JPH0360035A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0360035A JPH0360035A JP1195460A JP19546089A JPH0360035A JP H0360035 A JPH0360035 A JP H0360035A JP 1195460 A JP1195460 A JP 1195460A JP 19546089 A JP19546089 A JP 19546089A JP H0360035 A JPH0360035 A JP H0360035A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding wire
- aluminum
- semiconductor device
- bonding
- semiconductor substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000013039 cover film Substances 0.000 abstract description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/0212—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers
- H01L2224/02122—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/02163—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body on the bonding area
- H01L2224/02165—Reinforcing structures
- H01L2224/02166—Collar structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/05624—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
- H01L2224/8592—Applying permanent coating, e.g. protective coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はボンディングワイヤで接続される半導体装置に
関し、特にその半導体装置の電極構造に関する。
関し、特にその半導体装置の電極構造に関する。
従来、この種の半導体装置は、第2図の断面図に示すよ
うに、半導体基板1の電極ポンディングパッド3はアル
ミニウムで構成され、このポンディングパッド3とパッ
ケージの電極とを接続するボンディングワイヤ6は、金
を主成分とする細線より構成され、ポンディングパッド
3に接続されている。
うに、半導体基板1の電極ポンディングパッド3はアル
ミニウムで構成され、このポンディングパッド3とパッ
ケージの電極とを接続するボンディングワイヤ6は、金
を主成分とする細線より構成され、ポンディングパッド
3に接続されている。
上述した従来の半導体装置は、ポンディングパッドの表
面がアルミニウムであるため、半導体装置の外部よりボ
ンディングワイヤを伝わって水分が侵入してきた場合に
、水分と半導体基板中のリン成分が反応してリン酸とな
り、ポンディングパッドを溶解してボンディングワイヤ
と半導体装置との電気的接続を無効にしてしまうという
欠点がある。
面がアルミニウムであるため、半導体装置の外部よりボ
ンディングワイヤを伝わって水分が侵入してきた場合に
、水分と半導体基板中のリン成分が反応してリン酸とな
り、ポンディングパッドを溶解してボンディングワイヤ
と半導体装置との電気的接続を無効にしてしまうという
欠点がある。
本発明は、半導体基板上の電極にボンディングワイヤが
接続された半導体装置において、前記半導体基板上のア
ルミニウム電極のボンディングワイヤと接続されている
部分以外の部分に酸化アルミニウム層を形成した半導体
装置である。
接続された半導体装置において、前記半導体基板上のア
ルミニウム電極のボンディングワイヤと接続されている
部分以外の部分に酸化アルミニウム層を形成した半導体
装置である。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。1は半導体
基板、2は半導体基板表面に形成された酸化膜、3゛は
アルミニウムのポンディングパッドで、4はPSGある
いはプラズマ窒化膜などのカバー膜である。この半導体
基板1とパッケージとを、ボンディングワイヤ6で接続
した後に、酸化雰囲気(例えば酸素90%、窒素10%
)中で400℃の温度で約1時間酸化する。そうすると
、露出したアルミニウムの表面が酸化アルミニウム5に
なる。
基板、2は半導体基板表面に形成された酸化膜、3゛は
アルミニウムのポンディングパッドで、4はPSGある
いはプラズマ窒化膜などのカバー膜である。この半導体
基板1とパッケージとを、ボンディングワイヤ6で接続
した後に、酸化雰囲気(例えば酸素90%、窒素10%
)中で400℃の温度で約1時間酸化する。そうすると
、露出したアルミニウムの表面が酸化アルミニウム5に
なる。
又、本実施例に適用するパッケージは、セラミックパッ
ケージでも樹脂モールドパッケージでもよい、特に樹脂
モールドパッケージの場合は、酸化アルミニウム形成時
にリードフレームにも酸化膜が形成されるが、樹脂モー
ルド後のリードめっき前に、酸化膜を除去することによ
って適用可能である。
ケージでも樹脂モールドパッケージでもよい、特に樹脂
モールドパッケージの場合は、酸化アルミニウム形成時
にリードフレームにも酸化膜が形成されるが、樹脂モー
ルド後のリードめっき前に、酸化膜を除去することによ
って適用可能である。
以上説明したように本発明は、ポンディングパッド表面
のボンディングワイヤとの接続部及びカバー膜で覆われ
た部分以外のアルミニウム表面を酸化して酸化アルミニ
ウム層を形成することにより、ボンディングワイヤを伝
わって半導体装置外部より侵入してくる水分でリン酸が
生成してポンディングパッドのアルミニウムが溶解し、
ボンディングワイヤとポンディングパッドの電気的接続
が切断されるという欠点を防ぐ効果がある。
のボンディングワイヤとの接続部及びカバー膜で覆われ
た部分以外のアルミニウム表面を酸化して酸化アルミニ
ウム層を形成することにより、ボンディングワイヤを伝
わって半導体装置外部より侵入してくる水分でリン酸が
生成してポンディングパッドのアルミニウムが溶解し、
ボンディングワイヤとポンディングパッドの電気的接続
が切断されるという欠点を防ぐ効果がある。
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図は従来の半
導体装置の断面図である。 1・・・半導体基板、2・・・酸化膜、3・・・ポンデ
ィングパッド、4・・・カバー膜、 5・・・酸化アル
ミニウム、6・・・ボンディングワイヤ。
導体装置の断面図である。 1・・・半導体基板、2・・・酸化膜、3・・・ポンデ
ィングパッド、4・・・カバー膜、 5・・・酸化アル
ミニウム、6・・・ボンディングワイヤ。
Claims (1)
- 半導体基板上の電極にボンディングワイヤが接続された
半導体装置において、前記半導体基板上のアルミニウム
電極のボンディングワイヤと接続されている部分以外の
部分に酸化アルミニウム層を形成したことを特徴とする
半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1195460A JPH0360035A (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1195460A JPH0360035A (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0360035A true JPH0360035A (ja) | 1991-03-15 |
Family
ID=16341444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1195460A Pending JPH0360035A (ja) | 1989-07-27 | 1989-07-27 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0360035A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0753890A3 (en) * | 1995-07-14 | 1997-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrode structure for semiconductor device, method of making the same, and mounted body comprising a semiconductor device |
-
1989
- 1989-07-27 JP JP1195460A patent/JPH0360035A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0753890A3 (en) * | 1995-07-14 | 1997-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrode structure for semiconductor device, method of making the same, and mounted body comprising a semiconductor device |
US6603207B2 (en) | 1995-07-14 | 2003-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrode structure for semiconductor device, method for forming the same, mounted body including semiconductor device and semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6132535A (ja) | センサの製造方法 | |
JPH0360035A (ja) | 半導体装置 | |
JPS61237459A (ja) | 半導体装置用リ−ドフレ−ム | |
JPS5821850A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS59154054A (ja) | ワイヤおよびそれを用いた半導体装置 | |
JPS5951139B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製法 | |
JPS6060742A (ja) | リ−ドフレ−ム | |
JPS61139050A (ja) | リ−ドフレ−ム | |
JPS62296541A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS60150657A (ja) | レジンモ−ルド半導体装置 | |
JPS62260343A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0574831A (ja) | 半導体装置 | |
JPS62235763A (ja) | 半導体装置用リ−ドフレ−ム | |
JPS6046038A (ja) | 集積回路装置 | |
JP2003318346A (ja) | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JPH11150208A (ja) | 半導体素子の実装方法 | |
JPS5833848A (ja) | 半導体装置 | |
JPS5827334A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6340333A (ja) | 半導体装置 | |
JP2707659B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS63133537A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS61121348A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0529379A (ja) | 半導体装置およびそれの製造方法 | |
JPS62219541A (ja) | 半導体装置 | |
JPS62205650A (ja) | 半導体装置用基板 |