JPH035413Y2 - - Google Patents

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JPH035413Y2
JPH035413Y2 JP1983078037U JP7803783U JPH035413Y2 JP H035413 Y2 JPH035413 Y2 JP H035413Y2 JP 1983078037 U JP1983078037 U JP 1983078037U JP 7803783 U JP7803783 U JP 7803783U JP H035413 Y2 JPH035413 Y2 JP H035413Y2
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JP
Japan
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pad
base
pad mounting
mounting board
plate
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JP1983078037U
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JPS59183748U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、ラツピングマシンやポリツシングマ
シン等の平面研削装置における定盤の改良に関す
るものである。
この種平面研削装置においてワークの研削加工
を行う場合、上面にパツドを接着した定盤が使用
されているが、加工と共にパツドの摩耗が生じる
ため、定期的にパツドを交換する必要がある。
このようなパツドの交換に当り、従来では、有
機溶剤をパツドに含浸させて接着剤を溶解させ、
それによつて該パツドを剥離させるようにしてい
たが、パツドの筋目などに加工液が大量に含まれ
ているため有機溶剤の浸透が悪く、その剥離だけ
でもかなりの時間を必要としていた。従つて、パ
ツドの交換を短時間で行うことは極めて困難であ
り、長時間にわたる作業の中断によつて生産性の
低下が避けられなかつた。しかも、密閉された場
所での作業であるため、有機溶剤の使用は人体に
悪影響を与え、安全性の点でも好ましいことでは
なかつた。
パツドだけでなく定盤全体を交換する方法も考
えられるが、、定盤が大きい場合にはクレーンな
どの装置が必要となり、クレーン度を必要とする
室内での作業には適さない。
本考案は、上記従来の欠点に鑑み、パツドの交
換を簡単且つ迅速に行い得るようにすることを目
的とするものである。
上記目的を達成するため、本考案における定盤
は、機体に回転自在に支承させた基盤と該基盤に
着脱自在のパツド取付盤とに分割し、基盤の上面
にパツド取付盤を真空吸着により固定するための
複数の吸着溝を設けると共に、パツド取付盤の上
面に研削用のパツドのを交換可能に取付け、これ
ら基盤とパツド取付盤とに両盤の相対回転を防止
するための係止手段を設けたことを特徴とするも
のである。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明するに、第1図において、1は定盤であつ
て、該定盤1は、回転軸2を介して平面研削装置
の機体(図示せず)に回転自在に支承され、該回
転軸2は、減速装置3を介してモータ4に連結さ
れている。
上記定盤1は、回転軸2の上端に取付けられた
基盤5と、該基盤5に着脱自在のパツド取付盤6
とからなるもので、基盤5には、その上面に多数
の吸着溝7を放射状(第2図参照)に切設すると
共に、その内部に冷却水を充填するための水冷ジ
ヤケツト8を形成し、上記吸着溝7を、吸引管
9、ロータリ接手10、バキユームスイツチ11
及びアキユムレータ12を介して真空ポンプ13
に接続し、水冷ジヤケツト8には、給水源14a
に通じる給水管14と冷却水排出用の排水管15
とを接続している。
また、上記パツド取付盤6は、第3図からも明
らかなように、円板状をなす本体16の周縁に縁
枠17を下向きに垂設し、本体16の上面に研削
用のパツド18を接着剤によつて接着したもの
で、基盤5の上面にOリングa1,a2を介して気密
に被着できるように構成し、吸着溝7を通じて真
空ポンプ13からの吸引力を作用または解放させ
ることによつて該基盤5に着脱できるようにして
いる。
そして、上記パツド取付盤6における縁枠17
には、複数の切欠き19を一定間隔で切設し、こ
れに対して基盤5の外側面には、上記切欠き19
に係合するピン20を切欠き19と同位相で突設
し、これらの切欠き19とピン20とによつて基
盤5とパツド取付盤6との相対回転を防止する係
止手段を構成している。
上記パツド取付盤6は、熱変形を生じにくい金
属素材を使用し、人手で持ち上げ得る程度に軽量
に形成すると同時に、基盤5への取付時には該基
盤5の上面に倣つて吸着され、それによつて高精
度の平面を維持できるように構成するのが望まし
い。
なお、図中21はプレツシヤプレート、22は
ワークを示している。
上記構成を有する定盤1を使用してワーク22
の研削加工を行うに当り、パツド取付盤6を基盤
5に取付ける場合には、切欠き19内にピン20
を係合させた状態でパツド取付盤6を基盤5上に
被着し、真空ポンプ13からの吸引力を吸着溝7
を通じて作用させることによりそれを固定する。
このとき、パツド取付盤6は基盤5に倣つた状態
で吸着され、その平面度が高精度に維持される。
この状態で、プレツシヤプレート21に保持さ
れたワーク22の加工が公知の方法によつて行わ
れる。
上記加工によつてパツド18の摩耗が生じた場
合には、真空ポンプ13を停止させて吸引力を解
放させ、パツド取付盤6を基盤5から取外した
後、新たなパツドを接着した別のパツド取付盤を
取付ける。これによつて短時間の間にパツド取付
盤の交換を行うことができ、取外したパツド取付
盤におけるパツドの交換は、他の任意の場所にて
行うことが可能となる。
パツド取付盤6を装着した後一定時間を経過し
ても真空圧が上昇しない場合には、バキユームス
イツチ11が働いて機械の停止または警報の発生
が行われ、逆に真空圧が上昇し過ぎた場合には、
バキユームスイツチ11により真空ポンプ13が
停止される。
なお、上記実施例では、本考案の定盤を片面研
削に適用した場合について説明したが、両面研削
にも適用し得ることはいうまでもなく、また、吸
着溝7は、同心円状や星形等に形成することもで
きる。
このように本考案によれば、定盤を機体に取付
けられる基盤とパツドを交換可能に接着したパツ
ド取付盤とに分割し、パツドが摩耗した場合には
パツド取付盤ごと交換するようにしたので、複数
のパツド取付盤を用意して循環的に使用すること
により、パツドの交換作業を非常に簡単且つ迅速
に行うことができ、特に、従来のように機体上に
おいて直接パツドだけを交換する場合には、加工
液によつて有機溶剤の浸透性が阻害されることか
らパツドを剥離させにくく、その交換作業に時間
がかかつて大きなロスタイムを生じていたが、本
考案においては、パツドをパツド取付盤ごと交換
した後、別の場所で張り換えることができるの
で、従来のような大きなロスタイムを生じること
がない。
また、上記パツドを基盤に真空吸着されるパツ
ド取付盤に交換可能に貼着するようにしたので、
該パツドを直接定盤に真空吸着させる場合のよう
に該パツドの下面に空気不透過層を設けるなどの
特殊加工を施す必要がなく、従来のパツドをその
まま使用することができ、しかも、吸着溝の部分
で吸引によるパツドの変形を生じることがないた
め、該パツドの平面度を確実に維持して加工精度
を高めることができる。
更に、基盤に複数の吸着溝を別々に形成したの
で、いずれかの吸着溝の吸着状態が不良になつた
としても、他の吸着溝がそれによる影響を受ける
おそれがなく、そのためパツド取付盤を確実に吸
着させることができ、しかも、基盤とパツド取付
盤とに相対回転を防止するための係止手段を設け
たので、該パツド取付盤を回転や位置ずれ等が生
じないように一定の位置に安定的に取り付けるこ
とができ、該パツド取付盤を吸着力のみで固定す
る場合に比べ、比較的低い真空圧で所定の位置に
確実に固定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す断面図、第2
図は基盤の平面図、第3図はパツド取付盤の部分
破断斜視図である。 1……定盤、5……基盤、6……パツド取付
盤、7……吸引管、18……パツド。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 機体に回転自在に支承させた基盤と該基盤に着
    脱自在のパツド取付盤とからなり、基盤の上面に
    パツド取付盤を真空吸着により固定するための複
    数の吸着溝を設けると共に、パツド取付盤の上面
    に研削用のパツドを交換可能に取付け、これら基
    盤とパツド取付盤とに両盤の相対回転を防止する
    ための係止手段を設けたことを特徴とする平面研
    削用定盤。
JP1983078037U 1983-05-24 1983-05-24 平面研削用定盤 Granted JPS59183748U (ja)

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JP1983078037U JPS59183748U (ja) 1983-05-24 1983-05-24 平面研削用定盤

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JPS59183748U JPS59183748U (ja) 1984-12-07
JPH035413Y2 true JPH035413Y2 (ja) 1991-02-12

Family

ID=30208047

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WO1995029039A1 (fr) * 1994-04-22 1995-11-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Plaque support de surface de meulage separable et appareil associe

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JPS59183748U (ja) 1984-12-07

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