JPH0353626B2 - - Google Patents
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- JPH0353626B2 JPH0353626B2 JP11711081A JP11711081A JPH0353626B2 JP H0353626 B2 JPH0353626 B2 JP H0353626B2 JP 11711081 A JP11711081 A JP 11711081A JP 11711081 A JP11711081 A JP 11711081A JP H0353626 B2 JPH0353626 B2 JP H0353626B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真用感光体、更に詳しく言えば
光導電層の表面に保護層を有する電子写真感光体
の改良に関するものである。
光導電層の表面に保護層を有する電子写真感光体
の改良に関するものである。
帯電、露光、現像等のプロセスを含む電子写真
方式において用いられる感光体としては多くのも
のが実用化されている(例えば、米国特許第
2297619号参照)。例えば、適当な導電性基板上に
有機光導電材料を塗布あるいは蒸着などにより直
接設けたもの、あるいは上記材料を適当な有機バ
インダーとともに設けたもの、あるいはバインダ
ー中にZnO、CdS、TiO2等の無機光導電材料を
分散させたもの、あるいは無定形セレン又はその
合金などを蒸着したもの、あるいは上記の各種の
光導電層を2層以上に積層したものなどが用いら
れている(例えば、特公昭45−5394号、特公昭46
−3005号、特公昭49−14271号参照)。これらの感
光体では、その電気的及び光学的性質と機械的性
質とを両立させるために、あるいはこれらの性質
を一層向上かつ安定させるために、また場合によ
つては現像等のプロセスにおける特性を向上させ
るために、感光体表面に表面層を設けることが提
案されている。この表面層の1つは保護層と称さ
れるものであつて、例えば樹脂薄膜を表面に設
け、帯電及び画像露光(カールソンプロセス)に
より潜像形成を行うものである。しかし、この様
な保護層を設けた感光体を用いると多くの場合に
高い残留電位とその大幅なサイクル上昇が見られ
る。この高い残留電位とサイクル上昇は保護層を
1μ以下にすることで、かなり改善できるが、皮
膜がはなれやすくなり、長時間の使用に耐えがた
いものになる。別の表面層は絶縁層と称される電
気抵抗の高い樹脂層を設けたものであつて、除電
プロセスを含む特別な方法(例えば、米国特許第
3041167号参照)により潜像形成するものである。
しかし、この絶縁層を有する感光体は特殊な潜像
形成プロセスを用いなければならず、少なくとも
2回の帯電工程を要するため、装置の複雑化を招
き問題がある。
方式において用いられる感光体としては多くのも
のが実用化されている(例えば、米国特許第
2297619号参照)。例えば、適当な導電性基板上に
有機光導電材料を塗布あるいは蒸着などにより直
接設けたもの、あるいは上記材料を適当な有機バ
インダーとともに設けたもの、あるいはバインダ
ー中にZnO、CdS、TiO2等の無機光導電材料を
分散させたもの、あるいは無定形セレン又はその
合金などを蒸着したもの、あるいは上記の各種の
光導電層を2層以上に積層したものなどが用いら
れている(例えば、特公昭45−5394号、特公昭46
−3005号、特公昭49−14271号参照)。これらの感
光体では、その電気的及び光学的性質と機械的性
質とを両立させるために、あるいはこれらの性質
を一層向上かつ安定させるために、また場合によ
つては現像等のプロセスにおける特性を向上させ
るために、感光体表面に表面層を設けることが提
案されている。この表面層の1つは保護層と称さ
れるものであつて、例えば樹脂薄膜を表面に設
け、帯電及び画像露光(カールソンプロセス)に
より潜像形成を行うものである。しかし、この様
な保護層を設けた感光体を用いると多くの場合に
高い残留電位とその大幅なサイクル上昇が見られ
る。この高い残留電位とサイクル上昇は保護層を
1μ以下にすることで、かなり改善できるが、皮
膜がはなれやすくなり、長時間の使用に耐えがた
いものになる。別の表面層は絶縁層と称される電
気抵抗の高い樹脂層を設けたものであつて、除電
プロセスを含む特別な方法(例えば、米国特許第
3041167号参照)により潜像形成するものである。
しかし、この絶縁層を有する感光体は特殊な潜像
形成プロセスを用いなければならず、少なくとも
2回の帯電工程を要するため、装置の複雑化を招
き問題がある。
本発明は前者の保護層を設けた感光体に関する
ものであつて、特殊な潜像形成プロセスを用いる
ことなく、いわゆるカールソンプロセスで潜像の
形成が可能な感光体に関するものである。
ものであつて、特殊な潜像形成プロセスを用いる
ことなく、いわゆるカールソンプロセスで潜像の
形成が可能な感光体に関するものである。
本出願人は先に前述の欠点を解消するものとし
て、低抵抗保護層の提案を行なつた(特願昭54−
42118号、同54−65671号、同54−65672号及び同
54−65673号参照)。しかし、これらの方法では低
抵抗保護層を設けることによつて10〜20μの保護
層とすることができ、又高い残留電位及び大幅な
サイクル上昇を防止できるものの、時には感光体
全体の帯電性が低下し、その結果として充分なコ
ントラストを持つ画像が得られなくなるという欠
点を有し、特にこの傾向は光導電層が高感度のも
のである場合に顕著であることが判明した。
て、低抵抗保護層の提案を行なつた(特願昭54−
42118号、同54−65671号、同54−65672号及び同
54−65673号参照)。しかし、これらの方法では低
抵抗保護層を設けることによつて10〜20μの保護
層とすることができ、又高い残留電位及び大幅な
サイクル上昇を防止できるものの、時には感光体
全体の帯電性が低下し、その結果として充分なコ
ントラストを持つ画像が得られなくなるという欠
点を有し、特にこの傾向は光導電層が高感度のも
のである場合に顕著であることが判明した。
本発明の目的はこの様な欠点を確実に除去する
ことのできる電子写真用感光体を提供する事にあ
る。
ことのできる電子写真用感光体を提供する事にあ
る。
本発明の目的は導電性支持体上に光導電層、中
間層及び保護層を順次積層してなる電子写真用感
光体において、中間層が有機ジルコニウム化合物
を少なくとも1種類用いて層形成してなるもので
あることを特徴とする電子写真用感光体により達
成することができる。
間層及び保護層を順次積層してなる電子写真用感
光体において、中間層が有機ジルコニウム化合物
を少なくとも1種類用いて層形成してなるもので
あることを特徴とする電子写真用感光体により達
成することができる。
本発明の電子写真用感光体の構成を添付図面に
示す。図中、1は適当な有機化合物を添加した有
機高分子化合物からなる低抵抗透明保護層、2は
有機ジルコニウム化合物含有中間層、3は光導電
層、4は導電性支持体である。
示す。図中、1は適当な有機化合物を添加した有
機高分子化合物からなる低抵抗透明保護層、2は
有機ジルコニウム化合物含有中間層、3は光導電
層、4は導電性支持体である。
2の中間層は、少なくとも上層の保護層の塗布
に用いる溶剤に浸されるものであつてはならな
い。
に用いる溶剤に浸されるものであつてはならな
い。
この中間層はバリヤー層としての役割の他に光
導電体と保護層との接着層としての機能を持たせ
ることもできる。この中間層2に適した有機ジル
コニウム化合物としては、例えば以下のものがあ
げられる。
導電体と保護層との接着層としての機能を持たせ
ることもできる。この中間層2に適した有機ジル
コニウム化合物としては、例えば以下のものがあ
げられる。
1 ジルコニウム錯体
a ジルコニウムキレート化合物
ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネ
ート、ジルコニウムジブトキシビスアセチル
アセトネート、ジルコニウムトリブトキシア
セチルアセトネート、ジルコニウムテトラキ
スエチルアセトアセテート、ジルコニウムブ
トキシトリスエチルアセトアセテート、ジル
コニウムジブトキシビスエチルアセトアセテ
ート、ジルコニウムトリブトキシモノエチル
アセトアセテート、ジルコニウムテトラキス
エチルラクテート、ジルコニウムジブトキシ
ビスエチルラクテート、ビスアセチルアセト
ネートビスエチルアセトアセテートジルコニ
ウム、モノアセチルアセトネートトリスエチ
ルアセトアセテートジルコニウム、ビスアセ
チルアセトネートビスエチルラクテートジル
コニウム。
ート、ジルコニウムジブトキシビスアセチル
アセトネート、ジルコニウムトリブトキシア
セチルアセトネート、ジルコニウムテトラキ
スエチルアセトアセテート、ジルコニウムブ
トキシトリスエチルアセトアセテート、ジル
コニウムジブトキシビスエチルアセトアセテ
ート、ジルコニウムトリブトキシモノエチル
アセトアセテート、ジルコニウムテトラキス
エチルラクテート、ジルコニウムジブトキシ
ビスエチルラクテート、ビスアセチルアセト
ネートビスエチルアセトアセテートジルコニ
ウム、モノアセチルアセトネートトリスエチ
ルアセトアセテートジルコニウム、ビスアセ
チルアセトネートビスエチルラクテートジル
コニウム。
b その他錯体
ジルコニウムトリフロロアセチルアセトン。
2 ジルコニウムエステル
ジルコニウムn−ブチレート、ジルコニウム
n−プロピレート。
n−プロピレート。
これらの化合物は、単独でも2種以上の混合物
としても用いることができる。更に、接着性の改
善、抵抗値の制御、その他の理由から上記の有機
金属化合物と他の有機樹脂化合物との混合物とし
て用いることもできる。
としても用いることができる。更に、接着性の改
善、抵抗値の制御、その他の理由から上記の有機
金属化合物と他の有機樹脂化合物との混合物とし
て用いることもできる。
中間層2の膜厚は任意に設定されるが、10μm
以下、特に1μm以下が好適である。
以下、特に1μm以下が好適である。
この中間層の形成はスプレー塗布、浸漬塗布、
ナイフ塗布、ロール塗布等の適宜の方法で塗布す
ることによつて行うことができる。
ナイフ塗布、ロール塗布等の適宜の方法で塗布す
ることによつて行うことができる。
本発明の感光体の光導電層としてはSe、Se−
Te合金、Se−As合金、あるいはこれらを適当に
組合せた多層型の真空蒸着膜やポリビニルカルバ
ゾール/2,4,7−トリニトロ−9−フルオレ
ノン(PVK/TNF)等の有機光導電体、ZnOや
CdS等の無機光導電体をバインダー中に分散した
もの、あるいは電荷発生層と電荷輸送層を積層し
たもの等を使用することができる。
Te合金、Se−As合金、あるいはこれらを適当に
組合せた多層型の真空蒸着膜やポリビニルカルバ
ゾール/2,4,7−トリニトロ−9−フルオレ
ノン(PVK/TNF)等の有機光導電体、ZnOや
CdS等の無機光導電体をバインダー中に分散した
もの、あるいは電荷発生層と電荷輸送層を積層し
たもの等を使用することができる。
また、保護層としては有機高分子化合物に適当
な有機化合物あるいは無機化合物を添加したもの
が一般に使用でき、例えば有機高分子化合物に電
子供与性化合物あるいは電子供与性化合物と電子
受容性化合物を添加した電子伝導性材料を用いた
場合、あるいは有機高分子に粒径0.3μm好ましく
は0.15μm以下の金属及び金属酸化物を分散した、
電子伝導性材料を用いた場合に著しい効果が得ら
れる。即ち、粒径が0.3μm以上では不透明である
が、0.3μm以下になると実質的に透明になり、光
の透過が妨げられない。
な有機化合物あるいは無機化合物を添加したもの
が一般に使用でき、例えば有機高分子化合物に電
子供与性化合物あるいは電子供与性化合物と電子
受容性化合物を添加した電子伝導性材料を用いた
場合、あるいは有機高分子に粒径0.3μm好ましく
は0.15μm以下の金属及び金属酸化物を分散した、
電子伝導性材料を用いた場合に著しい効果が得ら
れる。即ち、粒径が0.3μm以上では不透明である
が、0.3μm以下になると実質的に透明になり、光
の透過が妨げられない。
なお、このような保護層に用いられる材料を具
体的に挙げるとメタロセン及びその分子構造中に
少なくとも1以上のメタロセン骨格を有する化合
物;テトラゾール及びその分子構造中に少なくと
も1個以上のテトラゾール骨格を有する化合物;
平均粒径が0.3μ以下の金、銀、アルミニウム、
鉄、銅、ニツケル等の金属粉及び酸化亜鉛、酸化
チタン、酸化錫、酸化ビスマス、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン等の金属酸化物の粉末;酸化
錫と酸化アンチモンを単一粒子中に含有する粉末
等がある。
体的に挙げるとメタロセン及びその分子構造中に
少なくとも1以上のメタロセン骨格を有する化合
物;テトラゾール及びその分子構造中に少なくと
も1個以上のテトラゾール骨格を有する化合物;
平均粒径が0.3μ以下の金、銀、アルミニウム、
鉄、銅、ニツケル等の金属粉及び酸化亜鉛、酸化
チタン、酸化錫、酸化ビスマス、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン等の金属酸化物の粉末;酸化
錫と酸化アンチモンを単一粒子中に含有する粉末
等がある。
次に比較例及び実施例をあげて本発明の電子写
真感光体を説明する。
真感光体を説明する。
比較例 1
ポリカーボネート80重量部とジメチルフエロセ
ン20重量部をジクロルメタンに溶解させ、この溶
液をAl基板上に設けたAs2Se3蒸着膜(55μ厚)上
に塗布、乾燥し、10μの保護層を有する感光体を
得た。上記の保護層を塗布する前のAs2Se3蒸着
膜を正帯電させ、初期電位を800Vにし、これを
460nmの波長の光で露光する操作を毎分40回の
速度でくり返した。この時残留電位は0Vで安定
していた。一方保護層を設けたAs2Se3蒸着膜を
前記の条件で帯電露光したところ、初期電位
200Vであり残留電位は100Vで安定していた。
ン20重量部をジクロルメタンに溶解させ、この溶
液をAl基板上に設けたAs2Se3蒸着膜(55μ厚)上
に塗布、乾燥し、10μの保護層を有する感光体を
得た。上記の保護層を塗布する前のAs2Se3蒸着
膜を正帯電させ、初期電位を800Vにし、これを
460nmの波長の光で露光する操作を毎分40回の
速度でくり返した。この時残留電位は0Vで安定
していた。一方保護層を設けたAs2Se3蒸着膜を
前記の条件で帯電露光したところ、初期電位
200Vであり残留電位は100Vで安定していた。
したがつて、保護層を有するAs2Se3感光体は
保護層を持たない感光体に較べて著しく静電コン
トラストが小さかつた。
保護層を持たない感光体に較べて著しく静電コン
トラストが小さかつた。
実施例 1
比較例と同様にしてAl基板上にAs2Se3蒸着膜
を形成した。次にその上にジルコニウムテトラn
−ブチレート1重量部、イソプロピルアルコール
10重量部からなる樹脂液を浸漬塗布し、40℃にて
2時間乾燥して、0.5μ厚の中間層を設けた。次い
でこの上に比較例と同じ保護層を10μ厚に設け
た。この感光体を比較例1と同じ方法にて帯電露
光を繰り返したところ、初期電位は900V、残留
電位は103Vであつた。従つて静電コントラスト
は797Vであり、保護層のみの感光体に比べ、そ
の特性を著しく改善し、保護層を持たない感光体
と同様な値であつた。
を形成した。次にその上にジルコニウムテトラn
−ブチレート1重量部、イソプロピルアルコール
10重量部からなる樹脂液を浸漬塗布し、40℃にて
2時間乾燥して、0.5μ厚の中間層を設けた。次い
でこの上に比較例と同じ保護層を10μ厚に設け
た。この感光体を比較例1と同じ方法にて帯電露
光を繰り返したところ、初期電位は900V、残留
電位は103Vであつた。従つて静電コントラスト
は797Vであり、保護層のみの感光体に比べ、そ
の特性を著しく改善し、保護層を持たない感光体
と同様な値であつた。
実施例 2
比較例1と同じ方法でAl基板上にAs2Se3蒸着
膜を形成させた。次にその上にジルコニウムテト
ラキスアセチルアセトネート1重量部、メチル
(トリメトキシ)シラン1重量部、イソプロピル
アルコール30重量部、n−ブチルアルコール5重
量部からなる樹脂液をスプレー塗布し、40℃で2
時間乾燥し、0.3μ厚の中間層を設けた。
膜を形成させた。次にその上にジルコニウムテト
ラキスアセチルアセトネート1重量部、メチル
(トリメトキシ)シラン1重量部、イソプロピル
アルコール30重量部、n−ブチルアルコール5重
量部からなる樹脂液をスプレー塗布し、40℃で2
時間乾燥し、0.3μ厚の中間層を設けた。
次いで、この上に比較例1と同じ保護層を15μ
厚に設けた。この感光体を比較例1と同じ方法に
て帯電露光を繰り返したところ、初期電位935V、
残留電位145Vであつた。従つてこの感光体の静
電コントラストは790Vであり保護層を持たない
感光体と同等の値であつた。
厚に設けた。この感光体を比較例1と同じ方法に
て帯電露光を繰り返したところ、初期電位935V、
残留電位145Vであつた。従つてこの感光体の静
電コントラストは790Vであり保護層を持たない
感光体と同等の値であつた。
実施例 3
比較例1と同様にしてAl基板上にAs2Se3蒸着
膜を形成させた。次にその上にジルコニウムテト
ラキスアセチルアセトネート2重量部、γ−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名、
KBM503、信越化学社製)1重量部、n−ブタ
ノール20重量部からなる溶液をスプレー塗布し、
100℃にて2時間乾燥して、0.6μ厚の中間層を設
けた。次いでこの上に比較例1と同じ保護層を
10μ厚に設けた。
膜を形成させた。次にその上にジルコニウムテト
ラキスアセチルアセトネート2重量部、γ−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名、
KBM503、信越化学社製)1重量部、n−ブタ
ノール20重量部からなる溶液をスプレー塗布し、
100℃にて2時間乾燥して、0.6μ厚の中間層を設
けた。次いでこの上に比較例1と同じ保護層を
10μ厚に設けた。
この感光体を比較例1と同じ方法にて帯電露光
を繰り返したところ初期電位915V、残留電位
115Vであつた。従つてこの感光体の静電コント
ラストは800Vであり、保護層を持たない感光体
の静電コントラストと同じであつた。
を繰り返したところ初期電位915V、残留電位
115Vであつた。従つてこの感光体の静電コント
ラストは800Vであり、保護層を持たない感光体
の静電コントラストと同じであつた。
比較例 2
長さ300mmのAl円筒上に設けたSe(50μ厚)蒸着
膜及びSe−Te合金蒸着膜(1μ厚)よりなる二層
型の光導電体の上に、ポリウレタン樹脂(関西ペ
イント社製、レタン4000)固形分70重量部に対し
粒径0.1μm以下の酸化スズ30重量部を加えて分散
した樹脂液を塗布乾燥し、10μの保護層とした。
この感光体を比較例1と同じ方法にて帯電露光を
繰り返したところ、初期電位150V残留電位85V
であり、著しく静電コントラストが少なかつた。
膜及びSe−Te合金蒸着膜(1μ厚)よりなる二層
型の光導電体の上に、ポリウレタン樹脂(関西ペ
イント社製、レタン4000)固形分70重量部に対し
粒径0.1μm以下の酸化スズ30重量部を加えて分散
した樹脂液を塗布乾燥し、10μの保護層とした。
この感光体を比較例1と同じ方法にて帯電露光を
繰り返したところ、初期電位150V残留電位85V
であり、著しく静電コントラストが少なかつた。
実施例 4
比較例2と同様のSe/Se−Te二層感光層の上
にジルコニウムテトラ−nブチレート2重量部、
ジメチル(ジメトキシ)シラン1重量部、イソプ
ロピルアルコール20重量部からなる溶液をスプレ
ー塗布し、40℃で3時間乾燥して、0.5μ厚の中間
層を設けた。
にジルコニウムテトラ−nブチレート2重量部、
ジメチル(ジメトキシ)シラン1重量部、イソプ
ロピルアルコール20重量部からなる溶液をスプレ
ー塗布し、40℃で3時間乾燥して、0.5μ厚の中間
層を設けた。
次いでこの上に比較例2と同じ保護層を20μ厚
に設けた。この感光体を比較例2と同じ方法で帯
電露光を繰り返したところ初期電位は995V、残
留電位は195Vであつた。従つてこの感光体の静
電コントラストは800Vとなり、保護層のない感
光体と同じであつた。この感光体を用いて磁気ブ
ラシ現像法によるコピーテストを行なつたとこ
ろ、露光パターンと同一の極めて鮮明な画像が得
られた。
に設けた。この感光体を比較例2と同じ方法で帯
電露光を繰り返したところ初期電位は995V、残
留電位は195Vであつた。従つてこの感光体の静
電コントラストは800Vとなり、保護層のない感
光体と同じであつた。この感光体を用いて磁気ブ
ラシ現像法によるコピーテストを行なつたとこ
ろ、露光パターンと同一の極めて鮮明な画像が得
られた。
図面は本発明の電子写真用感光体の構成を示
す。 図中符号:1……低抵抗保護層;2……中間
層;3……光導電層;4……導電性支持体。
す。 図中符号:1……低抵抗保護層;2……中間
層;3……光導電層;4……導電性支持体。
Claims (1)
- 1 導電性支持体上に、光導電層、中間層、及び
保護層を順次積層してなる電子写真用感光体にお
いて、中間層が有機ジルコニウム化合物を少なく
とも1種類用いて層形成してなるものであること
を特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11711081A JPS5818638A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 電子写真用感光体 |
GB08221347A GB2106659B (en) | 1981-07-28 | 1982-07-23 | Electrophotographic photosensitive materials |
US06/402,700 US4444862A (en) | 1981-07-28 | 1982-07-28 | Electrophotographic photosensitive materials having layer of organic metal compound |
DE3228218A DE3228218C2 (de) | 1981-07-28 | 1982-07-28 | Elektrofotografische Aufzeichnungsmaterialien |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11711081A JPS5818638A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5818638A JPS5818638A (ja) | 1983-02-03 |
JPH0353626B2 true JPH0353626B2 (ja) | 1991-08-15 |
Family
ID=14703654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11711081A Granted JPS5818638A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5818638A (ja) |
-
1981
- 1981-07-28 JP JP11711081A patent/JPS5818638A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5818638A (ja) | 1983-02-03 |
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