JPH0355924B2 - - Google Patents

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JPH0355924B2
JPH0355924B2 JP57168258A JP16825882A JPH0355924B2 JP H0355924 B2 JPH0355924 B2 JP H0355924B2 JP 57168258 A JP57168258 A JP 57168258A JP 16825882 A JP16825882 A JP 16825882A JP H0355924 B2 JPH0355924 B2 JP H0355924B2
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temperature
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/14Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
    • H01L23/15Ceramic or glass substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、熱伝導率が高く高電気比抵抗を有す
る窒化アルミニウムを主体とした電気絶縁用基板
を簡易に得ることのできる製造法に関するもので
ある。 近年における半導体工業の発展に伴つて、集積
回路等に使用される絶縁基板は、半導体チツプ等
の高密度化が進み、熱放散性のより優れた材料が
要求されている。即ちかかる絶縁基板には、当面
電気絶縁性および熱伝導率が大きく、しかも熱膨
張係数がシリコンのそれと同等で、かつ機械的強
度の大きいことが必要である。 然して斯かる要求を満たすものとして窒化アル
ミニウム材料が注目され、即ちその熱伝導率は室
温において0.15〜0.16cal/cm.sec℃であり、こ
れはアルミナの約2倍に相当し、更に他のセラミ
ツクスに比較して高温性がすぐれしかも熱膨張係
数はアルミナの約8×10-6に比べ6×10-6/℃以
下と低く、耐熱衝撃性も良好であり、加えて窒化
アルミニウムの電気比抵抗は109Ωcm以上であつ
て、電気絶縁性、誘電性は高周波領域において特
に優れており、誘電正接は著しく小さいものであ
る。 このような窒化アルミニウムはその用途に応
じ、例えば窒化アルミニウム粉末を所望の形状に
成形し、窒素雰囲気中で焼結して焼結体を得る
が、窒化アルミニウムは本来難焼結性の化合物で
あるため熱伝導率の高い高密度の窒化アルミニウ
ム焼結体を得るためには1500〜2000℃、100気圧
以上の高温、高圧によるホツトプレス等の加圧焼
結を必要とし、生産性が劣る。しかも斯様な高温
高圧焼結法においても、より高密度の焼結体を得
るためには、酸化マンガン、酸化ストロンチウム
等の焼結促進剤の添加を必要としている。しかし
ながら、かかる添加剤は往々にして窒化アルミニ
ウムの本来有しているすぐれた熱伝導性等の諸物
性を大きく損なわせることがあるため好ましいも
のではない。 本発明はこれら従来法と異なつた窒化アルミニ
ウムを主体とする新規な電気絶縁用基板の製造法
を提供しようとするものであり、高温高圧による
ホツトプレス、更には焼結を必要としない絶縁基
板の製造法である。斯かる本発明によるものは大
略5μ程度の粒子よりなる窒化アルミニウム粉末
に4〜6重量%の有機重合剤を添加混合し、雰囲
気圧1×10-2〜1×10-3Torr、100〜300℃の比
較的低温下で、圧力100〜400Kg/cm2によりホツト
プレスすることにより達成される。 雰囲気圧1×10-2Torr以下として処理するこ
とにより脱気を適切に行わせ、又1×10-3Torr
を下限とすることにより作業性を良好とする。又
温度が100℃未満では樹脂硬化が不充分であり、
300℃を越えると樹脂の分解が発生するので好ま
しくない。又加圧が100Kg/cm2以下であると密度
が不充分であり、反対に400Kg/cm2を越えても密
度の向上がみられないので不利である。 上記のように添加される有機重合剤は一般に窒
化アルミニウムに比較して熱伝導率が低く、熱膨
張率および電気比抵抗が大きいものでこのためこ
こで用いられる有機重合剤は熱伝導率が大きくて
熱膨張率が小さく、電気比抵抗の大きいものを必
要とし、例えば不飽和ポリエステル樹脂、アルキ
ド樹脂あるいはエポキシ樹脂で、これらに過酸化
ベンゾイル(BPO)、t−ブチルペルオキシ2−
エチルヘキサノエート(TBPO)あるいはジク
ロルペルオキシド(DCP)、ラウロイルペルオキ
シド(LP)等の高温硬化剤を樹脂に対し0.5重量
%以下の範囲で使用する。0.5重量%を超えると
熱伝導率あるいは強度の低下を招くため好ましく
ない。例えばアルキド樹脂にDCPを1重量%添
加した重合体単体の熱伝導率は0.025cal/cm.
sec.℃であり熱膨張率は25×10-6/℃、電気比抵
抗は1015Ωcmである。 本発明はかかる有機重合剤を窒化アルミニウム
に対し4.0〜6.0重量%の範囲で使用するものであ
るが4.0重量%以下では熱硬化性が悪く、気孔率
も高くて緻密なものとならないと共に良好な熱伝
導率のものが得られず、6.0重量%以上では見掛
上の気孔率が減少し高密度化にはなるが熱伝導率
および熱膨張係数が各々所定の範囲を逸脱する。 なお、窒化アルミニウムと有機重合剤の混合は
できるだけ均一に行う必要があり例えば擂潰機な
どによる混合〓練が好ましい。また場合によつて
は重合剤をもつて窒化アルミニウムをマイクロカ
プセル化する手段も有効である。 以上の如く本発明は極めて簡便な方法で窒化ア
ルミニウムを主体とする電気絶縁用基板を提供す
るものであり、その工業的価値は極めて大きいと
言える。 以下、本発明を実施例により更に詳述する。 実験例 1 不飽和アルキド樹脂(アサヒペン社製)100重
量部に対し硬化剤としてジクロルペルオキシド
(DCP)0.5重量部を添加混合した有機重合剤を調
整した。次に粒径3〜5μmの窒化アルミニウムに
対し上記有機重合剤を1〜10重量%の範囲で変量
して添加し、擂潰機内でそれぞれ30分間混合した
のち、温度100〜400℃、圧力100〜400Kg/cm2、減
圧度1×10-2〜1×10-3Torrの範囲で熱間加圧
成型しキユアタイムを20分保持した条件下で大略
28mmφ×1mm厚の円板状基板を製作した。得られ
た基板の諸物性を次の第1表に示すが、この第1
表から明らかなように本発明の範囲内である実験
番号No.4〜No.6およびNo.11〜No.15における熱伝導
率、熱膨張係数および電気比抵抗の諸物性が共に
秀れていることが判る。
【表】 実験例 2 粒径1μm以下のポリエステル樹脂(住友化学社
製:商品名エコール)1重量部に対し、BPOを
0.5重量%およびアセトン10重量部の割合で密閉
容器内に添加し、48時間撹拌して有機重合剤溶液
を調整した。次いで粒径3〜5μmの窒化アルミニ
ウムに対し、上記の有機重合剤溶液を第2表に示
すように10〜100重量%(有機重合剤としてはこ
の10分の1に相当する)を添加し擂潰機で30分間
撹拌混合したのち40〜60℃の温度で乾燥した。つ
いで成形体の形状が大略28mmφ×1mm厚の円板状
となるよう計量し、温度100〜400℃、圧力100〜
400Kg/cm2、減圧度1×10-2〜1×10-3Torrの範
囲で熱間加圧成型し、キユアタイム20分の条件下
で基板を製作した。得られた基板の諸物性を第2
表に示す。即ちこの第2表から明らかなように本
発明の範囲内である実験番号No.4〜No.6およびNo.
11〜No.15のものにおける熱伝導率、熱膨張係数お
よび電気比抵抗の諸物性が秀れていることが判
る。
【表】
【表】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 窒化アルミニウムを主体とする原料に対し、
    不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂およびエ
    ポキシ樹脂の1種または2種以上からなる樹脂お
    よび該樹脂に対し0.5重量%以下の過酸化ベンゾ
    イル、t−ブチルベルオキシ2−エチルヘキサノ
    エート、ジクロルペルオルオキシドおよびラウロ
    イルベルオキシドの1種または2種以上の硬化剤
    を混合した有機重合剤を4〜6重量%添加し、温
    度100〜300℃、ホツトプレス圧100〜400Kg/cm2
    雰囲気圧1×10-2〜1×10-3torrで加圧成形する
    ことを特徴とする電気絶縁用基板の製造法。
JP57168258A 1982-09-29 1982-09-29 電気絶縁用基板の製造法 Granted JPS5958847A (ja)

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JP57168258A JPS5958847A (ja) 1982-09-29 1982-09-29 電気絶縁用基板の製造法

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JP57168258A JPS5958847A (ja) 1982-09-29 1982-09-29 電気絶縁用基板の製造法

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JPS5958847A JPS5958847A (ja) 1984-04-04
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JP57168258A Granted JPS5958847A (ja) 1982-09-29 1982-09-29 電気絶縁用基板の製造法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2813603B1 (fr) * 2000-09-01 2003-04-25 Atofina Preformes ceramiques, et en particulier en ain usinables a cru et leur procede d'obtention

Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50161508A (ja) * 1974-06-20 1975-12-27

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