JPH0355136A - アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 - Google Patents
アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置Info
- Publication number
- JPH0355136A JPH0355136A JP1192144A JP19214489A JPH0355136A JP H0355136 A JPH0355136 A JP H0355136A JP 1192144 A JP1192144 A JP 1192144A JP 19214489 A JP19214489 A JP 19214489A JP H0355136 A JPH0355136 A JP H0355136A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wedge
- actuator
- actuator unit
- stage
- symmetrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 10
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 22
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 241001575049 Sonia Species 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ュエータおよびそれを用いたレベル調整のできるステー
ジ装置に関し、特に半導体製造装置等の高精度のステー
ジ装置に適したアクチュエータおよびそれを用いたレベ
ル調整のできるステージ装置に関する。
向上と共に要求される加工精度はますます向上している
。より狭い線幅を実現するため、3 露光装置は紫外光の代わりに電子線やX線を光源として
用いるものに研究開発の対象か移行している。これに伴
い、駆動ステージの精度も向上させる必要かある。たと
えば、0.25ないし0.3μmの線幅を実現するには
約0.05μmのアライメント(整合)精度か要求され
、これを達或するには駆動ステージとしては約0.00
5μm、甘くても0.01μmの精度が要求される6 このような高精度のXYZ駆動ステージを例えば150
〜200IIlm/SeCの速度で移動させることか要
求される。
内に感光膜を配置させること等のためレベル調整もでき
なくてはならない6半導体ウェハか大径化することに伴
い、ウェ〜ハの反り、厚さ分布、傾き等に合わせて、1
枚のウェーハ内で焦点を何度も合わせ直す必要がある。
ものが主流である。しかし、ガタ、バツクラッシ等のた
めにその駆動精度は、大体の場合約0.1μmか限界で
あり、0.0■μmやそれ以下の精度を出すことは困難
である。
れている。リニアモータも0.01μm以下の位置精度
を達成することは困難である。
XY駆動装置等も提案されている。圧電素子は微小の変
位を生じさせることに長じているか変位の絶対値を大き
くすることは難しい。
せるのか有利となる。
各軸方向、各回転方向について行うことも提案されてい
る。
ータの軸は被駆動体に対して直角方向に設けられ、被駆
動体を押すか引くことにより被駆5 動体に駆動力を鋤かせている。XY面を画定するステー
ジ体のZ方向レベルの調整をする場合、Z方向に沿った
軸を有するアクチュエータで駆動する.アクチュエータ
の軸方向長さか大きいと、ステージ装置全体の寸法もか
なり大きくなる。
ール等の案内部材上を移動する。たとえば、まずステー
ジをX方向に移動可能に保持する案内部材とX方向駆動
源を含むX段が構或され、次にこのX段全体をY方向に
移動可能に保持する案内部材とY方向駆動源を有ずるY
段が構成され、このY段をさらにZ方向に移動させる案
内部材と駆動源とを有するZ段か構成される。さらに必
要に応じて、θX、θy、θZの回転段が付加される。
の段数が倍加する。
テージ装置のレベルを調整するためには、6 平面と直交する軸方向を持つアクチュエータを用い、ス
テージ装置の体積を大きなものとしていた。
とすると装置全体かさらに大きなものになってしまう。
被駆動体との間に介在する部材の数か増加し、部材間の
遊び等の存在により駆動源の発生した駆動力か被駆動体
にどれたけ伝達されるのかが不正確になる。
動の際摩擦により駆動負荷が増大し、位置精度や応答性
を悪くする, 本発明の目的は、高精度の駆動ステージ装置に適したア
クチュエータユニットを提供することである。
ュエータを用い、Z方向の駆動力を発揮するアクチュエ
ータユニットを提供することである。
することである 本発明の他の目的は、小型な1段構成でしかも自由度か
高い駆動ステージ装;dを提f1(することてある。
のウェッジ構造体内でアクチュエータをXY面内方向に
変位させることによって第1のウェッジ部材を軸方向に
移動させ、ウェッジ面の結合を介して第2のウェッジ構
造体をXY平而とほぼ直交するZ方向に移動させる。
の平面内において互いに直交する方向を言う。また、Z
方向とはXY方向のいすれに対しても直交する方向を指
すものとする。
に示す。
5か載置されている。第1のウェッジ構造体5は、軸方
向の両端に端面4a、4bを有し、与えられた信号によ
ってその軸方向長さを変化させるアクチュエータ3と、
これら端面4a,4bに固定され、前記基部2の支持面
2a,2b上に結合、支持され、反対側に第1の対称的
なウェッジ面6a,6bを有する第1のウェッジ部材7
a7bとを含む。この第1のウェッジ構造体5の上に、
第1の対称的なウェッジ面6a,6bとほぼ平行な第2
の対称的なウェッジ面8a,8bを有する第2のウェッ
ジ構造体9が配置され、結合、支持されている。
ジ部材7a,7bとの間、および第1のウェッジ部材7
a,7bの第1の対称的なウェッジ面6a,6bと第2
のウェッジ構造体9の第2の対称的なウェッジ面8a,
8bとの間には接着剤層か設けられている。
狭まるウェッジ面を有し、第2のウェッジ構造体9かこ
れに対して第1のウェッジ禍造体に向かって拡がるウェ
ッジ面を有している。
。すなわち、第2のウェッジ楕造体9が下に向かって狭
まるウェッジ面を有し、第1のウェッジ構造体5は上に
向かって拡がるウェッジ面を有している。
に接続され、被駆動体1を基部2に対して駆動する。
ジ面を有する被駆動体1と、前記基部2と前記被駆動体
1との間に配置された3つのアクチュエータユニットで
あって、各アクチュエータユニットは、軸方向両端に2
つの端面4a,4bを有し、与えられた信号によってそ
の軸方向長さを変化させるアクチュエータ3と、アクチ
ュエータの両端面4a,4bに固定され、前記基部2の
支1 0 持面2a.2b上に結合、支持され、反対測に第1の対
称的なウェッジ面6a,6bを有する第1のウェッジ部
材7a,7bとを含む第1のウェッジ構造体5と、前記
第1の対称的なウェッジ面6a,6bとほぼ平行な第2
の対称的なウェッジ面8a 8bを有し、第1のウェ
ッジ構造体上に結合、支持される第2のウェッジ構造体
と、を有し、アクチュエータ3の軸方向の伸縮によって
第2のウェッジ構造体9か支持面とほぼ直交する方向に
変位することかできるアクチュエータユニットとを有し
、3つのアクチュエータユニットを操作することにより
支持面に対するステージ面のレベルおよび傾きを調整で
きるステージ装置か提供される。
軸と直交する方向には低い剛性を有する弾性リンク部1
0を介してアクチュエータと結合される。
1のウェッジ部材7a,7bが軸方向に駆動され、ウェ
ッジ面6a,6bか軸方向に沿って離れるか、近付くよ
うに移動する。ウェッジ面6a,6bの移動に伴って、
これと係合するウj−.ッジ面8a,8bを有する第2
のウェッジ梢造体9はXY面と直交するZ方向に変位す
る。
上方に狭まるウェッジ面を有する第1のウェッジ部材7
a,7bか内開に動き、ウェッジ面6aと第2のウェッ
ジ構造体9のウェッジ面8aとの間、および同様にウェ
ッジ而6bとウェッジ面8bとの間に間隙を生じようと
する。そこで、間隙を生じないようにするため、下方に
開いたウェッジ面を有する第2のウェッジ桶造体9が図
中下方に移動する6逆にアクチュエータ3が仲ひると、
下方に開いたウェッジ面を有する第2のウェッジ構造体
9は押されるように上方に移動する。
変位が発生する。
上方に拡がるウェッジ面を有する第1のウェッジ部材7
a,7bが内開に動く。そのウェッジ面6a、6bか第
2のウェッジ構造体9のウェッジ面8a,8bを両測か
ら挾み付けるようにし、第2のウェッジ構造体9を上方
に持ち上ける。
ッジ面6a,6bは互いに離れるように移動し、下方に
狭まるウェッジ面を有する第2のウェッジ構造体9か下
方に移動する。
軸方向変位をZ方向の変位に変換するアクチュエータユ
ニットか得られる。
よって生じるZ方向の変位Zは、z =− x゜t
anθ となる。
量Xを拡大ないし縮小してZ方向の変位2に変換するこ
ともできる。
変形しやすいので、滑らかに抵抗少なく面間の摺動運動
を許容する。
のZレベル調整、X軸回り、Y軸回りの回転をさせるこ
とができる。
駆動すると、被駆動体1はZ方向に平行移動する。
とによりX軸回りの回転、Y軸回りの回転も行わせるこ
とができる。したかって、各アクチュエータユニツl一
の変位量を調整することによって、任意のZ,θX,θ
Y運動をさせることができる。
クチュエータユニットに曲げモーメントか発生する。
性リンク部1oを介して被駆動体を支持することにより
、これらの曲げモーメントを吸収することかてきる。
い剛性を有するので、カを受けると容易に軸と直交する
方向に変形する。これにより、アクチュエータユニット
間の干渉を小さくすることができる。
る応力も小さくなり、内部歪みの発生を抑えることかで
きる。
びを排し、被駆動体を高精度で駆動することかできる。
軸方向断面図、第2図(B)はアクチュエータユニット
の四面図、第2図(C)はアクチュエータユニツ1〜の
平面図、第2図(D)はアク・1−ユエータユニツ1〜
の部分拡大図である。
クチュエータ素子13a、13bは収納ケース24a、
24bにそれぞれ収納されている。
17a、17bにボル1・その他の適当な方法で固定さ
れている。さらに、第2図(B)に示すように、収納ケ
ース24a、2 4 bは互いに突き合わされ、ボルl
・25等の適当な手段によって締め付けられ、圧電素子
であるアクチュエータ素子13a、13bに適当な予圧
を与えている。したがって、アクチュエータ素子13a
、1. 3 b、収納ケース24a、24b、スライド
ウェッジ体1. 7 a、1. 7 bは、一体に結合
されて第1のウェッジ梢造体5を構成する。スライドウ
ェッジ体17a、17bは下面にスライドrfji 1
5 a、15b1 6 を有し、十−面に傾斜スライド而16a、16bを有ず
る。これらのスライド面1. 6 a、16bは図中左
右に対称な傾斜角を有する。
を有するアクチュエータベース12上に載買される。ア
クチュエータ素子13a、13bか伸縮すると、それに
件ってスライドウェッジ体17a、17bか互いに離れ
たり、近付くように変位する。
9が載置されている。第2のウェッジ構造体9の下面に
は、スライドウェッジ体17a、17bのウェッジ面1
6a、16bに対面するウェッジ而18a、18bか形
成されている。すなわち、ウェッジ面16aと1 8
aは平行に配置され、ウェッジ面16bと18bも平行
に配置される。スライドウェッジ体17a、17bが互
いに離れる方向に変位すると、第2のウェッジ構造体9
のウェッジ面18a、18bは押し圧力を受けて上方に
変位する。逆にスライドウェッジ体171 7 a、17bか互いに近付く方向に変位すると、第2のウ
ェッジm造体9のウェッジ面18a、18bは引き寄せ
られるように下方に変位する。
チュエータベース12の間およびスライドウェッジ体1
7a、17bと第2のウェッジ横遣体9の間の接触は、
単なる摺動接触でも良いか、好ましくは、第2図(D)
に示すようにその間を接着剤層27、2つによって結合
する。接着剤層27、29はたとえば厚さ100〜50
0μ1nの薄い接着剤層で形或される。接着剤層27、
29はたとえばエポキシ樹脂で形或される。たとえば、
圧電素子であるアクチュエータ素子13a、1. 3
bか40μm程度の軸方向変位を生じた時、第2のウェ
ッジ横造体9は10〜20μm程度のZ方内変付を生じ
るように構或する。接着剤層は剪断変形に対する耐性は
低いが圧縮に対する耐性は高い。従って、スライドウェ
ッジ体17か変位しようとした時に、容易に剪断変形を
起こして第2のウェッジ構造体9を図中樅方向に駆動す
る。
性リンク部20が設けられている。弾性リンク部20は
径を絞った円柱形状を有する。すなわち、弾性リンク部
20は軸方向に対しては十分な剛性を有するか、軸方向
と直交する方向に対してはその剛性を低くしている6弾
性リンク部20はさらに締結部21に連続している。
つのネジ穴が形成され、ボルト22a、22b、22c
、22dを受け入れる。被駆動体1はこれらのボルトに
よって締結M21に固定されている。
された場合に、他の駆動力源が駆動力を印加した時、そ
の駆動力による変位を許容するために設ける。すなわち
、横から力を受けると、弾性リンク部20は曲かって被
駆動体1の変位を許容する。
場合には、弾性リンク部20は必すしも19 必要ない。
を示す。第3図(A)は第2図(A)に示したような因
柱形状の弾・一.リンク部20社を示す。被駆動体11
が図中上下方向に移動する場合には、弾性リンク部20
aは−」二下方向に曲げ変形することによってその変位
を許容する。第2のウェッジ構造体9が図中左右方向に
移動する際には、弾性リンク部20aは軸方向には十分
な剛性を右するので、被駆動体11を左右方向に駆動ず
る。
す。弾性リンク部20bは相対的に大きな径を有する剛
性部30と両測から中央に向かって径か次第に小さくな
る球面ヒンジ状のヒンジ部31、32を有する。被駆動
体11かその面内方向に変位する際には、ヒンジ部31
、32が結合角度を変化させることにより、その変位を
許容する。第2のウェッジ構造体9が図中左右方向に変
位する場合には、ヒンジ部31、32は十分な剛性を有
し、被駆動体l1を左右方向に駆動する。なお、20 1つの剛性部30の両端に一対のヒンジ部3】、32を
有する場合を示したか、間にヒンジ部を挾んで複数の剛
性部を有する′!l4造としても良い,第4図(A)、
(B)はレベル調整のできるステージ装置を示す。
の上にステージ体40がアクチュエータユニット39a
〜39e、39gのみによって支持されている6 第4図(B)の断面に示すように、ベースW4造体35
はその上面に凹部を有し、ステージ体408まベース横
造体35の凹部に対応する凸部41を有する。ベース横
造体35の凹部は底面36および側面37等によって画
定され、ステージ体40の凸部41の面42とは所定の
間隙43をもって隔てられている。
テージ体40の下には3つのZ軸方向アクチュエータユ
ニット39a、39b、39cか正三角形の各頂点ない
しは各辺の中央部に対応す21 る位置に配置されている。また、ステージ体40の各辺
部の内3辺には、それぞれの辺に平行な軸を有する3つ
のアクチュエータユニット39d、39e、39gか配
置されている。それぞれのアクチュエータユニットはベ
ース構造体35に固定されたアクチュヱータベースとス
テージ体40に固定された弾性リンク部材とを有する。
cかZ軸方向の変位およびX軸の回り、Y軸の回りの回
転の3つの自由度を司どる。また、3つのアクチュエー
タユニヅト39d、39e、39gはX軸方向、Y軸方
向、XY面内の回転の3つの自由度を司どる。なお、Z
軸方向のアクチュエータユニツl・を4つないしそれ以
上設ける構成としてもよい。
39aは第2図(A)〜(D>に示したものと同等であ
る。アクチュエータベース12かボルト45によってベ
ースw1造体35に固定され、締結部21かボルl−2
2によってステージ体40に固定されている。第2のウ
ェッジ構造体9が図2 2 中上下方向に変位すると、弾性リンク部20を介して締
結部21が駆動され、ステージ体40か上下方向に駆動
される。
9e、39gはアクチュエータの軸方向に沿って弾性リ
ンク部材を備えたものである。本ステージ禍成の場合、
39d、39e、39gの各アクチュエータ変位量は、
複雑に関連し合いながらステージ変位量X.Y、θZを
決定する。これらXY面内の変位を生じる場合には、Z
軸方向のアクチュエータユニット39a、39b、39
cの弾性リンク部20は曲げを生じることによってその
変位を許容する。
5は、さらに粗動ステージ装置に装架されることによっ
て、所望の駆動スパンを有するXYzステージ装置を構
成する。
をモニタするため、3つのJ!I距系50,23 60a,60bが設けられている。たとえは、被駆動体
1のX方向の位置をモニタずるための系50は、被駆動
体1上のミラー59、レー−17”光源51、ビームス
プリッタ53、ミラー55、受光器57を含み、入射レ
ーサ光52の一部と反射レーサ光54との干渉縞を計数
してミラー4つのX方向位置を計測する。
Y方向モニタ系60a、レーザ光源61b、受光器67
bを含む第2のY方向モニタ系60bも同様の原理によ
ってミラー6つのY方向の位置を計測する。2個所でY
方向イ17置をa]11定することにより、ミラー69
のXY面内の角度θZも測定できる6 また、カメラ80を含む別系統のモニタ系が設けられて
おり、被駆動体1の平面像を撮像して、xY面内の位置
合わせを行えるように構成されている。
、73、75か設けられており、Z方向24 の位置を3点で計測する。これらの結果からZ方向位置
、X軸回りの回転、Y軸回りの回転か測定できる。
れる。目標設定値との比較等の後、制御回路85から補
正信号が圧電アクチュエータ等に送られる。
されるものではない。たとえば、種々の変形、改良、組
み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう, こ発明の効果] 以上述べたように、本発明によれば、アクチュエータ素
子の軸方向に直交する方向に駆動力を発揮することがで
きる。
ル調整かできるステージ装置を小型にすることかできる
。
る。
、レベル調整のできるステージ装置全体の構或を簡単な
ものとすることがてきる。
ッジを利用したアクチュエータユニッl・の概念図、 第2図(A)〜(D>は本発明の実施例によるアクチュ
エータユニッ1へを示す図であり、第2図(A)は縦方
向断面図、第2図(B)は叫面図、第2図(C)は平面
図、第21”i?l(D>は部分拡大断面図、 第3図(A>、(B)は弾性リンク部の2つの横遣例を
示す斜視図、 第4図(A)、(B)は実施例によるレベル調整ンので
きるステージ装置を示す図であり、第4図(A)は平面
図、第4図(B)はIV B − IV B線26 に沿う断面図、 第5図は制御系の概略ブロック図である。 図において、 1 2 2a、2b 3 4a、4b 5 6a、6b 7a、7b 8a、8b 9 10 12 13 17 16、18 20 被駆動体 基部 支持面 アクチュエータ 端面 第1のウェッジ′M4遺体 第1の対称的なウェッジ面 第1のウェッジ部材 第2の対称的なウェッジ面 第2のウェッジ楕遣体 弾性リンク部 アクチュエータペース アクチュエータ素子 スライドウェッジ体 ウェッジ面 弾性リンク部 27 21 24 27、 35 39 40 2つ 締結部 収納ケース 接着剤層 ベース構造f水 アクチュエータユニッ ステージ体 1・
Claims (4)
- (1)、一対の支持面を有する基部と、 軸方向両端に2つの端面を有し、与えられた信号によっ
てその軸方向長さを変化させるアクチュエータと、アク
チュエータの両端面に固定され、前記基部の支持面上に
結合、支持され、反対側に第1の対称的なウェッジ面を
有する第1のウェッジ部材とを含む第1のウェッジ構造
体と、 前記第1の対称的なウェッジ面とほぼ平行な第2の対称
的なウェッジ面を有し、第1のウェッジ構造体上に結合
、支持される第2のウェッジ構造体と、を有し、アクチ
ュエータの軸方向の伸縮によって第2のウェッジ構造体
が軸方向とほぼ直交する方向に変位するアクチュエータ
ユニット。 - (2)、前記支持面と前記第1のウェッジ部材との間、
および前記第1のウェッジ面と前記第2のウェッジ面と
の間にそれぞれ接着剤層を有する請求項1記載のアクチ
ュエータユニット。 - (3)、支持面を有する基部と、 ステージ面を有する被駆動体と、 前記基部と前記被駆動体との間に配置された3つ以上の
アクチュエータユニットであって、各アクチュエータユ
ニットは、軸方向両端に2つの端面を有し、与えられた
信号によってその軸方向長さを変化させるアクチュエー
タと、アクチュエータの両端面に固定され、前記基部の
支持面上に結合、支持され、反対側に第1の対称的なウ
ェッジ面を有する第1のウェッジ部材とを含む第1のウ
ェッジ構造体と、前記第1の対称的なウェッジ面とほぼ
平行な第2の対称的なウェッジ面を有し、第1のウェッ
ジ構造体上に結合、支持される第2のウェッジ構造体と
、を有し、アクチュエータの軸方向の伸縮によって第2
のウェッジ構造体が支持面とほぼ直交する方向に変位す
ることができるアクチュエータユニットと、 を有し、3つのアクチュエータユニットを操作すること
により支持面に対するステージ面のレベルおよび傾きを
調整できるステージ装置。 - (4)、前記各アクチュエータユニットが軸方向に剛性
が高く、軸と直交する方向に剛性が低い弾性リンク部を
有する請求項3記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1192144A JP2773777B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1192144A JP2773777B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0355136A true JPH0355136A (ja) | 1991-03-08 |
JP2773777B2 JP2773777B2 (ja) | 1998-07-09 |
Family
ID=16286429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1192144A Expired - Lifetime JP2773777B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2773777B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003026837A1 (fr) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Yugen Kaisha Newly Laboratory | Dispositif pour deplacer un article lourd equipe d'un mecanisme de reduction de charge et table de fixation de piece pour machine outil |
EP1793432A2 (en) | 2004-05-20 | 2007-06-06 | Japan Science and Technology Agency | Precise and high-load-resistance moving method and device |
WO2010079580A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | Ntn株式会社 | マイクロインジェクション装置および方法 |
CN108788792A (zh) * | 2018-09-11 | 2018-11-13 | 广东工业大学 | 一种平面驱动的可俯仰三自由度运动平台 |
JP2020015139A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 株式会社牧野フライス製作所 | 工作機械及びワーク取付台の傾き調整方法 |
CN112238355A (zh) * | 2019-07-17 | 2021-01-19 | 发那科株式会社 | 位置调整装置以及超精密加工机 |
JP2021016938A (ja) * | 2019-07-17 | 2021-02-15 | ファナック株式会社 | 位置調整装置および超精密加工機 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100346924C (zh) * | 2005-10-19 | 2007-11-07 | 潘旭华 | 一种组合式导轨及其制造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS48100290U (ja) * | 1972-02-28 | 1973-11-26 | ||
JPS6091891U (ja) * | 1983-11-29 | 1985-06-22 | 株式会社オーデイオテクニカ | 高さ調整装置 |
JPS63120047A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-24 | ザ・ワーナー・アンド・スウエーシイ・カンパニイ | スライドおよび通路アセンブリおよびその製造方法 |
JPS63193089A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | 株式会社日立製作所 | 6自由度微動装置 |
JPH0174597U (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-19 |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1192144A patent/JP2773777B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS48100290U (ja) * | 1972-02-28 | 1973-11-26 | ||
JPS6091891U (ja) * | 1983-11-29 | 1985-06-22 | 株式会社オーデイオテクニカ | 高さ調整装置 |
JPS63120047A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-24 | ザ・ワーナー・アンド・スウエーシイ・カンパニイ | スライドおよび通路アセンブリおよびその製造方法 |
JPS63193089A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | 株式会社日立製作所 | 6自由度微動装置 |
JPH0174597U (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-19 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003026837A1 (fr) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Yugen Kaisha Newly Laboratory | Dispositif pour deplacer un article lourd equipe d'un mecanisme de reduction de charge et table de fixation de piece pour machine outil |
EP1793432A2 (en) | 2004-05-20 | 2007-06-06 | Japan Science and Technology Agency | Precise and high-load-resistance moving method and device |
EP1793432A3 (en) * | 2004-05-20 | 2008-07-09 | Japan Science and Technology Agency | Precise and high-load-resistance moving method and device |
WO2010079580A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | Ntn株式会社 | マイクロインジェクション装置および方法 |
JP2020015139A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 株式会社牧野フライス製作所 | 工作機械及びワーク取付台の傾き調整方法 |
CN108788792A (zh) * | 2018-09-11 | 2018-11-13 | 广东工业大学 | 一种平面驱动的可俯仰三自由度运动平台 |
CN112238355A (zh) * | 2019-07-17 | 2021-01-19 | 发那科株式会社 | 位置调整装置以及超精密加工机 |
JP2021016938A (ja) * | 2019-07-17 | 2021-02-15 | ファナック株式会社 | 位置調整装置および超精密加工機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2773777B2 (ja) | 1998-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7218032B2 (en) | Micro position-control system | |
US7812507B2 (en) | Piezoelectric motor and camera device | |
Li et al. | Design and development of a new piezoelectric linear Inchworm actuator | |
JPH07106516B2 (ja) | 位置決めステージ | |
JP2005268760A (ja) | ステージ装置{stageapparatus} | |
US20050229737A1 (en) | Manufacturing system for microstructure | |
US7243571B2 (en) | Ultra-precision positioning system | |
Lin et al. | Design of A flexure-based mixed-kinematic XY high-precision positioning platform with large range | |
JPH0760191B2 (ja) | 精密位置決め装置 | |
US11159103B2 (en) | Six-degree-of-freedom large-stroke uncoupling large hollow series-parallel piezoelectric micro-motion platform | |
JPH0355136A (ja) | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 | |
JP5028659B2 (ja) | 位置決め機構 | |
Zhang et al. | Design of an inchworm-type linear piezomotor | |
Yun et al. | Development of a multi-drive-mode piezoelectric linear actuator with parallel-arrangement dual stator | |
US6860020B2 (en) | Ultra-precision feeding apparatus | |
JP4112919B2 (ja) | Zチルトステージ | |
US7509886B2 (en) | Mechanical structure providing six degrees of freedom | |
JPH0356895A (ja) | 駆動ステージ装置およびそのためのアクチュエータユニット | |
JP2780817B2 (ja) | 精密ステージ装置 | |
US11048053B2 (en) | Movable flexure and MEMS elements for improved optical coupling to photonic integrated circuits | |
US6681496B2 (en) | Method of active fiber alignment with movable V-groove precision control microstructures | |
JP2000009867A (ja) | ステージ移動装置 | |
Ferreira | Design of a flexible conveyer microrobot with electromagnetic field-based friction drive control for microfactory stations | |
KR940002734B1 (ko) | 고체형 엑취에이터(Actuator)를 이용한 웨이퍼의 정밀구동장치 | |
KR102149410B1 (ko) | 미세 이송기구 및 이를 포함하는 초정밀 포지셔닝 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080424 Year of fee payment: 10 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090424 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090424 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100424 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100424 Year of fee payment: 12 |