JPH0356429A - 縮合環含有化合物の製造方法 - Google Patents
縮合環含有化合物の製造方法Info
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- JPH0356429A JPH0356429A JP1189561A JP18956189A JPH0356429A JP H0356429 A JPH0356429 A JP H0356429A JP 1189561 A JP1189561 A JP 1189561A JP 18956189 A JP18956189 A JP 18956189A JP H0356429 A JPH0356429 A JP H0356429A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はペルヒドロジメタノナフタレン骨格を有する化
合物の製造方法に関する。
合物の製造方法に関する。
本発明の方法によシ製造される化合物は各種の構造材料
、機能材科として有用な高分子化合物として用いられる
。
、機能材科として有用な高分子化合物として用いられる
。
従来、ノルボルナン骨格またはペルヒドロうタノナフタ
レン骨格を有するジメタノ二ル化合物とアルキレンジカ
ルボン酸、シクロアルキレンジカルボン酸、アルキレン
ビスアリーレンジカルボン酸またはアリーレンアルキレ
ンジカルボン酸等から得られるポリエステルは寸法安定
性に優れており、写真用フイルムのペースなどに用いら
れることが知られている(米国防衛特許第$96.03
3号明細書参R)。
レン骨格を有するジメタノ二ル化合物とアルキレンジカ
ルボン酸、シクロアルキレンジカルボン酸、アルキレン
ビスアリーレンジカルボン酸またはアリーレンアルキレ
ンジカルボン酸等から得られるポリエステルは寸法安定
性に優れており、写真用フイルムのペースなどに用いら
れることが知られている(米国防衛特許第$96.03
3号明細書参R)。
上記のジメタノール化合物と芳香族ジカルボン酸よシ得
られるポリエステルのうち,ペルヒドロジメタノナフタ
レン骨格を有するポリエステルは高いガラス転移温度を
有することが知られている〔ジャーナル・オプ・ボリマ
ー・サイエンス:ボリマー●ケミストリイ●エデイシロ
ン( Journalof Polymer Sc
ience : Polymer Chemis
tryEdition ) , 1 0巻,3191
頁(1972年)参照〕。
られるポリエステルのうち,ペルヒドロジメタノナフタ
レン骨格を有するポリエステルは高いガラス転移温度を
有することが知られている〔ジャーナル・オプ・ボリマ
ー・サイエンス:ボリマー●ケミストリイ●エデイシロ
ン( Journalof Polymer Sc
ience : Polymer Chemis
tryEdition ) , 1 0巻,3191
頁(1972年)参照〕。
この文献には、上記のジメタノール化合物の製造方法と
して、フマル酸のジエチルエステルとシクロベンタジエ
ンからディールスーアルy − (Dials−Ald
er)反応によbノルボルネン骨格!たはノルボルネン
の累積した骨格を有する化合物を得、次いで該化合物を
パラジウム触媒の存在下に行う二重結合の水添反応に付
してノルボルナン骨格またはノルボルナンの累積した骨
格を有する化合物に変換させた後、鋼一クロマイト触媒
の存在下に行うエステル部分の還元反応に付することに
よb該ジメタノール化合物を製造する方法が開示されて
いる。
して、フマル酸のジエチルエステルとシクロベンタジエ
ンからディールスーアルy − (Dials−Ald
er)反応によbノルボルネン骨格!たはノルボルネン
の累積した骨格を有する化合物を得、次いで該化合物を
パラジウム触媒の存在下に行う二重結合の水添反応に付
してノルボルナン骨格またはノルボルナンの累積した骨
格を有する化合物に変換させた後、鋼一クロマイト触媒
の存在下に行うエステル部分の還元反応に付することに
よb該ジメタノール化合物を製造する方法が開示されて
いる。
また、2−プテンー1.4−ジオールとジシクロペンタ
ジエンとからノルボルネンー2.3−ジメタノールが製
造されることが知られている(英国特許第796.13
5号明細書参照)。
ジエンとからノルボルネンー2.3−ジメタノールが製
造されることが知られている(英国特許第796.13
5号明細書参照)。
ペルヒド^タノナフタレン骨格を有するジメタノール化
合物を製造する上記の方法においては、フマル酸ジエチ
ルとシクロペンタジェンよう得られるベルヒドロー1.
4:5.8−ジメタノナフタレンートランス−2.3−
ジカルボン酸ジエチルを200℃%4,400 psi
(約300気圧)の水素加圧下での18時間を要する
反応に付することによつて、収率44.8噂でベルヒド
ロー1,4:5,8−ジメタノナフタレンートランス−
2.3−ジメタノールを得ているように、ベルヒドロジ
メタノナフタレン骨格を有するジエステル化合物をジメ
タノール化合物に変換する還元反応を高温かつ高圧の水
素下という苛酷な条件下で長時間行う必要があシ,シか
も目的とするジメタノール化合物の収率が著しく低いと
いう問題点がある。
合物を製造する上記の方法においては、フマル酸ジエチ
ルとシクロペンタジェンよう得られるベルヒドロー1.
4:5.8−ジメタノナフタレンートランス−2.3−
ジカルボン酸ジエチルを200℃%4,400 psi
(約300気圧)の水素加圧下での18時間を要する
反応に付することによつて、収率44.8噂でベルヒド
ロー1,4:5,8−ジメタノナフタレンートランス−
2.3−ジメタノールを得ているように、ベルヒドロジ
メタノナフタレン骨格を有するジエステル化合物をジメ
タノール化合物に変換する還元反応を高温かつ高圧の水
素下という苛酷な条件下で長時間行う必要があシ,シか
も目的とするジメタノール化合物の収率が著しく低いと
いう問題点がある。
本発明の目的は,ベルヒドロジメタノナフタレン骨格を
有するジメタノール化合物およびそのカルボン酸エステ
ルを工業的に有利に製造するための方法を提供すること
にある。
有するジメタノール化合物およびそのカルボン酸エステ
ルを工業的に有利に製造するための方法を提供すること
にある。
本発明によれば,上記の目的は,下記一般式(自)Rl
10CHzCH=CHC}hOR,社 (I[
)(式中 BllおよびR21はそれぞれ水素原子會た
はアシル基を表す。) で示される化合物とシクロペンタジェンまたはジシクロ
ベンタジエンを反応させ、得られた下記一般式(n) (式中、R11およびH,21は上記に定義したとおシ
である。) で示される化合物を水Ig添加反応に付するが、または
該一般式(II)で示される化合物を加水分解反応に付
したのち、その加水分解物を水素添加反応に付し,得ら
れた下記一般式(1−1)(式中,R12およびR,″
はそれぞれBll ..または1%”と同一または異i
り,水素原子またはアシル基を表す。) で示される化合物を必要に応じて加水分解反応に付する
ことを特徴とする下記一般式(1−2)(式中 H,l
およびR2はそれそれR12またはB22と同一または
異なb1水素原子またはアシル基を表す。) で示される化合物の製造方法を提供することによって達
威される。
10CHzCH=CHC}hOR,社 (I[
)(式中 BllおよびR21はそれぞれ水素原子會た
はアシル基を表す。) で示される化合物とシクロペンタジェンまたはジシクロ
ベンタジエンを反応させ、得られた下記一般式(n) (式中、R11およびH,21は上記に定義したとおシ
である。) で示される化合物を水Ig添加反応に付するが、または
該一般式(II)で示される化合物を加水分解反応に付
したのち、その加水分解物を水素添加反応に付し,得ら
れた下記一般式(1−1)(式中,R12およびR,″
はそれぞれBll ..または1%”と同一または異i
り,水素原子またはアシル基を表す。) で示される化合物を必要に応じて加水分解反応に付する
ことを特徴とする下記一般式(1−2)(式中 H,l
およびR2はそれそれR12またはB22と同一または
異なb1水素原子またはアシル基を表す。) で示される化合物の製造方法を提供することによって達
威される。
一般式(1−2)におけるR1およびB2,一般式(1
−1)におけるBl2および炉,ならびに一般式(II
)および一般式(1)におけるH,11およびH,21
がそれぞれ表すアシル基としては,炭素数2〜5のアシ
ル基が好1し〈、その具体例として次のものが挙げられ
る。
−1)におけるBl2および炉,ならびに一般式(II
)および一般式(1)におけるH,11およびH,21
がそれぞれ表すアシル基としては,炭素数2〜5のアシ
ル基が好1し〈、その具体例として次のものが挙げられ
る。
本発明の方法においては、筐ず一般式(II)で示され
る化合物とシクロペンタジエンまたはジシクロペンタジ
エンを反応させることによb1一般式(II)で示され
る1+ 2.3+ 41 4”+ 5+ 8+ 8’
− オクタヒドロー1,435,8−ジメタノナフタ
レン−2.3−ジメタノールおよびそのジカルボキシレ
ートが製造される。一般式(In)で示される化合物と
しては、H,11およびB21がともに水素原子である
2−プテンー1.4−ジオールよシ4 R”およびB2
1がともにアシル基である2−プテンー1,4−ジオー
ル ジカルボ中シレートを用いる方が、反応速度が大で
あb,かつ一般式(n)で示される化合物の収率がよい
ことから好ましい。一般式(III)においてH,11
およびR!lがアセチル基である化合物、すなわち,1
.4−ジアセトキシ−2−ブテンを用いるのが特に好1
しい。なお、一般式(III)で示される化合物はトラ
ンス体、シス体またはそれらの混合物のイスれであって
もよく,これらの幾何異性体に対応した一般式(U)で
示される化合物の幾何異性体が得られる。シクロペンタ
ジエンは一般式(III)で示される化合物1モルに対
して2モル倍以上の量で用いるのが好會しい。ジシクロ
ベンタジエンはこれをシクロベンタジエンに換算した量
が該シクロペンタジエンの使用量となるような量で用い
るのが好オしい0なおtシクロベンタジエンはそれ自体
重合し易い化合物であることから、一般式(I[[)で
示される化合物1モルに対して最終的に2モル倍以上と
なるように反応系中に連続的または断続的に供給し、反
応系中でのシクロペンタジエンの濃度が1n高〈ならな
いように制御することが好ましい結果を与える。シクロ
ペンタジエンの使用量が一般式(III)で示される化
合物に対して2モル倍ようも少ない場合は、一般式(I
I)で示される化合物の収率が低いことから好1しくな
い。シクロペンタジエンまたはジシクロペンタジエンの
使用量の上限は通常はシクロペンタジエンに換算した量
で一般式(1)で示される化合物に対して5モル倍以下
であることが適当である。この反応は溶媒の不存在下で
行うことも可能であるが、適当な有機溶媒の存在下で行
うのが一般式(n)で示される化合物の収率が良好とな
る点で好1しい。有機溶媒トシてはべ冫ゼン、トルエン
.キシレン、テトラヒドロフラン,メタノール、エタノ
ール、グロパノール、プタノール、酢酸エチル、1.4
−ジオキサン、塩化メチレン,クロロホルム, N−メ
fルピロリドン等を使用することが好ましい。反応は通
常約100℃から300℃の範囲内の温度で実施される
。ジシクロペンタジエンを用いる場合ニハ、ジシクロペ
ンタジエンのシクロペンタジエンへの熱分解を容易にす
るために通常160℃以上の湿度で反応を行うのが望ま
しい。反応時間は約10分間ないし100時間、好筐し
くは約30分間ないし30時間の範囲内である。
る化合物とシクロペンタジエンまたはジシクロペンタジ
エンを反応させることによb1一般式(II)で示され
る1+ 2.3+ 41 4”+ 5+ 8+ 8’
− オクタヒドロー1,435,8−ジメタノナフタ
レン−2.3−ジメタノールおよびそのジカルボキシレ
ートが製造される。一般式(In)で示される化合物と
しては、H,11およびB21がともに水素原子である
2−プテンー1.4−ジオールよシ4 R”およびB2
1がともにアシル基である2−プテンー1,4−ジオー
ル ジカルボ中シレートを用いる方が、反応速度が大で
あb,かつ一般式(n)で示される化合物の収率がよい
ことから好ましい。一般式(III)においてH,11
およびR!lがアセチル基である化合物、すなわち,1
.4−ジアセトキシ−2−ブテンを用いるのが特に好1
しい。なお、一般式(III)で示される化合物はトラ
ンス体、シス体またはそれらの混合物のイスれであって
もよく,これらの幾何異性体に対応した一般式(U)で
示される化合物の幾何異性体が得られる。シクロペンタ
ジエンは一般式(III)で示される化合物1モルに対
して2モル倍以上の量で用いるのが好會しい。ジシクロ
ベンタジエンはこれをシクロベンタジエンに換算した量
が該シクロペンタジエンの使用量となるような量で用い
るのが好オしい0なおtシクロベンタジエンはそれ自体
重合し易い化合物であることから、一般式(I[[)で
示される化合物1モルに対して最終的に2モル倍以上と
なるように反応系中に連続的または断続的に供給し、反
応系中でのシクロペンタジエンの濃度が1n高〈ならな
いように制御することが好ましい結果を与える。シクロ
ペンタジエンの使用量が一般式(III)で示される化
合物に対して2モル倍ようも少ない場合は、一般式(I
I)で示される化合物の収率が低いことから好1しくな
い。シクロペンタジエンまたはジシクロペンタジエンの
使用量の上限は通常はシクロペンタジエンに換算した量
で一般式(1)で示される化合物に対して5モル倍以下
であることが適当である。この反応は溶媒の不存在下で
行うことも可能であるが、適当な有機溶媒の存在下で行
うのが一般式(n)で示される化合物の収率が良好とな
る点で好1しい。有機溶媒トシてはべ冫ゼン、トルエン
.キシレン、テトラヒドロフラン,メタノール、エタノ
ール、グロパノール、プタノール、酢酸エチル、1.4
−ジオキサン、塩化メチレン,クロロホルム, N−メ
fルピロリドン等を使用することが好ましい。反応は通
常約100℃から300℃の範囲内の温度で実施される
。ジシクロペンタジエンを用いる場合ニハ、ジシクロペ
ンタジエンのシクロペンタジエンへの熱分解を容易にす
るために通常160℃以上の湿度で反応を行うのが望ま
しい。反応時間は約10分間ないし100時間、好筐し
くは約30分間ないし30時間の範囲内である。
このようにして得られた一般式(II)で示される化合
物を水素添加反応に付すことによυ一般式(1−1)で
示される化合物が製造される。水素添加反応は水素ガス
の存在下、通常は適当な触媒の共存下で実施される。触
媒としては水素添加反応に一般に使用される触媒が使用
されるが、例えば,還元ニッケルM媒、ラネーニッケル
M媒.コバルト触媒、鉄触媒、鋼触媒,銅一クロム触媒
、白金触媒,パラジウム触媒,ロジウム触媒、ルテニウ
ム触媒、イリジウム触媒,レニウム触媒等を挙げること
ができる。これらの触媒は均一系または不均一系のいず
れでもよい。触媒は一般式(It)で示される化合物に
対して0.001 − 1 0重量噂の範囲内の量で使
用される。水素ガスの圧力としては1気圧から300気
圧,好ましくは1気圧から100気圧の範囲内である。
物を水素添加反応に付すことによυ一般式(1−1)で
示される化合物が製造される。水素添加反応は水素ガス
の存在下、通常は適当な触媒の共存下で実施される。触
媒としては水素添加反応に一般に使用される触媒が使用
されるが、例えば,還元ニッケルM媒、ラネーニッケル
M媒.コバルト触媒、鉄触媒、鋼触媒,銅一クロム触媒
、白金触媒,パラジウム触媒,ロジウム触媒、ルテニウ
ム触媒、イリジウム触媒,レニウム触媒等を挙げること
ができる。これらの触媒は均一系または不均一系のいず
れでもよい。触媒は一般式(It)で示される化合物に
対して0.001 − 1 0重量噂の範囲内の量で使
用される。水素ガスの圧力としては1気圧から300気
圧,好ましくは1気圧から100気圧の範囲内である。
反応温度としては室温から300″C,好筐しくは室温
から200℃の範囲内である。反応時間は1分間から5
0時間の範囲以内から選ばれる。なお、水素ガスの圧力
、反応温度および反応時間は使用する触媒の種類に応じ
て上紀の範囲内から適宜選ばれる。水素添加反応は溶媒
の不存在下で行うことも可能であるが,通常は適当な有
機溶媒の存在下で行われる。有機溶媒トシてはベンゼン
、トルエン、キシレン、テトラヒ゛ドロフ・ラン、メタ
ノール、エタノール、グロパノール、プタノール,酢酸
エチル、1.4−ジオキサン、および生成物である一般
式(1−1>で示される化合物等を使用することができ
る。反応は攪拌槽型反応器,気泡塔型反応器,充填塔型
反応器等の一般の水素添加反応に用いられる任意の形状
の反応器を用いることができる。
から200℃の範囲内である。反応時間は1分間から5
0時間の範囲以内から選ばれる。なお、水素ガスの圧力
、反応温度および反応時間は使用する触媒の種類に応じ
て上紀の範囲内から適宜選ばれる。水素添加反応は溶媒
の不存在下で行うことも可能であるが,通常は適当な有
機溶媒の存在下で行われる。有機溶媒トシてはベンゼン
、トルエン、キシレン、テトラヒ゛ドロフ・ラン、メタ
ノール、エタノール、グロパノール、プタノール,酢酸
エチル、1.4−ジオキサン、および生成物である一般
式(1−1>で示される化合物等を使用することができ
る。反応は攪拌槽型反応器,気泡塔型反応器,充填塔型
反応器等の一般の水素添加反応に用いられる任意の形状
の反応器を用いることができる。
一般式(III)においてBuおよびB21がともにア
シル基である化合物を用いて一般式(1−2)において
81およびR2がともに水素原子である化合物、すナワ
チ,ベルヒドロー1.4:5.8−ジメタノナフタレン
−2.3−ジメタノールを製造する場合には,一般式(
1−1)においてR1およびR2がともにアシル基であ
る化合物を製造したのち、該一般式(l一1)で示され
る化合物を加水分解反応に付することによシ製造するこ
とができるほか、一般式(It)においてBuおよびR
21がともにアシル基である化合物を製造し、該一般式
(n)で示される化合物を加水分解反応に付することに
よb一般式(1−1)においてB12およびFL22が
ともに水素原子である化合物に変換したのち、咳一般式
( 1−1 )で示される化合物を水素添加反応に付す
ることにより製造することも可能である。
シル基である化合物を用いて一般式(1−2)において
81およびR2がともに水素原子である化合物、すナワ
チ,ベルヒドロー1.4:5.8−ジメタノナフタレン
−2.3−ジメタノールを製造する場合には,一般式(
1−1)においてR1およびR2がともにアシル基であ
る化合物を製造したのち、該一般式(l一1)で示され
る化合物を加水分解反応に付することによシ製造するこ
とができるほか、一般式(It)においてBuおよびR
21がともにアシル基である化合物を製造し、該一般式
(n)で示される化合物を加水分解反応に付することに
よb一般式(1−1)においてB12およびFL22が
ともに水素原子である化合物に変換したのち、咳一般式
( 1−1 )で示される化合物を水素添加反応に付す
ることにより製造することも可能である。
一般式.(■)で示される2−ブテンー1.4−ジオー
ル ジカルボキシレートは、例えば,パラジウム触媒の
存在下にプタジエン、低級カルポン酸および酸素を反応
させることにより容易K製造できる(特公昭52−12
172号公報参照)。2−プテンー1.4−ジオールは
2−プテンー1.4−ジオール ジカルボキシレートを
加水分解することによシ製造することができ,またアセ
チレンとホルマリンとからレツペ反応によう製造するこ
ともできる。なお、2−プテンー1. 4−ジオールか
ら2一プテンー1.4−ジオール ジカルボキシレート
を製造することも可能である。
ル ジカルボキシレートは、例えば,パラジウム触媒の
存在下にプタジエン、低級カルポン酸および酸素を反応
させることにより容易K製造できる(特公昭52−12
172号公報参照)。2−プテンー1.4−ジオールは
2−プテンー1.4−ジオール ジカルボキシレートを
加水分解することによシ製造することができ,またアセ
チレンとホルマリンとからレツペ反応によう製造するこ
ともできる。なお、2−プテンー1. 4−ジオールか
ら2一プテンー1.4−ジオール ジカルボキシレート
を製造することも可能である。
本発明の製造方法によれば,前記の従来法によるジエス
テル化合物の高温かつ高圧水素下での還元反応を経ずに
温和な条件下でペルヒドロ−1.4:5.8−ジメタノ
ナフタレン−2.3−ジメタノール喧たはそのジカルボ
キシレートを高収率で製造することが可能である。
テル化合物の高温かつ高圧水素下での還元反応を経ずに
温和な条件下でペルヒドロ−1.4:5.8−ジメタノ
ナフタレン−2.3−ジメタノール喧たはそのジカルボ
キシレートを高収率で製造することが可能である。
本発明の方法によb得られる一般式(1−2)で示され
る化合物は公知の方法に従って各種の構造材科,機能材
科として有用なポリエステル,ポリカーポネートまたは
ポリエステルカーボネートに容易に誘導することができ
る。
る化合物は公知の方法に従って各種の構造材科,機能材
科として有用なポリエステル,ポリカーポネートまたは
ポリエステルカーボネートに容易に誘導することができ
る。
以下,実施例によb本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例によシ伺ら制限されるものではない
。なお、1H−NMRスペクトルは重クロロホルム中で
測定し求めたものである。
明はこれらの実施例によシ伺ら制限されるものではない
。なお、1H−NMRスペクトルは重クロロホルム中で
測定し求めたものである。
実施例1
電磁攪拌装置を備えた内容1tのオートクレープにトラ
ンス−2−プテンー1.4−ジオール ジアセテ−}1
209,ジシクロペンタジエン60tおよびキシレン3
00Fを仕込み、窒素ガスで系内を置換した。次いで、
オートクレープの内温を220℃に昇温し、同温度で攪
拌下に3時間反応させた。次に,定量ポンプを用いてジ
シクロペンタジエン60fをオートクレープに供給した
。
ンス−2−プテンー1.4−ジオール ジアセテ−}1
209,ジシクロペンタジエン60tおよびキシレン3
00Fを仕込み、窒素ガスで系内を置換した。次いで、
オートクレープの内温を220℃に昇温し、同温度で攪
拌下に3時間反応させた。次に,定量ポンプを用いてジ
シクロペンタジエン60fをオートクレープに供給した
。
さらに同温度で3時間攪拌を続けた。反応終了後、反応
混合液を減圧蒸留に付することによb,沸点200℃/
5園H,以上の留分を112F!!た。マススペクトル
および’HNMRによる分析の結果,この留分は1,
2, 3, 4, 4a, 5, 8. 8a−オクタ
ヒド口−1,4:5.8−ジメタノナフタレンートラン
ス−2,3−ジメタノール ジアセテートであることが
確かめられた。な$−, 1H−NMRスペクトルは
次のとおりであった。
混合液を減圧蒸留に付することによb,沸点200℃/
5園H,以上の留分を112F!!た。マススペクトル
および’HNMRによる分析の結果,この留分は1,
2, 3, 4, 4a, 5, 8. 8a−オクタ
ヒド口−1,4:5.8−ジメタノナフタレンートラン
ス−2,3−ジメタノール ジアセテートであることが
確かめられた。な$−, 1H−NMRスペクトルは
次のとおりであった。
0.9 ppm 〜2.3 ppm : 1 8 H3
.7PPm 〜4.2ppm: 4H(酸素原子に結
合したメチレン基のプロトン)6. 0 ppm’n
: 2 H(二重結合のプロトン) 上記と同じ内容1jのオートクレープに、1,2,3,
4. 4&, 5, 8. 81L−オクタヒドCI
−1.4:5.8−ジメタノナフタレンートランス−2
.3−ジメタノール ジアセテー}40f.メタノール
400suおよび5チのパラジウムを担持した活性炭触
媒1Fを仕込み,系内を水素ガスで充分置換したのち、
水素ガスを30気圧仕込み,100℃で2時間攪拌した
。冷却後,反応液を取出し,触媒を濾別したのち,メタ
ノールを除去した。残渣をア七トンよう再結晶すること
によう,白色結晶39tを得た。得られた結晶の1H−
NMRスペクトルは次のとシシであυ,該結晶はペルヒ
ドロー1. 4 : 5. 8 −ジメタノナフタレン
ートランス−2.3−ジメタノール ジアセテートであ
ることが確かめられた。
.7PPm 〜4.2ppm: 4H(酸素原子に結
合したメチレン基のプロトン)6. 0 ppm’n
: 2 H(二重結合のプロトン) 上記と同じ内容1jのオートクレープに、1,2,3,
4. 4&, 5, 8. 81L−オクタヒドCI
−1.4:5.8−ジメタノナフタレンートランス−2
.3−ジメタノール ジアセテー}40f.メタノール
400suおよび5チのパラジウムを担持した活性炭触
媒1Fを仕込み,系内を水素ガスで充分置換したのち、
水素ガスを30気圧仕込み,100℃で2時間攪拌した
。冷却後,反応液を取出し,触媒を濾別したのち,メタ
ノールを除去した。残渣をア七トンよう再結晶すること
によう,白色結晶39tを得た。得られた結晶の1H−
NMRスペクトルは次のとシシであυ,該結晶はペルヒ
ドロー1. 4 : 5. 8 −ジメタノナフタレン
ートランス−2.3−ジメタノール ジアセテートであ
ることが確かめられた。
0.8 〜2.3 Ppnl: 2 2H3.7〜4.
3ppm: 4H (酸素原子に結合したメチレン基のプロトン)実施N2 攪拌装置および還流冷却器を備えた内容500tの三つ
口フラスコに実施例1におけると同様の方法で得たベル
ヒド口−1.4:5.8−ジメタノナフタレンートラン
ス−2.3−ジメタノール ジアセテート20t,メタ
ノール3 0 0x/および5%水酸化ナトリウム水f
fjfi120−を仕込み,3時間還流下に反応させた
。エバボレータを用いて約240−のメタノールを留去
したのち、エーテル抽出および濃縮によ,!)13Fの
白色粉末を得た。
3ppm: 4H (酸素原子に結合したメチレン基のプロトン)実施N2 攪拌装置および還流冷却器を備えた内容500tの三つ
口フラスコに実施例1におけると同様の方法で得たベル
ヒド口−1.4:5.8−ジメタノナフタレンートラン
ス−2.3−ジメタノール ジアセテート20t,メタ
ノール3 0 0x/および5%水酸化ナトリウム水f
fjfi120−を仕込み,3時間還流下に反応させた
。エバボレータを用いて約240−のメタノールを留去
したのち、エーテル抽出および濃縮によ,!)13Fの
白色粉末を得た。
マススペクトルによる分析の結果,この粉末はペルヒ}
”o − 1,4 : 5,8−シメタノナフタレンー
トランス−2.3−ジメタノールであることが確かめら
れた。なお、このものの1H−NMR,スペクトルは次
のとおシであった。
”o − 1,4 : 5,8−シメタノナフタレンー
トランス−2.3−ジメタノールであることが確かめら
れた。なお、このものの1H−NMR,スペクトルは次
のとおシであった。
0.8 〜2.O PPm ! 1 2H2.0
〜2.3ppm: 4H (ノルボルナン骨格橋頭位のプロトン)3. 0 〜3
. 8 ppm : 6 H(酸素原子に結合した
メチレン基のプロトンおよび水酸基のプロトン) 実施例3 実施例2においてベルヒドロ−1.4:5.8−シメタ
ノナフタレンートランス−2.3−ジメタノール ジア
セテー}20fの代bに実施例1におけると同様の方法
で得た1, 2, 3, 4, 4al 5. 8.
8&−オクタヒト口−1,4:5,8−ジメタノナフタ
レンートランス−2.3−ジメタノール ジアセテー}
202を用いた以外は同様な操作により加水分解を行っ
た。得られた粉末142を用いて実施例1におけると同
様にして水素添加反応を行った。冷却後、反応液を取出
し.M媒を濾別したのら.メタノールを除去した。残渣
をエタノールにょう再結晶することによb1白色結晶1
22を得た。マススペクトルおよび’H−NMRスペク
トルによる分析の結果,該結晶はベルヒドロ−1. 4
: 5. 8−ジメタノナフタレンートランス−2.
3−ジメタノールであることが確かめられた。
〜2.3ppm: 4H (ノルボルナン骨格橋頭位のプロトン)3. 0 〜3
. 8 ppm : 6 H(酸素原子に結合した
メチレン基のプロトンおよび水酸基のプロトン) 実施例3 実施例2においてベルヒドロ−1.4:5.8−シメタ
ノナフタレンートランス−2.3−ジメタノール ジア
セテー}20fの代bに実施例1におけると同様の方法
で得た1, 2, 3, 4, 4al 5. 8.
8&−オクタヒト口−1,4:5,8−ジメタノナフタ
レンートランス−2.3−ジメタノール ジアセテー}
202を用いた以外は同様な操作により加水分解を行っ
た。得られた粉末142を用いて実施例1におけると同
様にして水素添加反応を行った。冷却後、反応液を取出
し.M媒を濾別したのら.メタノールを除去した。残渣
をエタノールにょう再結晶することによb1白色結晶1
22を得た。マススペクトルおよび’H−NMRスペク
トルによる分析の結果,該結晶はベルヒドロ−1. 4
: 5. 8−ジメタノナフタレンートランス−2.
3−ジメタノールであることが確かめられた。
本発明の方法によれば、温和な条件下でベルヒドロ−1
,4:5,8−ジメタノナフタレン−2,3一ジメタノ
ールまたはそのジヵルボキシレートが高収率で製造でき
る。本発明によれば,従来提案されている方法に比べて
工業的に有利なベルヒド口−1,4:5,8−ジメタノ
ナフタレン−2,3−ジメタノールまたはそのジカルボ
キシレートの製造方法が提供される。
,4:5,8−ジメタノナフタレン−2,3一ジメタノ
ールまたはそのジヵルボキシレートが高収率で製造でき
る。本発明によれば,従来提案されている方法に比べて
工業的に有利なベルヒド口−1,4:5,8−ジメタノ
ナフタレン−2,3−ジメタノールまたはそのジカルボ
キシレートの製造方法が提供される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式(III) R^1^1OCH_2CH=CHCH_2OR^2^1
(III)(式中、R^1^1およびR^2^1はそれぞ
れ水素原子またはアシル基を表す。) で示される化合物とシクロペンタジエンまたはジシクロ
ペンタジエンを反応させ、得られた下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1^1およびR^2^1は上記に定義した
とおりである。) で示される化合物を水素添加反応に付するか、または該
一般式(II)で示される化合物を加水分解反応に付した
のち、その加水分解物を水素添加反応に付し、得られた
下記一般式( I −1) ▲数式、化学式、表等があります▼( I −1) (式中、R^1^2およびR^2^2はそれぞれR^1
^1またはR^2^1と同一または異なり、水素原子ま
たはアシル基を表す。) で示される化合物を必要に応じて加水分解反応に付する
ことを特徴とする下記一般式( I −2)▲数式、化学
式、表等があります▼( I −2) (式中、R^1およびR^2はそれぞれR^1^2また
はR^2^2と同一または異なり、水素原子またはアシ
ル基を表す。) で示される化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1189561A JP2721550B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 縮合環含有化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1189561A JP2721550B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 縮合環含有化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356429A true JPH0356429A (ja) | 1991-03-12 |
JP2721550B2 JP2721550B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=16243393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1189561A Expired - Lifetime JP2721550B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 縮合環含有化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2721550B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003532504A (ja) * | 2000-05-09 | 2003-11-05 | ケーシーアイ ライセンシング インク | 腹部創傷包帯 |
US9814808B2 (en) | 2006-06-02 | 2017-11-14 | Ic Surgical, Inc. | Assemblies, systems, and methods for vacuum assisted internal drainage during wound healing |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP1189561A patent/JP2721550B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2721550B2 (ja) | 1998-03-04 |
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