JPH0354138Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 この考案は液処理装置に関し、特に半導体ウエ
ーハにエツチング、洗浄等の薬液処理を施す場合
に好適するものである。

従来の技術 半導体装置を製造する場合、半導体ウエーハに
エツチング、現象、洗浄等の各種の薬液処理が施
されている。従来の薬液処理装置は、第２図に示
す構造を有する。図において、１は処理槽で、そ
の周囲にオーバーフロー槽２が付設されている。
３は処理槽１内に収容された薬液である。前記オ
ーバーフロー槽２の底部から処理槽１の底部中央
に配管４が設けられ、この配管４の途中にポンプ
５とフイルタ６とが順に接続されている。

図において、ポンプ５を駆動すると、処理槽１
内の薬液３がオーバーフローしてオーバーフロー
槽２に入り、配管４内をポンプ５、フイルタ６を
経由して再び処理槽１内に戻る。したがつて、半
導体ウエーハを収納したキヤリヤ等（図示せず）
に付着しているゴミ７は、薬液３の表面に浮遊
し、薬液３と共にオーバーフロー槽２にオーバー
フローし、フイルタ６で阻止されるので、処理槽
１には清浄な薬液３が供給される。

考案が解決しようとする問題点 ところで、キヤリヤ等に付着しているゴミは、
必ずしも薬液３よりも軽くて、薬液３の表面に浮
遊するものばかりでなく、薬液３中に滞留するも
のがある。このような重いゴミ８は、図示するよ
うに、処理槽１の底部の隅部１ａに溜まりやす
く、薬液３の清浄化には限度があつた。

問題点を解決するための手段 そこで、この考案は、処理槽の底部隅部とポン
プの入力側との間に補助配管を設けたことを特徴
とするものである。

作 用 上記の構成によれば、ポンプの駆動時に、処理
槽の底部隅部から薬液が排出されるので、この底
部隅部に溜まつているゴミが薬液と共に槽外に排
出され、処理槽内の薬液の清浄度を高めることが
できる。

実施例 以下、この考案の一実施例について、第１図を
参照して説明する。図において、１０は処理槽
で、その周囲にオーバーフロー槽１１が付設され
ており、処理槽１０内には薬液１２が収納されて
いる。前記オーバーフロー槽１１の底部から処理
槽１０の底部中央には主配管１３が設けられてお
り、この主配管１３の途中にポンプ１４およびフ
イルタ１５がその順に接続されている。以上の構
成は、第２図の従来装置と同様である。しかる
に、本実施例では、処理槽１の底部隅部１０ａと
ポンプ１４の入力側との間に、補助配管１６を接
続していることを特徴とする。

上記の構成によれば、ポンプ１４を駆動する
と、処理槽１０内の薬液１２がオーバーフローし
てオーバーフロー槽１１に入り、主配管１３を通
りフイルタ１５で濾過されて処理槽１０に底部中
央から入る。したがつて、薬液１２の表面に浮遊
している軽いゴミ１７は薬液１２と共にオーバー
フローして、フイルタ１５で阻止されるので、処
理槽１０には清浄な薬液１２が供給される。一
方、処理槽１０の底部隅部１０ａからも、補助配
管１６を通つて薬液１２が抜かれ、主配管１３に
合流し、フイルタ１５を通つて、処理槽１０に底
部中央から供給される。したがつて、薬液１２の
表面に浮遊しない重いゴミも、処理槽１０の底部
隅部に滞留することなく、薬液１２を高清浄度に
保持することができる。

なお、上記実施例は補助配管１６をポンプ１４
の入力側主配管に直接接続して、常時、処理槽１
０の底部隅部から薬液を抜く場合について説明し
たが、図中２点鎖線で示すように、バルブ１８を
介在して、このバルブ１８を間欠的に開くように
してもよい。

考案の効果 以上のように、この考案によれば、処理槽の底
部隅部に滞留しやすい重いゴミが補助配管で排出
できるので、薬液が高清浄度に維持でき、半導体
ウエーハ等の良品率を向上できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の一実施例の薬液処理装置の
概略構成図である。第２図は従来の薬液処理装置
の概略構成図である。 １０……処理槽、１１……オーバーフロー槽、
１２……薬液、１３……主配管、１４……ポン
プ、１５……フイルタ、１６……補助配管。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 処理槽と、オーバーフロー槽と、処理槽内に収
   容された薬液と、オーバーフロー槽からポンプお
   よびフイルタを介して処理槽の底部中央に接続さ
   れた配管とを備えてなる薬液処理装置において、 前記処理槽の底部隅部とポンプの入力側との間
   に補助配管を設けたことを特徴とする薬液処理装
   置。