JPH0355480B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、有用なペプチドの製造方法、とくに
Ｈ−ARG−Ｘ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒを製造するた
めの溶液合成法およびその方法に有用な組成物に
関する。 米国特許第4190646号および特開昭55−149237
号公報には、胸線の機能および免疫学的領域にお
いて有用な種々のペプチドが開示されている。前
記米国特許は「サイモポイエチン
（thymopoietin）ペンタペプチド」（TP5）およ
びその置換誘導体を開示しており、一方前記公開
公報はTP5よりも大きい効力を有するTP5のペプ
チド類似体を開示している。この米国特許および
公開公報をここに引用によつて加える。参照した
米国特許および公開公報において、ヘプチドは一
般に「メリフイールド（Merifield）合成」と記
載される固相合成技術により製造されている。ま
た、この米国特許および公開公報は、古典的技術
（すなわち、溶液合成技術）を用いてこれらの物
質のあるものを製造できることを開示している
が、特定の古典的方法または合成法は具体的には
開示されていない。 メリフイールドの固相合成技術は、実験室にお
ける少量のヘプチドの製造に便利な技術である
が、大量（たとえば、約100ｇより多い量）のペ
プチドを製造するためには実験的でなくかつ不経
済であろう。このような大量のペプチドの製造に
は、溶液合成技術がいつそう適する。その上、溶
液合成技術は、使用する反応成分のあるものの単
位コストが非常に低いため、一般に固相技術より
も経費が非常に少ない。ポリペプチドの製造にお
いて使用されている多数の溶液合成技術のうち
で、所望のペプチドを便利にかつ経済的に製造す
る特定の合成法を本発明者らは見出した。 本発明は、式 Ｈ−ARG−Ｘ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒ 式中、ＸはLYSでありそしてＹはVALである
か、あるいはＸおよびＹは両方ともSARであり、
ＺはASPまたはGLUであり、そしてＲはNH₂ま
たはOHである、 の製造方法に関する。 本発明の方法の１つは次の工程からなる： (a) 後述するようにしてＨ−Ｙ−TYR−R′から
成るフラグメント（fragment）を生成せし
め； (b) 後述するようにしてα−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ
−OHから成るフラグメントを生成せしめ； (c) 後述するようにしてフラグメントおよびフ
ラグメントを一緒に結合させて、α−Ｔ−Ｘ
−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−R′から成るフラグ
メントを生成せしめ； (d) α−アミノ保護基Ｔを除去してフラグメント
Ａを生成せしめ； (e) フラグメントＡに、保護されたＬ−アルギ
ニン部分（アルフア−Ｔ−ω−T′−ARG−
OH）を、後述するようにして加えて、保護さ
れたペンタペプチドを生成せしめ； (f) 保護された基を除去し；そして (g) 生ずるペプチドを単離し、精製する。別法と
して、上記の工程ｂ−ｃの代わりに次の工程ｈ
−ｋを使用できる： (h) 後述のようにして、保護されたＺ部分（α−
Ｔ−ω−Ｕ−Ｚ−OH）をフラグメントに加
えて、α−Ｔ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−R′か
ら成るフラグメントを生成せしめ； (j) 保護基ＴをフラグメントのＺ部分のα−ア
ミノ位置から除去して、フラグメントＡを生
成せしめ； (k) 後述のようにして保護されたＸ部分（α−Ｔ
−Ｘ）をフラグメントＡに加えて、フラグメ
ントを生成せしめる。 第２の別の道節において、フラグメントＡ
（Ｈ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−R′）をフラグメン
ト（α−Ｔ−ω−T′−ARG−Ｘ−OH）に後
述するように結合せしめる。フラグメントは後
述するようにして製造できる。この第２の別の道
筋は、困難であり、時には不可能な仕事である、
最終生成物からのＬ−アルギニン不純物の除去の
必要性を排除する。 フラグメントは次の工程により生成せしめる
ことができる： () Ｙ部分のα−アミノ基を、保護基Ｔを導入
する物質と反応により保護し； () さらに後述するようにして、工程（）に
おいて生成せしめた保護されたＹを、アミンに
よるカルボキシ基における親核攻撃に関して活
性化して、カルボキシ活性化され、保護された
Ｙを生成せしめ； () 前記カルボキシ活性化され、保護されたＹ
をTYR−R′と反応させ；そして () 保護基Ｔを除去し、これによりフラグメン
トを生成せしめる。 フラグメントは次の工程により生成せしめる
ことができる： () ω−Ｕ−Ｚ−OH（式中、ＵはＺアミン酸の
ω−カルボキシ基の保護基である）を製造し； () 特定的にα−アミノ基を保護するような方
法で、Ｘアミノ酸のα−アミノ基を、保護基Ｔ
を導入する物質との反応により保護し； () さらに後述するようにして、工程（）に
おいて生成せしめた保護されたＸアミノ酸を、
アミンによるカルボキシル基における親核攻撃
に関して活性化して、カルボキシ活性化され、
保護されたＸアミノ酸を生成せしめ；そして () 工程（）に記載するカルボキシ活性化さ
れ、保護されたＸアミノ酸を、工程（）にお
いて製造したＺアミノ酸と反応させ、これによ
りα−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−OH（フラグメン
ト）を生成せしめる。 フラグメントは、α−カルボキシ基における
アミンによる親核攻撃に関して、フラグメント
のＺ部分を活性化し、そしてこの活性化されたフ
ラグメントをフラグメントと反応させること
により生成せしめられる。 フラグメントは次の工程により生成せしめる
ことができる： () Ｌ−アルギニンのα−アミノ基およびグア
ニジノ基を、保護基ＴおよびT′を導入する物
質との反応により保護し； () さらに後述するようにして、工程（）に
おいて生成せしめた保護されたARGを、アミ
ンによるカルボキシ基における親核攻撃に関し
て活性化して、カルボキシ活性化され、保護さ
れたARGを生成せしめ；そして () 前記カルボキシ活性化され、保護された
ARGをＸアミノ酸と反応させ、これによつて
フラグメントを生成せしめる： もちろん、ＸがLYSであるとき、そのε−ア
ミノ基は、Ｘを含有するフラグメントの製造の間
およびそれらを使用して最終生成物のペプチドを
製造する間、アミノ保護基により同様に保護しな
くてはならない。T″基は、生ずるペプチドを破
壊しない条件下で容易に除去されえなくてはなら
ず、同時にＴ基の除去の間安定でなくてはならな
い。 α−アミノ保護基Ｔは、前記各アミノ酸につい
て同一であるか、あるいは異なることができ、そ
してアミノ酸基の接合のために用いる工程による
除去に対して安定であり、同時に接合工程の終り
においてペプチドのアミド結合を分裂しない条件
下で除去されるべきである。ある基（たとえば、
BOC）について、この除去は強酸（たとえば、
トリフルオロ酢酸）によりなされ、これは脱保護
された中間体を対応する酸付加塩（たとえば、ト
リフルオロアセテート）として与える。 グアニジノ保護基T′は、後述するような任意
の適当なアミノ保護、あるいはニトロ基ならびに
塩酸塩のような酸付加塩であることができる。ア
ミノ保護基のうちで、ウレタン保護基（下記の
式）および置換スルホン酸誘導体、たとえば、ｐ
−メトキシベンゼンスルホニルおよびトシルが好
ましい。塩酸塩が最も好ましい。このグアニジノ
保護基を、ここでは、それが連鎖の末端に存在す
ることを示すため「ω（オメガ）」基と呼ぶ。連鎖
上の多くのグアニジノ保護基の正確な位置は、明
確には知られていない。 カルボキシ保護基Ｕは、生ずるペプチドを破壊
しない条件下で容易に除去されると同時に、Ｔ基
の除去の間安定であるべきである。 R′基はNH₂（ＲがNH₂である生成物のペプチド
について）またはOU（ＲがOHである生成物のペ
プチドについて）である。 適当なアミノ保護の例は次の式をもつものであ
る： (a)

【式】ここで、R₁はアリール（たとえ ば、フエニル、トリルまたはキシリル）；アダ
マンチル；モノ置換メチル（たとえば、アリ
ル、ベーターシアノエチル、フルオレニルメチ
ル、ベンジル、またはフエニル環がハロ、ニト
ロ、低級アルキルおよび低級アルコキシから選
ばれた１〜３員で置換されたベンジル）；ジ置
換メチル（たとえば、ジイソプロピルメチル、
ジフエニルメチル、シクロヘキシル、シクロペ
ンチルまたはビニル；トリ置換メチル（たとえ
ば、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ジメチルトリフ
ルオロメチルメチル、またはジメチルビフエニ
ルメチル）である； (b)

【式】ここで、R₂は２〜４個炭素原子を もつ低級アルキル、たとえば、エチル、イソプ
ロピル、ｔ−ブチルなど、または１〜５個のハ
ロ基で置換された１〜４個の炭素原子をもつ低
級アルキル、たとえば、トリフルオロメチル、
クロロメチル、ペンタクロロエチルなどであ
る； (c)

【式】ここで、ＶはＳまたはＯであ り、そしてR₃およびR₄は各々ベンジルまたは
低級アルキルである； (d)

【式】ここで、R₅およびR₆は独立 に低級アルキルであるか、あるいはR₅および
R₆は一緒になつて

【式】であ り、R₇およびR₈は各々水素または低級アルキ
ルである； (e)

【式】ここで、R₉は水素または ニトロである；および (f)

【式】ここで、R₁₀は水素、メ チル、ハロまたはニトロである。 アミノ保護基(f)は、二座配位（bidentate）で
あり、Ｌ−アルギニンまたはＬ−バリンのアルフ
ア−アミノ基あるいはＬ−リシンのα−アミノ基
およびε−アミノ基にのみに使用できるが、サル
コシンのα−アミノ基に使用できない。サルコシ
ンのα−アミノ基上のアミノ保護基は、アミノ基
上のメチル置換基のため一座配位
（monodentate）でなくてはならない。残りのア
ミノ保護基は、すべてのアミノ酸について使用で
きる。 ここで使用する「ハロ」はフルオロ、クロロ、
プロモおよびヨード包含するが、クロロおよびブ
ロモが好ましい。「低級アルキル」および「低級
アルコキシ」という語は、それぞれ、１〜６個の
炭素原子をもつ飽和脂肪族炭化水素、たとえば、
メチル、エチル、エチルイソプロピル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ヘキシルなど、および対応するアルコキ
シド、たとえば、メトキシ、エトキシ、イソプロ
ポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ヘキソキシなどを包
含する。メチルは好ましい低級アルキルであり、
そしてメトキシが好ましい低級アルコキシルであ
る。 これらの保護基を導入するために使用する試薬
（通常対応する酸塩化物であるが、他の誘導体を
使用できる）は、時々ここでは「保護基試薬」と
呼ぶ。他の適当な保護基は、たとえば、“Prote
−ctive Groups in Oragnic Chemistry”、J.F.
W.McOmie，ed.，Phenum Press，N.Y.，1973
に開示されている。 各ＴおよびT″は同一であり、そしてベンジル
オキシカルボニル（CBZ）またはトリフルオロ
アセチル（TFA）であることが好ましい。T′は
塩酸塩であることが好ましい。 前述のカルボキシ活性化され保護されたアミノ
酸残基を製造するために、種々の試薬を使用でき
る。 カルボキシ活性化され保護されたアミノ酸残基
の１つのタイプは、反応性エステルである。適当
な活性なエステルを製造するために使用する薬剤
の例は次のとおりである：フエニル環がハロ
（例、クロロまたはフルオロ）、ニトロ、シアノお
よびメトキシから選ばれる１〜５員で置換された
フエノール；チオフエニル；Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド；Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド；Ｎ−
ヒドロキシグルタルイミド：Ｎ−ヒドロキシベン
ズアミド；１−ヒドロキシベンゾトリアゾール；
など。他の適当な薬剤は、たとえば、前述の
“Prote−ctive Groups in Organic Chemistry”、
J.F.W.McOmie，et.に開示されている。下記の
特定の実施例では、一般にＮ−ヒドロキシスクシ
ンイミドまたは１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルを用いる。 他の活性化法、たとえば、混合または対称無水
物法、酸塩化物法、およびアジド法は、先行技術
においてよく知られており、たとえば、Boda−
nszky，et al.“Peptide Synthesis”、2nd ed.，
1976，pp85−128に記載されている。 便宜上、次の略号を種々のアミノ酸を示すため
に、ここに使用する： アミノ酸 略号 Ｌ−リシン LYS Ｌ−バリン VAL Ｌ−チロシン TYR Ｌ−アスパラギン酸 ASP Ｌ−グルタミン酸 GLU サルコシン SAR Ｌ−アルギニン ARG

【表】 本発明の方法を次の反応図１に示す：

【表】 第１の別法を次の反応図２に示す：

【表】 第２の別法を次の反応図３に示す：

【表】 Ｈ−ARG−SAR−ASP−SAR−TYR−NH₂
の１つの典型的な製造を次の反応図４に示す：

【表】 Ｈ−ARG−LYS−ASP−VAL−TYR−OHの
１つの典型的な製造を次の反応図５に示す： 上の反応図において、保護基は前述のＵ、Ｔ、
T′およびT″で表わされているが、アミノ酸残基
のカルボキシ活性化は文字“OA”で示す。 上の反応図４を参照すると、フラグメントは
一般に次のように製造できる。サルコシンのアミ
ノ基を保護するために、サルコシンの水溶性塩基
付加塩を生成せしめ、水中に溶かす。便宜上、こ
の塩基付加塩はサルコシンをわずかにモル過剰量
の水酸化ナトリウム中に溶かして形成する。次い
でこの溶液に、保護基Ｔを導入する試薬（たとえ
ば、塩化ベンジルオキシカルボニルのような対応
する酸塩化物）のわずかに過剰量を同時に加え、
塩基（例、水酸化ナトリウム）の溶液を反応中に
生成した酸（例、HCl）と反応させる。保護基を
導入するための試薬は溶液または純粋な形である
ことができ、そして好ましくは酸塩化物である。
反応が完了した後、過剰の保護基を導入する試薬
を除去し（たとえば、ジエチルエーテルまたは水
と不混和性の他の有機溶媒による抽出）、次いで
保護されたサルコシンを未反応のサルコシンから
酸（例、塩酸）で処理することにより単離する。
この酸処理は、保護されないサルコシンの塩基付
加塩を保護されないサルコシンの酸付加塩に変え
る。しかしながら、この酸処理は、酸付加塩を保
護されたアミノ基のためにつくることができるの
で、保護されたサルコシン塩基付加塩を保護され
たサルコシンに変えるだけである。この保護され
たサルコシンは、水不溶性であり、保護されない
サルコシンの塩から、たとえば、前述の不混和性
有機溶媒で抽出することにより、容易に分離され
る。ここで使用する、「不混和性有機溶媒」は、
水と混合しないすべての普通の実験室の有機溶
媒、たとえば、ジエチルエーテル、酢酸エチル、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどを包含する。
好ましい保護されたサルコシン、Ｎ−ジンジルオ
キシカルボニルサルコシンは既知化合物である。
その製造法は、R.S.TiptonおよびB.A.Pawson，
J.Org.Chem.26，4698（1961）に示されており、
そしてこの化合物は（たとえば、Bachem，Inc.
Torrance，CA.から）商業的に入手できる。 この保護されたサルコシンとＬ−チロシンアミ
ド分子とを結合させてフラグメントを製造する
とき、アミノ保護されたサルコシンを通常何らか
の方法で活性化して結合の形成を促進すべきであ
る。この活性化を実施する好ましい方法は「活性
エステル」の生成によるが、この分野で知られて
いる他の活性化法、たとえば、混合または対称の
無水物、アジドまたは酸塩化物の方法を用いるこ
とができる。 保護されたサルコシンのいかなる活性エステル
も使用できると考えられる；１つの好ましい活性
エステルはヒドロキシスクシンイミドにより形成
されたものである。保護されたサルコシンの活性
エステルは、当量の保護されたサルコシンおよび
活性エステル物質と適当な有機溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ピリジンなどの溶液中で反応させるこ
とにより製造される。次いで、この溶液に当量の
カツプリング剤、典型的にはジシクロヘキシルカ
ルボジイミドを加える。他のカツプリング剤は有
効であるが、ジシクロヘキシルカルボジイミド
は、カツプリング反応の副生物が使用する溶媒の
群中に非常に不溶性であり、それゆえ過により
容易に除去して、溶液中にカツプリングされた生
成物を残すことができるので、とくに有用であ
る。 Ｌ−チロシンアミドは（たとえば、Sigma
Chemical Company，St.Louis，MOから）商業
的に入手することができまたは既知の方法で製造
できる。 フラグメントの製造における次の工程は、モ
ル当量のＬ−チロシンアミドを保護されたサルコ
シン活性エステルを１当量の塩形成物質、たとえ
ば、第三アミンの存在で反応させることからな
る。いかなる有機第三級アミンも使用することが
できるが、トリエチルアミンは好適に使用できる
ことがわかつた。この溶媒は前述の適当な有機溶
媒である。未反応のアミノ酸は反応混合物を酸
（例、酢酸）で処理し、前述の不混和性有機溶媒
で抽出して分離することにより除去する。 最終工程はサルコシンからα−アミノ保護基
を、好ましくはトリフルオロ酢酸で、除去してフ
ラグメントを生成せしめることである。 フラグメントの製造は、β−カルボキシ基が
保護されたＬ−アスパラギン酸またはγ−カルボ
キシ基が保護されたＬ−グルタミン酸を用いて一
般に出発する。このβまたはγ−カルボキシ基
は、認められている命名法に従い、それが連鎖の
端に存在することを示すために、一般に「ω基」
と呼ぶ。 適当なカルボキシ保護基は、ベンジルまたはフ
エニル基がハロ（例、クロロまたはブロモ）、ニ
トロ、C₁−C₃低級アルコキシ（例、メトキシ）
および低級アルキル（例、メチル）から選ばれる
１〜３員で置換されたベンジル基である。このよ
うな基のそれ以上の説明については前記の
McOmieテキスト参照のこと。ベンジルが好まし
い。このβ−保護されたＬ−アスパラギン酸およ
びγ−保護されたＬ−グルタミン酸は、（たとえ
ば、Bachem，Inc.，Torrance，Cali−forniaか
ら）商業的に入手でき、あるいは既知の方法によ
り製造できる。 次いで、このβ−保護されたＬ−アスパラギン
酸またはγ−保護されたＬ−グルタミン酸（ω−
Ｕ−Ｚ）を、前述のように活性化され（たとえ
ば、活性エステルへの転化により）α−アミノ保
護されたサルコシンと反応させて、フラグメント
を生成せしめる。反応図４において、Ｚは
ASPである。 フラグメントおよびを結合して、保護され
たテトラペプチド−α−Ｔ−SAR−β−Ｕ−
ASP−SAR−TYR−NH₂（フラグメント）は、
当量を適当な非プロトン溶媒、たとえば、ジメチ
ルホルムアミド中でわずかに過剰のカツプリング
剤、たとえば、ジシクロヘキシルカルボジイミド
の存在で反応させることにより生成する。また、
この反応は、フラグメントのＬ−リシン部分上
のカルボキシル基に隣接するラセミ化を最小に
し、かつ反応速度を増大させる物質、たとえば、
１−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存在で実施
することが好ましい。フラグメントの場合のよ
うに、フラグメントのサクロシン残基上のα−
アミノ保護基はトリフルオロ酢酸で除去してフラ
グメントＡを生成する。 最後に、フラグメントおよびを接合するた
めに使用したカツプリング反応に類似したカツプ
リング反応に従い、α−アミノおよびグアニジノ
保護されたＬ−アルギニン残基をフラグメント
Ａのアシノ末端に接合し、これはすべての保護基
を除去した後所望のペンタペプチドアミドを生成
する。保護基の除去は、たとえば、炭素担持パラ
ジウムの存在で、前述のような適当な溶媒（好ま
しくは水性酸）の存在で水素ガスで処理すること
により達成できる。水素ガスは１気圧よりも高い
圧力である必要はないが、圧力の使用は還元速度
を加速するので、好適である。 別の製造法は、前述と同一の一般法で達成され
る。 すなわち、第１の別の道筋において、保護され
たＺ部分をフラグメントに加えてフラグメント
を生成せしめ、この付加は、たとえば、保護さ
れたＺアミノ酸の活性エステルを生成し、これを
フラグメントと、フラグメントの前述した反
応と同じように、反応させることによつて行うこ
とができる。次いで、Ｚ部分上のα−アミノ保護
基を、好ましくはトリフルオロ酢酸で除去し、次
いで保護されたＸアミノ酸をフラグメントに、
たとえば、活性エステルの道筋を経て、フラグメ
ントを生成せしめる。 第２の別の道筋において、α−アミノおよびグ
アニジノ保護されたＬ−アルギニンをモル当量の
Ｘアミノ酸と、たとえば、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールの存在で反応させて、フラグメント
を製造する。次いで、フラグメントをフラグ
メントＡに、フラグメントおよびの接合し
た方法に類似する方法で接合せしめる。 生ずる不純な生成物の単離および精製は、結晶
化とイオン交換クロマトグラフイー（好ましくは
溶離剤として酢酸アンモニウム−PH５を用いる）
との組み合せにより、薄層クロマトグラフイーを
用いて各フラクシヨン中と物質の同一性を監視し
て実施できる。いくつかの単離および精製法は次
の実施例に記載されているが、他の方法を使用す
ることもできることは明らかである。 また、本発明の範囲内には、本発明の主題の方
法を実施するために有用な組成物（たとえば、フ
ラグメント、、、、Ａ、、、および
および他の中間体）ならびに保護された生成物
が包含される。 参考例 フラグメント：SAR−TYR−NH₂の製造 Ａ BOC−サルコシン−ヒドロキシスクシンイ
ミドエステル（BOC−SAR−OSu） BOC−アルコシン（24.78ｇ、0.13モル）とＮ
−，ヒドロキシスクシンイミド（15.5ｇ、0.13モ
ル）を、300mlの乾燥THFに溶かし、−５℃に冷
却した。100mlの乾燥THF中のジシクロヘキシル
カルボジイミド（26.98ｇ、0.13モル）の溶液を、
15分間かけて加えた。生ずる反応混合物を一夜か
きまぜ、放置して周囲温度にした。固体を過に
より除去し、溶媒を減圧蒸発すると、白色固体が
得られた。この固体を250mlの無水エタノールか
ら４℃で結晶化させて、32ｇ（86％）の白色固体
を得た、融点121−123℃。 分析： 計算値：Ｃ，50.35；Ｈ，6.34；Ｎ，9.79 実測値：Ｃ，50.23；Ｈ，6.44；Ｎ，9.67 TLC： Rf＝0.81、CHCl₃／MeOH₉／１（シリカゲル
Ｇ，250ミクロン） p.m.r（δ，CDCl₃）：1.45，Ｓ，9H，BOC；2.83，
S4H，−OSu；2.93，Ｓ，3H，Ｎ−CH₃；4.27，
Ｓ，2H，−CH₂−． M.S.：Ｍ＋286 Ｂ BOC−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（BCO−SAR−TYR−NH₂） Ｌ＝チロシンアミド（2.17ｇ、10ミリモル）お
よびトリエチルアミン（1.01ｇ、10ミリモル）を
25mlの乾燥メタノールに溶かした。BOC−サル
コシンヒドロキシスクシンイミド（2.86ｇ、10ミ
リモル）を加え、この反応混合物を一夜周囲温度
でかきまぜた。揮発性物質を減圧除去し、残留物
をEtOAc（50ml）とNaCl溶液〔50ml（25mlH₂O
＋25ml飽和NaCl）〕との間に分配した。相を分離
し、有機相を同じ組成のNaCl溶液でさらに２回
洗い、次いでMgSO₄で乾燥した。乾燥剤を過
により除去し、溶媒を減圧除去した。残留物をシ
リカール（Silicar）CC7の75ｇ、１インチ（2.54
cm）のカラムで、溶離剤として酢酸エチルを用い
て、クロマトグラフイーにかけた。化合物は390
mlで現われ始めた。次の475mlを集め、蒸発乾固
して、1.55ｇ（44％）の白色固体を得た。 分析： 計算値：Ｃ，58.11；Ｈ，7.17；Ｎ，11.96 実測値；Ｃ，57.96；Ｈ，6.96；Ｎ，11.45 TLC：（シリカゲル GF）Rf＝0.46CHCl₃／
MeOH9／１ Ｃ サルコシル−Ｌ−チロシンアミド、トリフル
オロアセテート（TFA−SAR−TYR−NH₂） BOC−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド（1.30
ｇ、3.7ミリモル）を０℃において15mlのトリフ
ルオロ酢酸に溶かした。溶液を０℃で１時間かき
まぜ、溶媒を減圧除去した。生ずる油を50mlの無
水エーテルで粉砕して1.27ｇ（94％）の白色固体
を得た。 p.m.r.（δ，CD₃OD）：2.3，Ｓ，3H，Ｎ−CH₃；
3.00，ｄ，2H，−CH₂−Ｃ−；3.7，Ｓ，2H，−
Ｎ−CH₂−Ｃ＝Ｏ；6.9；ｑ，4H，芳香族 参考例 フラグメント：BOC−SAR−β−ベンジル
−ASP（BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ
−アスパラギン酸）の製造 トリエチルアミン（2.02ｇ、20ミリモル）およ
びβ−ベンジル−Ｌ−アスパラギン酸（2.23ｇ、
10ミリモル）を、50mlの乾燥THF中でかきまぜ
た。BOC−サルコシン−ヒドロキシスクシンイ
ミドエステル（2.68ｇ、10ミリモル）を加え、こ
の溶液を周囲温度で一夜かきまぜた。固体を過
により除去し、溶媒を減圧除去した。残留物を酢
酸エチル（100ml）と2NHCl（100ml）との間に分
配した。相を分離し、有機相を水（２×100ml）、
飽和NaCl溶液（１×100ml）で洗浄し、乾燥
（MaSO₄）した。乾燥剤を過により除却し、溶
媒を減圧除却した。残留物をヘキサンで粉砕し
た。ヘキサンをデカンテーシヨンし、残留物を減
圧乾燥して2.64ｇ（67％）の吸湿性固体を得た。 TLC： Rf＝0.73＋0.48における微量の不純物 CHCl₃／MeOH／HOAc85／10／５（シリカ
ゲルＧ，250ミクロン） p.m.r.（δ，CH₃OD）：1.45，Ｓ，9H，BOC；
2.82，Ｓ，3H，Ｎ−CH₃；2.95，Ｍ，2H，−Ｃ
Ｈ₂−Ｃ；3.85，Ｓ，2H，−Ｎ−CH₂−Ｃ＝Ｏ；
4.85，ｔ，1H，−CH−；5.08，Ｓ，2H，−ＣＨ
_２；5.46，Ｓ，2H，−NH＋−CO₂H；7.3，Ｓ，
5H，−φ 〔α〕_D17°＝＋13.3°（Ｃ＝1.032，MeOH） 参考例 フラグメント：BOC−サルコシル−β−ベ
ンジル−Ｌ−アスパルチル−サルコシル−Ｌ−
チロシンアミド（BOC−SAR−β−Bzl−
ASP−SAR−TYR−NH₂）の製造 BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パラギン酸（0.52ｇ、1.3ミリモル）および１−
ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物（0.18、
1.3ミリモル）を10mlの乾燥DMF中に溶かし、こ
の溶液を０℃に冷却した。7.5mlの乾燥DMF中の
ジシクロヘキシルカルボジイミド（0.27ｇ、1.3
ミリモル）を加え、生ずる溶溶を０℃で１時間か
きまぜた。サルコシル−Ｌ−チロシンアミド、ト
リフルオロアセテート（0.50ｇ、1.3ミリモル）
およびジイソプロピルエチルアミン（0.17ｇ、
1.3ミリモル）を５mlの乾燥DMF中に溶かし、第
１溶液の直ちに加えた。この反応混合物を一夜か
きまぜ、周囲温度に到達させた。固体を過によ
り除去し、残留物を25mlの酢酸エチル中に溶かし
た。有機相を連続して10％のクエン酸（２×25
ml）、水（２×25ml）、５％のNaHCO₃（２×25
ml）、H₂O（２×25ml）、飽和NaCl（25ml）で洗浄
し、無水MgSO₄で乾燥した。乾燥剤を過によ
り除去し、溶媒を減圧除去して0.6ｇ（73.5％）
の白色固体を得た。 TLC：Rf＝0.31 CHCl₃／MeOH9／１ （シリカゲルＧ，250ミクロン） p.m.r.（δ，CDCl₃）：1.45，Ｓ，9H，BOC；
2.95，ｍ，10H，2x，Ｎ−CH₃，−ＣＨ ₂−CH
（Asp），−CH₂−CH（Tyr）；3.8，ｍ，4H，
2xN−CH₂−Ｃ＝Ｏ；4.6，ｍ，2H，−ＣＨ−
CH₂−，Asp，−ＣＨ−CH₂−（Tyr）；5.1，ｍ，
2H，−CH₂φ；6.92，ｑ，4H，チロシンの芳香
族；7.25，Ｓ，5H，芳香族のベンジル〔α〕²¹ _D
＝12.4°（Ｃ＝0.1046，MeOH） 分析：C₃₁H₄₁N₅O₉についての計算値：
Ｃ，59.32；Ｈ，6.58；Ｎ，11.16 実測値： Ｃ，58.73；Ｈ，6.80；Ｎ，10.76 実施例 １ フラグメントＡ：サルコシル−β−ベンジル
−Ｌ−アスパルチル−サルコシル−Ｌ−チロシ
ンアミド，トリフルオロアセテート（TFA−
SAR−β−Bzl−ASP−SAR−TYR−NH₂） BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パルチル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（0.48ｇ、0.76ミリモル）を10mlのTFA中に０℃
で溶かし、０℃で１時間かきまぜた。溶媒を減圧
除去し、残留物を一夜50mlの無水エーテルで粉砕
した。懸濁溶を過し、固体をエーテルでよく洗
い、真空乾燥して0.4ｇ（82％）の白色固体を得
た。 TLC：Rf＝0.56 ｎ−BuOH／HOAc／H₂O （シリカゲルGF） 参考例 ペンタペプチドの製造 Ａ α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アル
ギニル（HCl）−サルコシル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−サルコシル−Ｌ−チロシン
アミド〔CBZ−ARG（HCl）−SAR−β−Bzl
−ASP−SAR−TYR−NH₂〕 α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギ
ニンHCl（2.66ｇ、7.8ミリモル）と１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール１水和物（1.06ｇ、7.8ミ
リモル）を、20mlの乾燥ジメチルホルムアミドに
溶かし、０℃に冷却した。ジシクロヘキシルカロ
ボジイミド（1.61ｇ、7.8ミリモル）を５mlに溶
かし、第１溶液に加えた。生ずる反応混合物を０
℃で１時間かきまぜた。サルコシル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−サルコシル−Ｌ−チロシ
ンアミドのTFA塩（5.0ｇ、7.8ミリモル）を15ml
の乾燥DMF中にトリエチルアミン（0.79ｇ、7.8
ミリモル）と一緒に溶かし、第１溶液に加えた。
この反応混合物を一夜かきまぜ、周囲温度に到達
させた。この固体を過により除去し、揮発性物
質を減圧除去した。残留物を水で粉砕して残留物
（３ｇ）を得た。 TLC：Rf＝0.60 ｎ−BuOH／HOAc／H₂O3／１／１ （シリカゲルGF） Ｂ Ｌ−アルギニル−アルコシル−Ｌ−アスパル
チル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（ARG−SAR−ASP−SAR−TYR−NH₂） α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギ
ニル（HCl）−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−
アスパルチル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（1.0ｇ）を100mlの75％の水性酢酸中の溶かし、
0.5ｇの10％Pd／Ｃの存在で50psi（3.5Kg／cm²）に
おいて15時間還元した。触媒を過により除去
し、溶液を凍結乾燥して0.8ｇを得た。この物質
を７mlの水中に溶かし、3μの多孔質フイルター
に通して過し、PH５にNH₄OH（濃）で調整し、
SP−Ｃ−25カラム（2.5×100cm）で0.20モルの
NH₄OAc、PH5.0、100ml／時、20ml／管を用い
て、クロマトグラフイーにかけた。管71〜78をプ
ールし、凍結乾燥して、0.35ｇのArg−Sar−
Asp−Sar−Tyr−NH₂を得た。 TLC：Rf＝0.23 ｎ−BuOH／HOAc／H₂O3／１／１ （シリカゲルGF） 〔α〕²¹°_D＝＋54.9（Ｃ＝0.091，0.1ＮHOAc） 参考例 フラグメント：トリ−CBZ−ARG−ε−
CBZ−LYS−OH（トリ−CBZ−Ｌ−アルギニ
ン−ε−CBL−Ｌ−リシン）の製造 ３mlのTHF中のトリ−CBZ−Ｌ−アルギニン
パラ−ニトロフエニル−エステル（1.40ｇ、２ミ
リモリ）の懸濁液に、ε−CBZ−Ｌ−リシン
（625ml、2.2ミリモル）を加えた。次いでトリエ
チルアミン（450mg、4.4ミリモル）を加え、全体
を周囲温度で48時間かきまぜた。これに引き続い
て、溶媒を減圧除去し、20mlのメタノールを生ず
る固体に加えた。メタノールを過し、固体をさ
らに10mlのメタノールで洗浄した。合わせた液
と洗液を減圧蒸発して油が得られ、これを10mlの
シリカゲルで０〜５％のメタノール／クロロホル
ムを溶離液として使用してクロマトグラフイーに
かけた。このカラムから出た第２物質は、p.m.r，
で示されるように、所望生成物であつた；収量75
mg。 分析： C₄₄H₅₀N₆O₁₁・２／3CHCl₃についての 計算値：Ｃ，58.41；Ｈ，5.56；Ｎ，9.15 実測値：Ｃ，58.88；Ｈ，5.50；Ｎ，9.29 上記参考例において製造したペンタペプチドの
すべては、前記の米国特許および公開公報に開示
されたTP5と同一の薬理学的活性を有する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 Ｈ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−R′ 式中、 R′はNH₂であり； Ｘ及びＹは共にSARであり； ＺはASPであり；そして Ｕはベンジル又はフエニル基がハロ、ニトロ、
   C₁〜C₃低級アルキル及びC₁〜C₃低級アルコキシ
   から選ばれる１〜３個の置換基で置換されたベン
   ジルである、 で示されるテトラペプチド。