも1つの案内誤差走査ユニット300備え、この案内誤差走査ユニット300が、前記位置測定走査ユニットと一緒に前記スケール100に対して相対的に可動であり、前記少なくとも1つの案内誤差走査ユニット300が、前記案内誤差測定部111を走査して案内誤差測定信号を生成すること、前記位置測定走査ユニット及び/又は前記案内誤差走査ユニット300は、1つの光源132、1つの走査部131、1つの逆反射構成ユニット133及び複数の検出要素34a,34b,34cを有すること、及び、光束が前記検出要素134a,134b,134c上に衝突する前に、まず、前記光源132から放出されたその光束が、前記走査部131を透過し、複数の部分光束に分割され、引き続き前記案内誤差測定部112a,112b上に衝突し、そして前記逆反射構成ユニット133方向に前記スケール100を透過し、この逆反射構成ユニット133が、入射した前記部分光束を前記案内誤差測定部112a,112b方向に反射させ、これらの部分光束が、前記走査部131方向に前記スケール100を透過するように、前記案内誤差走査ユニットが、構成されていて且つ前記両案内誤差測定部112a,112bに対して配置されていることによって解決される。
【0007】
本発明の好適な実施形は、従属請求項に記載の解決手段から実現される。
【0008】
本発明によれば、例えばヨーロッパ特許発明0387520号明細書から公知であるような高解像度の位置測定装置が、同時に案内誤差を算出することも可能であるように改造される。本発明の装置のスケールの側面上には、1本の位置測定部に対して垂直にそれぞれ方向付けされている少なくとも2本の案内誤差測定部が、増算部の形をした1本の従来の位置測定部に隣接して配置されている。これらの異なる測定部を走査するため、特に同一に構成された2つの走査ユニットが設けられている。これらの走査ユニットは、単に互いに90°だけ回転させて配置されている。これらの両走査ユニットの一方の走査ユニットが、位置測定走査ユニットとして使用される。この位置測定走査ユニットは、公知の方法でこの位置測定部を測定方向に沿って走査して位置測定信号を生成する。案内誤差走査ユニットの働きをする2番目の走査ユニットは、これらの案内誤差測定部を走査して案内誤差測定信号を生成する。この案内誤差走査ユニットは、この位置測定走査ユニットと共にスケールと対向して測定方向に沿って可動である。
【0009】
したがって、このヨーロッパ特許発明0387520号明細書から公知の位置測定装置と比較すると、1台の装置で位置測定と案内誤差の算出の双方を遂行するためには、単にスケール上への両案内誤差測定部の追加配置、及び第2の−同一の−1つの走査ユニットが必要なだけである。
【0010】
位置測定信号の生成も案内誤差測定信号の測定も、干渉走査原理に基づいている。すなわち、相当に高い解像度つまり精密さが両測定に対して保証される。
【0011】
さらに、スケール上の位置測定部及び両案内誤差測定部の配置が、最も場所をとらないことが実証されている。すなわち、このスケールの両側面上も大きなスペースを必要としない。
【0012】
さらに、本発明の装置は、例えば、さらなる案内誤差を算出するため走査ユニットをさらに追加することによって、又は代わりの走査原理等を利用することによって等して多用な形態に改造又は拡張することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のその他の有利な効果と特徴を添付した図面に基づく複数の実施の形態に関して説明する。
【0014】
図1中には、本発明の装置の第1の実施の形態が平面図で概略的に示されている。この場合、特にそれぞれの走査ユニット20,30の両側面にあっては、より良好に見えるようにとの理由で、全ての要素は示されていない。
【0015】
図1中で分かるように、位置を測定しかつ案内誤差を算出する本発明の装置は、1本のスケール10及びこのスケール10と対向して測定方向xに可動な2つの走査ユニット20,30を有する。この場合、この動作では、スケール10が両走査ユニット20,30に対して可動に配置されている;しかし、スケール10と走査ユニット20,30の可能な相対運動だけが重要である。以下、これらの両走査ユニット20,30を位置測定走査ユニット20又は案内誤差走査ユニット30と記す。両走査ユニット20,30は、共に連動してスケール10に対して可動であるか−又は逆にスケール10が両走査ユニット20,30に対して可動である−。そのため、これらの両走査ユニット20,30は、例えば−図示しなかった−ハウジング内に配置されている。基本的には、これらの両走査ユニット20,30のスケール10に対する連動動作は、言うまでもなく、例えば適切な機械的な連結要素等によっていろいろに実現され得る。図1中には、これらの両走査ユニット20,30の必ず連動する部分が、連結要素40a,40bによって概略的に示されている。
【0016】
スケール10及び両走査ユニット20,30は、例えば複数の機械要素に連結されている。これらの機械要素は、相対的に対向して測定方向xに運動する。高精度な相対位置のほかに、それぞれの測定長MLに沿った機械側の案内誤差も、本発明の装置によって測定されなければならない。スケール20に対する相対運動時にこれらの両走査ユニット20,30によって生成された位置測定信号と案内誤差測定信号が、−図示しなかった−評価ユニットに入力されてさらに処理される。これらの生成された信号の具体的な評価又はさらなる処理はここではこれ以上説明しないで、例えば既に上述したヨーロッパ特許第0082441号公開公報を参照するだけでよい。
【0017】
この実施形では、本発明の装置のスケール10が反射式のスケールとして形成されている。すなわち、そのスケール10上に配置された異なる測定部11,12a,12bがそれぞれ、反射分相方式の公知の反射式測定部として形成されている。これらの反射式測定部は、測定方向xに沿ってそれぞれ交互に配置された異なるステップ高さ(Stufenhoehen)を有する複数の部分領域11.1,11.2,12a.1,12a.2,12b.1,12b.2から構成される。この反射式の分相部分においては、例えば周期的に配置された金から成る線状の反射部分領域11.1,12a.1,12b.1つまり線材が重要である。これらの部分領域は、例えば同様に金から成る反射面上に配置されている。以下、これらの線材の間に配置された部分領域11.2,12a.2,12b.2を細隙と言う。
【0018】
図示された実施の形態中の本発明の装置のスケール10上には、測定方向xに沿って周期的に配置された高反射性の複数の線材11.1と複数の細隙11.2とから構成された1本の位置測定部11が、1本の担持要素13の表面中央に設けられている。この場合、これらの線材11.1又は細隙11.2の長手方向は、測定方向xに対して垂直に方向付けされている。この方向をy軸として定義する。これらの線材11.1の長さは、位置測定部11のトラックの幅bPMTに一致する。位置測定部11の部分周期をTPPMTで示す。
【0019】
本発明の装置の図示したこの実施形では、2本の案内誤差測定部12a,12bが、位置測定部11にその両側で隣接するようにスケール10の担持要素13上に設けられている。この場合、これらの案内誤差測定部12a,12bは、位置測定部11に対して垂直に配置されている。このことは、これらの両案内誤差測定部12a,12bの線材12a.1,12a.2つまりウェブ(Stege)及び細隙(Luecken)12a.2,12b.2が、測定長MLの全体にわたって測定方向xに対して平行に延在していることを意味する。案内誤差測定部12a,12bの両トラックの幅は等しく選択されている。以下、この幅をbGMTで示す;位置測定部11の中央のトラックに対する案内誤差測定部12a,12bの両トラックの間隔をそれぞれdで示す。両案内誤差測定部12a,12bは、等しい部分周期TPGMTを有する。基本的には、これらの両案内誤差測定部12a,12bは、中央の位置測定部11に対して直接連続して配置されてもよい。すなわち、d=0に選択してもよい。
【0020】
好適な実施形では、これらの異なる測定部11,12a,12bのTPMT,TPGMTが全て等しく形成されている。
【0021】
両走査ユニット20,30による走査信号の生成は、例えば出願人のヨーロッパ特許発明0387520号明細書中にそれぞれ詳しく説明されているような干渉作用の原理に基づいている。対応する測定システムが、LIP382の製品名で出願人によって販売される。それ故、信号の生成に関しては、ここでは上述した明細書を参照するだけでよい。
【0022】
図1中には、より良好に見えるようにとの理由で、走査ユニット20,30の各種の要素のうちの各走査部21,22だけが示されている。スケール10上の異なる測定部11、12a,12bに対するこれらの走査部21,31の示された向きから、左側の走査ユニット20が位置測定部11の走査に使用されることが分かる。この目的のために、この位置測定走査ユニット20のこの走査部21は、スケール10上の位置測定部11に対して同一方向に方向付けされている。その結果、この位置測定走査ユニット20によって周期的に変調された信号周期TPPMT/4の増算信号が、測定方向xに沿った相対運動時に生成される。これらの増算信号は、公知の方法でさらに処理され得る。したがって、こうして生成された位置測定信号は、スケール10に対する走査ユニット20の相対位置を測定方向xに沿って精確に測定するために使用される。すなわち、ヨーロッパ特許発明0387520号明細書の公知の装置と同じである。
【0023】
上述したLPI382のシステムを使用する場合、部分周期はTPMT=0.512μmであり、増算位置測定信号から生じる信号周期は0.128μmである。
【0024】
案内誤差走査ユニット30は、測定方向xにほぼ沿わせて、かつ位置測定走査ユニット20に対して垂直に配置されている。それに応じて、この走査ユニット30の走査部31も、位置測定走査ユニット20の走査部21に対して90°だけ回転して、すなわちy方向に配置されている。すなわち、スケール10上の両案内誤差測定部12a,12bの向きと同じである。したがって、場合によっては起こりうる案内誤差に起因したy方向の、すなわち測定方向xに対して垂直方向の相対運動も測定方向xに沿った運動時に発生すると、この相対運動は案内誤差走査ユニット30によって精確に測定される。それらの案内誤差測定信号は、場合によっては起こりうるy方向の相対運動の発生中に周期的に変調された増算信号を表す。これらの増算信号は、両両案内誤差測定部12a,12bを走査するために信号周期TPGMT/4を有する。これらの信号も、公知の方法で上述した評価ユニットによってさらに処理される。上述したように、関与した全ての測定部11,12a,12bの部分周期が等しく選択される場合は、LIP382システムを使用し、TPGMT=0.512μmのときに、増算した案内誤差測定信号の信号周期が0.128μmである。
【0025】
したがって、スケール10上の異なる部分トラック11,12a,12bの幅bGMT,bPMT及び間隔dを適切に寸法決めすることによって、ヨーロッパ特許発明0387520号明細書から公知の原理に基づく同一に構成された2つの走査ユニット20,30を確実に使用することができる。これらの走査ユニット20,30は、90°だけ回転させて対向して配置されるだけでよい。その他には、追加の両案内誤差測定部12a,12bだけがスケール10上に必要である。その結果、大きな測定経費をかけることなしに、ヨーロッパ特許発明0387520号明細書の公知の測定システムを本発明の装置に使用することができる。
【0026】
上述した事例による2つの分離した案内誤差走査ユニット20,30から成る配置とは別に、本発明の装置を変更することもできる。すなわち、例えば両走査ユニットの光学機能をただ1つの走査ユニットに統合することも可能である。このただ1つの走査ユニットはスケールに対して可動であるか、又は、逆にスケールがこの走査ユニットに対して可動である。この場合、特にさらにコンパクトなシステムを走査側上に実現することができる。
【0027】
図2中には、本発明の装置のさらなる概略的な部分が斜視図で示されている。この場合、異なる要素の空間的な向き、又は案内誤差測定時の走査光路をより良好に図式化するため、図1の案内誤差走査ユニット30の複数の要素のうちの幾つかの要素しか示されていない。図2中に示さなかった位置測定走査ユニットは、図2中に示されたこれらの要素に対して90°だけ回転しているものの先に述べたように同一の要素を有する。
【0028】
すなわち、それぞれの走査ユニットは、1つの光源32,1つのコリメーター35,1つの走査格子31,1つの逆反射構成ユニット33及び複数の検出要素34a,34b,34cを有する。まず、光源32から放出された光束が変換部材として形成された走査格子31に到達する前に、この光束はコリメーター35によって平行光線にされる。この入射した光束は、この走査格子31で異なる回折次数の複数の部分光束に回折される。次いで、少なくとも2つの回折次数、特に+/−1の次数が、案内誤差測定部12a,12bへ当たり、そこで新たに回折され、そして逆反射構成ユニット33方向に反射する。つまり、この実施の形態では、これらの両案内誤差測定部12a,12bの中心距離(Mittenabstand)がスケール上に衝突するこれらの回折次数の間隔に一致するように、この中心距離は選択されている。逆反射構成ユニット33の設計は、これらの入射した部分光束が両案内誤差測定部12a,12b方向に再び反射されることを保証する。逆反射構成ユニット33は、適切に寸法決めされた三重プリズム(Tripelprisma)として又は光学的に適した三面鏡(Tripelspiegel−Anordnung)として形成されている;これに関するさらなる詳細は、ヨーロッパ特許発明0387520号明細書を参照するとよい。両案内誤差測定部12a,12bへの新たな反射後、異なる部分光束が最終的に更新されて走査部31上に当たる。最後に、この走査部31は、それらの干渉する部分光束の対を全部で3つの検出要素34a,34b,34cへ向けて異なる空間方向に回折させる。案内誤差走査ユニット30がスケール10に対してy方向に相対運動すると、次いで周期的に変調された増算信号が、これらの3つの検出要素34a,34b,34cで最終的に出力される。この場合、これらの3つの検出要素34a,34b,34cの信号の間には、120°の位相のずれがある。
【0029】
以下に、本発明の装置の第2の実施の形態を図3に基づいて説明する。最初に説明した実施の形態が入射光形のシステムとして構成されている一方で、この装置は明らかに透過光形のシステムとしても構成され得ることを図3に基づいて具体的に説明する。この場合、図3は、特に案内誤差の測定つまり直進度を測定するときの走査光路を説明するためのスケール100と案内誤差走査ユニット300のy−z平面に沿った断面図である。スケール100と走査ユニット300は、測定方向xに連動するように配置されている。−図示しなかった−位置測定走査ユニットの配置に関しては、例えばヨーロッパ特許発明0387520号明細書中の図2を参照するとよい。この図2は、x−z平面内で位置を測定するための走査光路の状態を示す。
【0030】
同様に、スケール100の側面上には、中央に配置された1本の位置測定部111及び両側に隣接した複数の案内誤差測定部112a,112bが、今度は透過性の1本の担持要素113上に設けられている。この場合、この透過形のシステムでは、それぞれの測定部111,112a,112bが伝達部として、特に位相伝達部として形成されている。これらの両案内誤差測定部の断面から分かるように、これらの両案内誤差測定部はそれぞれ、の測定方向に沿って周期的に配置された複数のウェブと複数の細隙から構成される。この場合、ウェブと細隙は異なるステップ高さを有する。
【0031】
案内誤差走査ユニット300は、上述の実施の形態のように1つの光源132,1つのコリメーター135,1本の走査部131,三重プリズムとして形成された1つの逆反射構成ユニット133及び3つの光学的な検出要素134a,134b,134cを有する。まず、光源132から出射し、コリメーター135によって並行に指向された光束が、さらに走査部131到達する。この走査部131では、これらの光束が複数の異なる部分光束に回折つまり分割される。次いで、これらの回折された部分光束が、スケール100上のそれぞれの案内誤差測定部112a,112b上に当たり、今度はこれらの案内誤差測定部112a,112bによって透過中にさらに回折される。逆反射構成ユニット133による逆反射後、部分光束の干渉性の対が走査部131の平面内に最終的に発生される前に、これらの部分光束がこれらの両案内誤差測定部112a,112bを再び透過する。最後に、それぞれの干渉した部分光束が、走査部131によって検出要素134a,134b,134c方向に回折される。スケール100と案内誤差走査ユニット300とがy方向に相対運動したときに、位相のずれた増算信号がこれらの検出要素134a,134b,134cで発生する。
【0032】
明らかに、本発明の装置のこの第2の実施形のほかに、さらにその他の別の実施形もこの本発明の範囲内で実現可能である。すなわち、異なる走査信号を生成するために、例えばヨーロッパ特許発明第0311144号明細書から公知の走査原理をそれぞれの走査ユニットの側面に対して使用することも可能である。この場合も、従来の走査ユニットに対して90°だけ回転させて配置され、スケール上の位置測定部に隣接した同様に追加した両案内誤差測定部を走査する1つの同一の第2の走査ユニットしか必要としない。
【0033】
その他の公知の走査原理も、ほんの少しの変更だけで適切に適合させることができ、かつこの本発明の範囲内で使用することができる。
【0034】
さらに、明らかに本発明の装置は、別の案内誤差も、例えば特定の軸線周りの回転に関する案内誤差が検出され得るように変更することもできる。このとき、この目的のために、例えば既に上述したヨーロッパ特許第0082441号公開公報の図3,5等中で提唱されたような適切に追加した案内誤差測定ユニット又は案内誤差測定部を設ける必要がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の装置の第1の実施形の概略的な平面図である。
【図2】 図1の事例のスケールと案内誤差走査ユニットの一部の斜視図である。
【図3】 本発明の装置の第2の実施形における案内誤差を測定するための光路を示す。
【符号の説明】
10,100 スケール
11,111 位置測定部
12a,12b 案内誤差測定部
112a,112b 案内誤差測定部
13;113 担持要素
20,30 位置測定走査ユニット
21,31;131 走査部
30,300 案内誤差走査ユニット
31 走査格子
32,132 光源
33,133 逆反射構成ユニット
34a,34b,34c 検出要素
35 コリメーター
134a,134b,134c 検出要素
ML 全測定長

Claims (8)

  1. 位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置において、
    位置測定方向(x)に沿って配置された1本の位置測定部(11)を有する1本のスケール(10)を備え、この位置測定部(11)にその両側で隣接して配置された複数の案内誤差測定部(12a,12b)を備え、これらの案内誤差測定部(12a,12b)の部分領域が、前記位置測定部(11)の部分領域(11.1,11.2)に対して垂直に配置されていて、
    1つの位置測定走査ユニット(20)備え、この位置測定走査ユニット(20)とこの前記スケール(10)とが、互いに相対的に可動であり、この位置測定走査ユニット(20)が、前記位置測定部(11)を走査して位置測定信号を生成し、そして、
    少なくとも1つの案内誤差走査ユニット(30)備え、この案内誤差走査ユニット(30)が、前記位置測定走査ユニット(20)と一緒に前記スケール(10)に対して相対的に可動であり、前記少なくとも1つの案内誤差走査ユニット(30)が、前記案内誤差測定部(11)を走査して案内誤差測定信号を生成すること、
    前記位置測定走査ユニット(20)及び/又は前記案内誤差走査ユニット(30)は、1つの光源(32)、1つの走査部(21,31)、1つの逆反射構成ユニット(33)及び複数の検出要素(34a,34b,34c)を有すること、及び
    光束が前記検出要素(34a,34b,34c)上に衝突する前に、まず、前記光源(32)から放出されたその光束が、前記走査部(31)を透過し、次いで前記案内誤差測定部(12a,12b)上に衝突し、そしてこの案内誤差測定部(12a,12b)から前記逆反射構成ユニット(33)方向に反射され、この逆反射構成ユニット(33)が、この入射した光束を前記案内誤差測定部(12a,12b)方向に反射させ、この案内誤差測定部(12a,12b)から前記走査部(31)方向に再び反射するように、前記案内誤差走査ユニット(20)が、構成されていて且つ前記両案内誤差測定部(12a,12b)に対して配置されていることを特徴とする装置。
  2. 位置を測定しかつ案内誤差を算出する装置において、
    位置測定方向(x)に沿って配置された1本の位置測定部(111)を有する1本のスケール(100)を備え、この位置測定部(111)にその両側で隣接して配置された複数の案内誤差測定部(112a,112b)を備え、これらの案内誤差測定部(112a,112b)の部分領域が、前記位置測定部(111)の部分領域に対して垂直に配置されていて、
    1つの位置測定走査ユニットを備え、この位置測定走査ユニットとこの前記スケール(100)とが、互いに相対的に可動であり、この位置測定走査ユニットが、前記位置測定部(111)を走査して位置測定信号を生成し、そして、
    少なくとも1つの案内誤差走査ユニット(300)備え、この案内誤差走査ユニット(300)が、前記位置測定走査ユニットと一緒に前記スケール(100)に対して相対的に可動であり、前記少なくとも1つの案内誤差走査ユニット(300)が、前記案内誤差測定部(111)を走査して案内誤差測定信号を生成すること、
    前記位置測定走査ユニット及び/又は前記案内誤差走査ユニット(300)は、1つの光源(132)、1つの走査部(131)、1つの逆反射構成ユニット(133)及び複数の検出要素(34a,34b,34c)を有すること、及び
    光束が前記検出要素(134a,134b,134c)上に衝突する前に、まず、前記光源(132)から放出されたその光束が、前記走査部(131)を透過し、複数の部分光束に分割され、引き続き前記案内誤差測定部(112a,112b)上に衝突し、そして前記逆反射構成ユニット(133)方向に前記スケール(100)を透過し、この逆反射構成ユニット(133)が、入射した前記部分光束を前記案内誤差測定部(112a,112b)方向に反射させ、これらの部分光束が、前記走査部(131)方向に前記スケール(100)を透過するように、前記案内誤差走査ユニットが、構成されていて且つ前記両案内誤差測定部(112a,112b)に対して配置されていることを特徴とする装置。
  3. 前記両案内誤差測定部(12a,12b;112a,112b)はそれぞれ、前記位置測定部(11;111)と同一の部分周期を有し、全測定長(ML)にわたって延在していることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
  4. 前記位置測定部(11;111)及び前記案内誤差測定部(12a,12b;112a,112b)は、1つの共通の担持要素(13;113)の表面上に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
  5. 前記位置測定部(11)及び前記案内誤差測定部(12a,12b)はそれぞれ、反射式の測定部として形成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  6. 前記位置測定走査ユニット及び前記案内誤差走査ユニット(30;300)は、同一に形成されていて、かつ互いに垂直に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
  7. 同一に形成された前記位置測定走査ユニット(20)及び前記案内誤差走査ユニット(30)が使用可能であるように、前記両案内誤差測定部(12a,12b)及び前記位置測定部(11)のそれぞれの幅が前記位置測定方向(x)に対して垂直に寸法決めされていることを特徴とする請求項に記載の装置。
  8. 前記位置測定走査ユニット及び前記案内誤差走査ユニットは、1つの共通のハウジング内に配置されていて、このハウジングは、前記スケールに対して可動に前記位置測定方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10333772A1 (de) 2002-08-07 2004-02-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Interferenzielle Positionsmesseinrichtung
EP1931947A2 (en) * 2005-09-21 2008-06-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. System for detecting motion of a body
GB0523273D0 (en) * 2005-11-16 2005-12-21 Renishaw Plc Scale and readhead apparatus and method
US20070120048A1 (en) * 2005-11-25 2007-05-31 Lum Chee F Reflective encoder module
US7636165B2 (en) 2006-03-21 2009-12-22 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102008010284A1 (de) * 2008-02-21 2009-08-27 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh XY-Tisch mit einer Messanordnung zur Positionsbestimmung
DE102008025870A1 (de) * 2008-05-31 2009-12-03 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102018219072A1 (de) * 2018-11-08 2020-05-14 Hiwin Mikrosystem Corp. Codierer mit gezahnter Struktur und Vorrichtung mit demselben
CN111283475B (zh) * 2020-03-25 2021-01-01 中国第一重型机械股份公司 大型数控龙门铣床床身导轨精度的动态调整方法
CN111665781B (zh) * 2020-06-23 2021-05-04 成都工具研究所有限公司 一种自检型运动检测控制装置及方法
CN114894100B (zh) * 2022-05-12 2023-06-23 李里 位移检测装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0660085A1 (de) * 1993-12-22 1995-06-28 Troll, Christian, Dr.-Ing. habil. Absolutes Positionsmesssystem

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2540412B2 (de) 1975-09-11 1979-08-02 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Inkrementales Meßsystem
DE2948854A1 (de) 1979-12-05 1981-06-11 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Inkrementales messsystem
DE2952106C2 (de) 1979-12-22 1982-11-04 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Lichtelektrische inkrementale Längen- oder Winkelmeßeinrichtung
DE3037810C2 (de) 1980-10-07 1982-11-04 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Inkrementale Längen- oder Winkelmeßeinrichtung
DE3144334C2 (de) 1981-11-07 1985-06-13 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Wegmeßeinrichtung mit Referenzmarken
DE3150977A1 (de) 1981-12-23 1983-06-30 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Verfahren und einrichtung zur ermittlung und korrektur von fuehrungsfehlern
DE3204012C1 (de) 1982-02-05 1983-02-03 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Inkrementale Messeinrichtung
DE3245914C1 (de) 1982-12-11 1984-03-29 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Messeinrichtung
DE3308814C2 (de) 1983-03-12 1985-02-07 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Meßeinrichtung
EP0311144B1 (en) 1983-11-04 1993-07-14 Sony Magnescale, Inc. Optical instrument for measuring displacement
DE3542514A1 (de) 1985-12-02 1987-06-04 Zeiss Carl Fa Wegmesseinrichtung
DE3624485A1 (de) 1986-07-19 1988-01-21 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmesseinrichtung
JPH0758819B2 (ja) 1987-09-25 1995-06-21 株式会社東芝 半導体レーザ駆動装置
DE3834676A1 (de) * 1988-10-12 1990-04-19 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Photoelektrische positionsmesseinrichtung
DE3905730C2 (de) * 1989-02-24 1995-06-14 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmeßeinrichtung
DE3914739A1 (de) 1989-05-05 1990-11-08 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Inkrementale positionsmesseinrichtung mit referenzmarken
US5079418A (en) 1990-02-20 1992-01-07 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Position measuring apparatus with reflection
DE9116843U1 (de) 1991-10-04 1994-03-03 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 83301 Traunreut Meßeinrichtung für zwei Meßrichtungen
DE59102968D1 (de) 1991-11-02 1994-10-20 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmesseinrichtung für wenigstens eine Messrichtung.
EP0555507B1 (de) * 1992-02-14 1995-01-11 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Wegmesseinrichtung
DE4303161C2 (de) * 1993-02-04 1997-03-06 Zeiss Carl Fa Photoelektrisches Längen- bzw. Winkelmeßsystem mit einer Einrichtung zur Erfassung von Führungsfehlern
EP0662603B1 (de) 1993-12-08 1997-03-12 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Längenmesssystem
DE4428590C2 (de) 1994-08-12 1996-06-20 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmeßeinrichtung
DE19521295C2 (de) 1995-06-10 2000-07-13 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung
DE19748802B4 (de) * 1996-11-20 2010-09-09 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmeßeinrichtung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0660085A1 (de) * 1993-12-22 1995-06-28 Troll, Christian, Dr.-Ing. habil. Absolutes Positionsmesssystem

Also Published As

Publication number Publication date
EP1085291B1 (de) 2009-11-11
US6907372B1 (en) 2005-06-14
DE50015787D1 (de) 2009-12-24
ATE448466T1 (de) 2009-11-15
EP1085291A2 (de) 2001-03-21
DE10043635A1 (de) 2001-03-22
JP2001141521A (ja) 2001-05-25
EP1085291A3 (de) 2004-01-07

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