JPH0348858A - 電子写真用感光体の基材及びこれを用いた電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体の基材及びこれを用いた電子写真用感光体Info
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- JPH0348858A JPH0348858A JP18495589A JP18495589A JPH0348858A JP H0348858 A JPH0348858 A JP H0348858A JP 18495589 A JP18495589 A JP 18495589A JP 18495589 A JP18495589 A JP 18495589A JP H0348858 A JPH0348858 A JP H0348858A
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、電子写真用感光体の基材及びこれを用いた
電子写真用感光体に関するものである。
電子写真用感光体に関するものである。
(従来の技術)
電子写真用感光体(以下、感光体と略称することもある
。)は、複写器、LEDブワンタ、レーザビームプリン
タ等に組み込まれて用いられ、良く知られている。この
ような感光体は、電荷発生及び電荷輸送を単一層で行な
うもの、電荷発生及び電荷輸送を別々の層で行なう機能
分離型のものがある。いずれのものも、基材と、該基材
上に形成され電荷発生・電荷輸送に供する感光層とを少
なくとも具えでいる。
。)は、複写器、LEDブワンタ、レーザビームプリン
タ等に組み込まれて用いられ、良く知られている。この
ような感光体は、電荷発生及び電荷輸送を単一層で行な
うもの、電荷発生及び電荷輸送を別々の層で行なう機能
分離型のものがある。いずれのものも、基材と、該基材
上に形成され電荷発生・電荷輸送に供する感光層とを少
なくとも具えでいる。
以下、基材の重要性についてマイナス帯電型の機能分離
型の感光体の例により説明する。
型の感光体の例により説明する。
第1図は、従来の一般的なマイナス帯電型の機能分離型
の感光体の概略的な断面図である。この感光体は、導電
゛iの基材11と、この基材11上に順次に形成された
電荷発生層13及び電荷輸送層15から成る感光層17
とを具えている(例えば特開昭5944054号公報)
。
の感光体の概略的な断面図である。この感光体は、導電
゛iの基材11と、この基材11上に順次に形成された
電荷発生層13及び電荷輸送層15から成る感光層17
とを具えている(例えば特開昭5944054号公報)
。
第1図に示した感光′体においては、その表面をマイナ
ス電位に帯電させた後その表面の一部に光を照射すると
、電荷発生層13の、光照射された部分に対応する部分
中で正孔と電子のキャリア対が生じる。そしてこの正孔
は、電荷輸送層15中を感光体表面側へ移動し表面のマ
イナス電荷を消去する。この結果、感光体の光照射部分
では帯電電荷がなくなる。またこの時キャリア対の一方
のキャリアである電子は、基材11へ流入し、基材11
に電気的に接続されでいるアースに流れ出る。この結果
、感光体は再び電気的に中性になる。
ス電位に帯電させた後その表面の一部に光を照射すると
、電荷発生層13の、光照射された部分に対応する部分
中で正孔と電子のキャリア対が生じる。そしてこの正孔
は、電荷輸送層15中を感光体表面側へ移動し表面のマ
イナス電荷を消去する。この結果、感光体の光照射部分
では帯電電荷がなくなる。またこの時キャリア対の一方
のキャリアである電子は、基材11へ流入し、基材11
に電気的に接続されでいるアースに流れ出る。この結果
、感光体は再び電気的に中性になる。
このように、基材11は、アースにキャリアを流し出す
という重要な役割を持つでいる。また基材11は、画像
に地汚れ、黒点等が生じないようにするため、適度な電
気抵抗を有するものであることも重要である。ざらに、
基材11は、膜厚の薄い電荷発生層に悪影響を与えない
ようにするため、表面が粗くない状態であること好まし
くは鏡面状態であることも重要である。
という重要な役割を持つでいる。また基材11は、画像
に地汚れ、黒点等が生じないようにするため、適度な電
気抵抗を有するものであることも重要である。ざらに、
基材11は、膜厚の薄い電荷発生層に悪影響を与えない
ようにするため、表面が粗くない状態であること好まし
くは鏡面状態であることも重要である。
このような1貢を有する基材11として、一般には、所
定の寸法に機械加工され表面が鏡面加工されたアルミニ
ウムが用いられていた。その理由は、アルミニウムか導
電性を持ち然もその表面が自然に酸化し高抵抗な膜を有
するようになるがらであった。
定の寸法に機械加工され表面が鏡面加工されたアルミニ
ウムが用いられていた。その理由は、アルミニウムか導
電性を持ち然もその表面が自然に酸化し高抵抗な膜を有
するようになるがらであった。
しかし、アルミニウムは、鏡面加工の後瞬時にその表面
が酸化されでしまう、従って均一な酸化膜を自然に得る
のは難しい。このため、アルミニウムから成る基材に対
し強制的に陽極酸化を行ない基材表面にアルマイト膜を
形成する例もあった(例えば特開昭59−104651
号公報、特開昭63−116160号公報)。
が酸化されでしまう、従って均一な酸化膜を自然に得る
のは難しい。このため、アルミニウムから成る基材に対
し強制的に陽極酸化を行ない基材表面にアルマイト膜を
形成する例もあった(例えば特開昭59−104651
号公報、特開昭63−116160号公報)。
また、鏡面加工の工程を省いても基材表面の平滑化が確
保出来るようにすること、及び電気抵抗を調整すること
を主な目的として、アルミニウム等から成る基材上に下
引き層として、ボワビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、カゼイン、ナイロン等のポリマー%11m程度
の膜厚に設ける例も非常に多かった(特開昭59−88
740) 、第2図は、このような下引き層を有する感
光体を概略的な断面図により示したものである。第2図
中19で示すものが下引き層である。
保出来るようにすること、及び電気抵抗を調整すること
を主な目的として、アルミニウム等から成る基材上に下
引き層として、ボワビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、カゼイン、ナイロン等のポリマー%11m程度
の膜厚に設ける例も非常に多かった(特開昭59−88
740) 、第2図は、このような下引き層を有する感
光体を概略的な断面図により示したものである。第2図
中19で示すものが下引き層である。
同様に、基材上に下引き層19として半導電性酸化チタ
ンをコーティングする例もあった(特開昭59−934
53) 。
ンをコーティングする例もあった(特開昭59−934
53) 。
上述のような酸化膜(アルマイト)、または、ポリマー
や半導電性酸化チタンから成る下引き層19があっても
、電荷発生層13て生したキャリアはこれらを通過する
。
や半導電性酸化チタンから成る下引き層19があっても
、電荷発生層13て生したキャリアはこれらを通過する
。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、アルミニウムを基材としで用いるために
は、アルミニウムを所定の形状及び寸法精度に機械的に
加工した債、鏡面加工する必要があり、コスト的にあま
り有利ではなかった。
は、アルミニウムを所定の形状及び寸法精度に機械的に
加工した債、鏡面加工する必要があり、コスト的にあま
り有利ではなかった。
また、鏡面加工しない場合には、アルミニウム基材表面
に、下引き層を形成する必要があった。
に、下引き層を形成する必要があった。
従って下引き層形成のための工数がかかり問題であった
。ざらに、特開昭59−88740号公報に開示されて
いるように半導電性又は導電性粉体をポリマーの有機溶
媒に分散させたものをコーティングし基材表面を平滑に
する場合、コーテイング液中に粉体が分散しているため
、粉体の沈殿等が生じやすく、コーテイング液の取扱い
か難しいという問題もあった。
。ざらに、特開昭59−88740号公報に開示されて
いるように半導電性又は導電性粉体をポリマーの有機溶
媒に分散させたものをコーティングし基材表面を平滑に
する場合、コーテイング液中に粉体が分散しているため
、粉体の沈殿等が生じやすく、コーテイング液の取扱い
か難しいという問題もあった。
そこで、アルミニウム基材のこのような欠点を除くため
に、基材をプラスチックで構成したものが種々提案され
でいる。プラスチック製の基材は成形により容易に形成
出来るという利点があるがらである。
に、基材をプラスチックで構成したものが種々提案され
でいる。プラスチック製の基材は成形により容易に形成
出来るという利点があるがらである。
このようなプラスチック基材の例としては、例えば以下
のようなものがあった。
のようなものがあった。
プラスチック基材上に金属メツキしたものを基材とする
例(特開昭58−108548号公報)。
例(特開昭58−108548号公報)。
カーボンを分散させた材料で表面を覆ったフェノール樹
脂製の基材(特開昭58−30764号公報)。
脂製の基材(特開昭58−30764号公報)。
ここで、プラスチック製の基材表面に金属メツキを施し
たりカーボンを分散させた材料で表面を覆う理由は、プ
ラスチック材料自体が高抵抗でありキャリアをアースに
流れ出させることか出来ないため、これを補う必要があ
るからであった。しかし、メツキを施したり導電性の膜
でコーティングすることは、アルミニウム製基材の場合
と同様、手間かかがるため好ましいことではなかった。
たりカーボンを分散させた材料で表面を覆う理由は、プ
ラスチック材料自体が高抵抗でありキャリアをアースに
流れ出させることか出来ないため、これを補う必要があ
るからであった。しかし、メツキを施したり導電性の膜
でコーティングすることは、アルミニウム製基材の場合
と同様、手間かかがるため好ましいことではなかった。
これを解決するため、プラスチック(フェノール樹脂)
自体に10〜30%の重量比のカーボンブラックまたは
金属yJt混入し、電気抵抗力筒o8Ω・cm以下好ま
しくは105Ω・cm以下としたプラスチック製基材も
提案されていた(特開昭63133160号公報)、シ
かしこの基材は、粉体の含有型が多いため、所望の強度
が得られなかった。
自体に10〜30%の重量比のカーボンブラックまたは
金属yJt混入し、電気抵抗力筒o8Ω・cm以下好ま
しくは105Ω・cm以下としたプラスチック製基材も
提案されていた(特開昭63133160号公報)、シ
かしこの基材は、粉体の含有型が多いため、所望の強度
が得られなかった。
また、導電性粉体を混入させたABS樹脂を用いたプラ
スチック製の基材も提案されでいた(特開昭63−30
1052号公報)。しかし、この基材は、ABS樹脂が
耐溶剤性が低いため、基材上に耐溶剤性の有るナイロン
(ポリアミド樹脂)ヲコーティングしてから用いなけれ
ばなうかった。
スチック製の基材も提案されでいた(特開昭63−30
1052号公報)。しかし、この基材は、ABS樹脂が
耐溶剤性が低いため、基材上に耐溶剤性の有るナイロン
(ポリアミド樹脂)ヲコーティングしてから用いなけれ
ばなうかった。
この耐溶剤性と、プラスチック製基材との間係につき具
体的に説明する。
体的に説明する。
感光体の製造に当たっては基材上に感光層を形成しなけ
ればならない、このため、例えば第1図に示した感光体
の場合であれば、基材上への電荷発生層及び電荷輸送層
の形成は、一般に、電荷発生材料、ポリマーバインダー
及び有機溶媒から成る電荷発生層用コーテイング液を基
材上にコーティングしこれを例えば+00”C程度の温
度で乾燥し、続いて、電荷輸送材料、ボ1ツマ−バイン
ダ及び有機溶媒から成る電荷輸送層用コーテイング液を
電荷発生層上にコーティングしこれi+00’c:程度
の温度で乾燥することにより行なわれる。これがため、
プラスチック製基材は、コーテイング液の調製に用いた
有機溶媒、例えばテトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジオキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、クロロ
ベンセン、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロ
エチレン等のハロゲン化溶媒等に不溶であること(耐溶
剤性を有すること)か必要になる訳である。
ればならない、このため、例えば第1図に示した感光体
の場合であれば、基材上への電荷発生層及び電荷輸送層
の形成は、一般に、電荷発生材料、ポリマーバインダー
及び有機溶媒から成る電荷発生層用コーテイング液を基
材上にコーティングしこれを例えば+00”C程度の温
度で乾燥し、続いて、電荷輸送材料、ボ1ツマ−バイン
ダ及び有機溶媒から成る電荷輸送層用コーテイング液を
電荷発生層上にコーティングしこれi+00’c:程度
の温度で乾燥することにより行なわれる。これがため、
プラスチック製基材は、コーテイング液の調製に用いた
有機溶媒、例えばテトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジオキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、クロロ
ベンセン、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロ
エチレン等のハロゲン化溶媒等に不溶であること(耐溶
剤性を有すること)か必要になる訳である。
また、プラスチック製基材は、耐溶剤性が有ることに加
え、感光層形成の際の乾燥工程における熱によっても寸
法変化しないことも重要である。
え、感光層形成の際の乾燥工程における熱によっても寸
法変化しないことも重要である。
基材の寸法精度は重要であり、“基材の長平方向のたわ
み(真直度)や基材の真円度は非常に厳しく規定されて
いる。一般的には、真直度は0.1mm以下の値に、真
円度も0.1mm以下の値になるように要求される。
み(真直度)や基材の真円度は非常に厳しく規定されて
いる。一般的には、真直度は0.1mm以下の値に、真
円度も0.1mm以下の値になるように要求される。
しかし、ナイロン等の耐溶剤性を有する結晶性ポリマー
では、上述のような寸法i度で成形することは難しいと
いう問題点があった。
では、上述のような寸法i度で成形することは難しいと
いう問題点があった。
また、ポリカーボネート等のような非晶性ポリマーは、
上述のような寸法精度で成形することは出来るが、耐溶
剤性に劣るという問題点があった。
上述のような寸法精度で成形することは出来るが、耐溶
剤性に劣るという問題点があった。
そのため、耐熱性及び耐溶剤性を兼ね具えた熱硬化性樹
脂として知られているフェノール樹脂を用いた基材も提
案されている(上述した特開昭5830764) 、
bかし、これは、押し出し成形法を用い熱硬化反応を用
いているため、成形時間が長くかかり生産性か悪いとい
う問題点があった。
脂として知られているフェノール樹脂を用いた基材も提
案されている(上述した特開昭5830764) 、
bかし、これは、押し出し成形法を用い熱硬化反応を用
いているため、成形時間が長くかかり生産性か悪いとい
う問題点があった。
このように、従来のプラスチ・ンク製基材は、いずれの
ものも技術的に満足のゆくものではなかった。
ものも技術的に満足のゆくものではなかった。
この発明はこのような点に鑑みなされたものであり、従
ってこの発明の目的は、上述の問題点を解決し、所望の
導電性、耐溶剤性、耐熱性さらには、感光体を作製した
時に電気的に安定な表面を与えることが出来る電子写真
用感光体の基材を提供することと、低価格で然も所望の
特性を示す電子写真用感光体を提供することにある。
ってこの発明の目的は、上述の問題点を解決し、所望の
導電性、耐溶剤性、耐熱性さらには、感光体を作製した
時に電気的に安定な表面を与えることが出来る電子写真
用感光体の基材を提供することと、低価格で然も所望の
特性を示す電子写真用感光体を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
この目的の達成を図るため、この出願に係る第一発明の
電子写真用感光体の基材によれば、耐溶剤性を有する非
晶性ポリマーに導電惟粉体を含有させた材料から成りか
つ当該基材の電気抵抗が10’〜1010Ω・cmの範
囲内の値であることを特徴とする。
電子写真用感光体の基材によれば、耐溶剤性を有する非
晶性ポリマーに導電惟粉体を含有させた材料から成りか
つ当該基材の電気抵抗が10’〜1010Ω・cmの範
囲内の値であることを特徴とする。
なおこの第一発明の実施に当たり、前述の非晶性ポリマ
ーをポリエーテルエーテルケトン又はポリアミドイミド
とするのが好適である。
ーをポリエーテルエーテルケトン又はポリアミドイミド
とするのが好適である。
ここで、基材の電気抵抗10’〜1010Ω・amの範
囲内の値としている理由は、電気抵抗が10’Ω・cm
より小さいと地汚れや黒点が生じ易く、電気抵抗が10
11Ω・Cm以上であるとアースにキャリアを流し出す
ことが困難になるからである(詳細は、後述の実験結果
参照、)。
囲内の値としている理由は、電気抵抗が10’Ω・cm
より小さいと地汚れや黒点が生じ易く、電気抵抗が10
11Ω・Cm以上であるとアースにキャリアを流し出す
ことが困難になるからである(詳細は、後述の実験結果
参照、)。
また、この出願に係る第二発明の電子写真用感光体によ
れば、耐溶剤性を有する非晶性ボ1ツマに導電性粉体を
含有させた材料がら成りがっ当該基材の電気抵抗が10
8〜1011Ω0cmである基材と、この基材上側に形
成された感光層とを具えて成ることを特徴とする。
れば、耐溶剤性を有する非晶性ボ1ツマに導電性粉体を
含有させた材料がら成りがっ当該基材の電気抵抗が10
8〜1011Ω0cmである基材と、この基材上側に形
成された感光層とを具えて成ることを特徴とする。
なおこの第二発明の実施に当たり、前述の非晶牲ポリマ
ーをポリエーテルエーテルケトン又Jよポリアミドイミ
ドとするのが好適である。
ーをポリエーテルエーテルケトン又Jよポリアミドイミ
ドとするのが好適である。
(作用)
この発明の電子写真用感光体の基材によれば、後述する
実験結果からも明らかなように、対溶剤′iに優れ、耐
熱性にも優れる基材が得られる。ざらに、電気抵抗!
108〜IQIOΩ・cmという適正な値としであるの
で、下引き層を用いないで感光体を作製しでも特性に優
れる感光体か得られる。
実験結果からも明らかなように、対溶剤′iに優れ、耐
熱性にも優れる基材が得られる。ざらに、電気抵抗!
108〜IQIOΩ・cmという適正な値としであるの
で、下引き層を用いないで感光体を作製しでも特性に優
れる感光体か得られる。
さらに、この基材は、射出成形で容易に形成出来るので
、低価格である。
、低価格である。
また、第二発明の感光体は、下引き層を設けなくとも所
望の特性か得られることがら、その分製造工程がすくな
くで済むので、低価格なものとなる。
望の特性か得られることがら、その分製造工程がすくな
くで済むので、低価格なものとなる。
(実施例)
以下、この発明の電子写真用感光体の基材及びこの基材
を用いた感光体の実施例につき比較例と共に説明する。
を用いた感光体の実施例につき比較例と共に説明する。
なお、感光体の実施例の説明は、第1図及び第2図を用
いてそれぞれ説明したマイナス帯電型で機能分離型の感
光体の例により行なう、従って、説明は、第1図及び第
2図をも用いて行なう、また、以下の実施例の説明を、
この発明の紀囲内の好ましい材料を用いこの発明の紀囲
内の好ましい数値的条件により行なっている。しかしこ
れら材料及び数値的条件は単なる例示であり、この発明
がこれら材料及び数値的条件にのみ限定されるものでは
ないことは理解されたい。
いてそれぞれ説明したマイナス帯電型で機能分離型の感
光体の例により行なう、従って、説明は、第1図及び第
2図をも用いて行なう、また、以下の実施例の説明を、
この発明の紀囲内の好ましい材料を用いこの発明の紀囲
内の好ましい数値的条件により行なっている。しかしこ
れら材料及び数値的条件は単なる例示であり、この発明
がこれら材料及び数値的条件にのみ限定されるものでは
ないことは理解されたい。
基 び成′ の 制 の
(実施例1)
耐溶剤性を有する非晶゛比ポリマーとしてポリエーテル
エーテルケトン樹脂(この場合、ICI社製)vICT
RExPEEに45oGヘレツト、同社カタログ記載の
構造式は下記0式、)を用い、導電性粉体としてカーボ
ンブラックパウダー(この場合、東海カーボン製のトウ
カブラツク(粒子径25nmのもの))ヲ用いて以下に
説明するように実施例1の基材を作製した。
エーテルケトン樹脂(この場合、ICI社製)vICT
RExPEEに45oGヘレツト、同社カタログ記載の
構造式は下記0式、)を用い、導電性粉体としてカーボ
ンブラックパウダー(この場合、東海カーボン製のトウ
カブラツク(粒子径25nmのもの))ヲ用いて以下に
説明するように実施例1の基材を作製した。
先ず、上記ポリエーテルエーテルケトン樹脂に、上記カ
ーボンブラックパウダーを、重量比で4%((パウダー
重!!/樹脂貫量) =0.04)となるように混練し
て、成形用材料を調製した。
ーボンブラックパウダーを、重量比で4%((パウダー
重!!/樹脂貫量) =0.04)となるように混練し
て、成形用材料を調製した。
この成形用材料を射出成形機と、内側部のみに抜きテー
バを設けた金型とを用いて、径か30mm、長さが26
0mn+ 、肉厚が2mmのバイブ状の形に成形して実
施例1の基材を得た。第1図は、成形に用いた金型の概
略的な断面図である。図中21は金型を示し、11は基
材を示す。
バを設けた金型とを用いて、径か30mm、長さが26
0mn+ 、肉厚が2mmのバイブ状の形に成形して実
施例1の基材を得た。第1図は、成形に用いた金型の概
略的な断面図である。図中21は金型を示し、11は基
材を示す。
このようにして得た基材11は、その真直度か0.05
mm以内であり、真円度が0.05mm以内であり、感
光体用の基材としで用いるに充分な機械精度を有するも
のであった。また表面粗度は、0.23であった。また
、この基材11の電気抵抗(体積抵抗)を測定したとこ
ろ、3×10aΩ・cmであった。
mm以内であり、真円度が0.05mm以内であり、感
光体用の基材としで用いるに充分な機械精度を有するも
のであった。また表面粗度は、0.23であった。また
、この基材11の電気抵抗(体積抵抗)を測定したとこ
ろ、3×10aΩ・cmであった。
次に5この基材11を用いて以下に説明するように感光
体を作製した。
体を作製した。
始めに基材11上にインジウムフタロシアニンの厚ざ0
.Iumの膜を真空度I X 1O−5Torrの条件
で真空蒸着し、電荷発生層13を形成した。ここで用い
たインジウムフタロシアニンは、この出願人に係る特開
昭59−174845号に開示されたもの、即ち、中心
金属がインジウムであってこのインジウムに1個の塩素
が結合しているクロロインジウムフタロシアニンとした
。
.Iumの膜を真空度I X 1O−5Torrの条件
で真空蒸着し、電荷発生層13を形成した。ここで用い
たインジウムフタロシアニンは、この出願人に係る特開
昭59−174845号に開示されたもの、即ち、中心
金属がインジウムであってこのインジウムに1個の塩素
が結合しているクロロインジウムフタロシアニンとした
。
続いて、この電荷発生層13上に以下に説明する電荷輸
送層形成用コーテイング液をデイツプコーティング法に
より塗布し、その後、100″Cの温度で20分間乾燥
して、膜厚が20umの電荷輸送層15を形成した。
送層形成用コーテイング液をデイツプコーティング法に
より塗布し、その後、100″Cの温度で20分間乾燥
して、膜厚が20umの電荷輸送層15を形成した。
ここで、上記電荷輸送層形成用コーテイング液は、ポリ
カーボネート樹脂(三菱瓦斯化学製のシクロヘキシル型
ポリカーボネート2200 )と7、ブタジェン型電荷
移動材料(亜南香料産業社製のNo、TaO2(特開昭
62−287257号に開示のもの)とを1:1(重量
比)で混合したものをクロロホルムに溶解させたものと
した。
カーボネート樹脂(三菱瓦斯化学製のシクロヘキシル型
ポリカーボネート2200 )と7、ブタジェン型電荷
移動材料(亜南香料産業社製のNo、TaO2(特開昭
62−287257号に開示のもの)とを1:1(重量
比)で混合したものをクロロホルムに溶解させたものと
した。
電荷輸送層15の形成の際に基材11を上記コティング
液に浸漬させても、この基材はクロロホルムに溶解する
ようなことはなかった。そして、良好にコーティングを
行なうことが出来た。
液に浸漬させても、この基材はクロロホルムに溶解する
ようなことはなかった。そして、良好にコーティングを
行なうことが出来た。
このようにして作製した感光体を、説明の都合上、以下
、実施例1に係る感光体と称する。
、実施例1に係る感光体と称する。
(実施例2)
耐溶剤性を有する非晶性ポリマーとしてポリアミドイミ
ド(この場合、アモコジャパン社製の丁0RLON 5
030ベレ・ント、同社カタログ記載の構造式は下記0
式、)ヲ用い、導電性粉体として実施例1と同じカーボ
ンブラックパウダーを用いて以下に説明するように実施
例2の基材を作製した。
ド(この場合、アモコジャパン社製の丁0RLON 5
030ベレ・ント、同社カタログ記載の構造式は下記0
式、)ヲ用い、導電性粉体として実施例1と同じカーボ
ンブラックパウダーを用いて以下に説明するように実施
例2の基材を作製した。
先ず、ポリアミドイミド樹脂に、カーボンブラックパウ
ダーを、重量比で2%となるように混練しで、成形用材
料を調製した。
ダーを、重量比で2%となるように混練しで、成形用材
料を調製した。
この成形用材料を実施例1と同様に成形し実施例20基
材11ヲ得た。この実施例2の基材の寸法精度及び表面
粗度は、実施例1のものと同等であった。また、実施例
2の基材の電気抵抗は、9×109Ω・cmであった。
材11ヲ得た。この実施例2の基材の寸法精度及び表面
粗度は、実施例1のものと同等であった。また、実施例
2の基材の電気抵抗は、9×109Ω・cmであった。
次にこの基材上に電荷発生層13及び電荷輸送層15ヲ
実施例1と同様にして形成し、実施例2に係る感光体を
得た。
実施例1と同様にして形成し、実施例2に係る感光体を
得た。
(比較例1)
比較例1の基材を以下に説明するように作製した。
非晶牲ポリマーとしてポリエーテルスルホン樹脂(コノ
場合、ICI社製(7) VICTREX PES 4
100Gヘレツト)を用い、これに実施例1で用いたカ
ーボンブラックパウダーをNjl比で20%となるよう
に混練して、成形用材料を調製した。
場合、ICI社製(7) VICTREX PES 4
100Gヘレツト)を用い、これに実施例1で用いたカ
ーボンブラックパウダーをNjl比で20%となるよう
に混練して、成形用材料を調製した。
次に、この成形用材料を用い実施例1と同し手順で成形
を行ない比較例]の基材を得た。この比較例1の基材の
寸法精度及び表面粗度は、実施例]のものと同等であっ
た。また、比較例1の基材の電気抵抗は、6 X 10
’Ω・cmであった。
を行ない比較例]の基材を得た。この比較例1の基材の
寸法精度及び表面粗度は、実施例]のものと同等であっ
た。また、比較例1の基材の電気抵抗は、6 X 10
’Ω・cmであった。
次に、この場合、基材上にデイツプコーティング法によ
り、(株)東し製のアルコール可溶性ナイロンCM80
00の10%メタノール・ブタノール混合溶液を塗布し
て、乾燥膜厚2umの下引き層を形成した。
り、(株)東し製のアルコール可溶性ナイロンCM80
00の10%メタノール・ブタノール混合溶液を塗布し
て、乾燥膜厚2umの下引き層を形成した。
その後、この下引き層上に実施例1と同様にして電荷発
生層及び電荷輸送層を順次形成しで、比較例1に係る感
光体を得た。
生層及び電荷輸送層を順次形成しで、比較例1に係る感
光体を得た。
(比較例2)
比較例1て用いたポリエーテルスルホン樹脂の代わりに
実施例1て用いたポリエーテルエーテルケトンを用い、
比較例1と全く同様にして比較例2の基材(即ち、カー
ボンブラックパウダーの混合比が実施例1の場合より高
い基材)を作製した。比較例2の基材の電気抵抗は、4
xlO’Ω・cmであった。
実施例1て用いたポリエーテルエーテルケトンを用い、
比較例1と全く同様にして比較例2の基材(即ち、カー
ボンブラックパウダーの混合比が実施例1の場合より高
い基材)を作製した。比較例2の基材の電気抵抗は、4
xlO’Ω・cmであった。
次に、この基材上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸
送層を比較例1の場合と同様に形成して、比較例2に係
る感光体を作製した。
送層を比較例1の場合と同様に形成して、比較例2に係
る感光体を作製した。
(比較例3)
比較例1で用いたポリエーテルスルホン樹上の代わりに
実施例2で用いたポリアミドイミドを用い、比較例1と
全く同様にして比較例の3の基材(即ち、カーボンブラ
ックパウダーの混合比が実施例2の場合より高い基材)
を作製した。比較例30基材の電気抵抗は、8 X 1
0’Ω・cmであった。
実施例2で用いたポリアミドイミドを用い、比較例1と
全く同様にして比較例の3の基材(即ち、カーボンブラ
ックパウダーの混合比が実施例2の場合より高い基材)
を作製した。比較例30基材の電気抵抗は、8 X 1
0’Ω・cmであった。
次に、この基材上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸
送層を比較例1の場合と同様に形成しで、比較例3に係
る感光体を作製した。
送層を比較例1の場合と同様に形成しで、比較例3に係
る感光体を作製した。
(比較例4)
基材をJIS規格No、 3003のアルミニウムで構
成して比較例4の基材とした。なお、このアルミニウム
基材は、実施例1の基材の機械精度と同等に加工しであ
るものである。
成して比較例4の基材とした。なお、このアルミニウム
基材は、実施例1の基材の機械精度と同等に加工しであ
るものである。
次に、このアルミニウム基材をクロロセンの蒸気により
洗浄し、その債、この基材上に、下引き層、電荷発生層
及び電荷輸送層を比較例1の場合と同様に形成して、比
較例4に係る感光体を作製した。
洗浄し、その債、この基材上に、下引き層、電荷発生層
及び電荷輸送層を比較例1の場合と同様に形成して、比
較例4に係る感光体を作製した。
(比較例5)
比較例1の基材(樹itボヮエーテルスルホシ樹脂とし
ている基材)を用い、この基材上に、下引き層は形成せ
ずに、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に実施例1と
同様に形成しようとした。
ている基材)を用い、この基材上に、下引き層は形成せ
ずに、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に実施例1と
同様に形成しようとした。
しかし、この基材は、電荷輸送層形成用コーテイング液
に含まれているクロロホルムに溶解してしまい所望の感
光体を作製出来ないことが分った。
に含まれているクロロホルムに溶解してしまい所望の感
光体を作製出来ないことが分った。
(比較例6)
比較例4の基材(アルミニウム基材)を用い、この基材
上に、下引き層は形成せずに、電荷発生層及び電荷輸送
層をこの順に実施例]と同様に形成して、比較例6に係
る感光体を得た。
上に、下引き層は形成せずに、電荷発生層及び電荷輸送
層をこの順に実施例]と同様に形成して、比較例6に係
る感光体を得た。
(比較例7)
実施例1の基材を用い、この基材上に比較例1と同様な
下引き層を形成し、その後、実施例1と同様に電荷発生
層及び電荷輸送層を形成して、比較例7の感光体を得た
。
下引き層を形成し、その後、実施例1と同様に電荷発生
層及び電荷輸送層を形成して、比較例7の感光体を得た
。
(比較例8)
実施例1の基材を用い、この基材上に比較例1と同様な
下引き層を形成し、その後、実施例1と同様に電荷発生
層及び電荷輸送層を形成して、比較例8の感光体を得た
。
下引き層を形成し、その後、実施例1と同様に電荷発生
層及び電荷輸送層を形成して、比較例8の感光体を得た
。
為7 萱上述の
ように作製した実施例及び比較例に係る各感光体に対し
以下に説明するような評価試験を行なった。なお、比較
例5に係る感光体の評価は感光体が作製出来なかったた
め行なっていない。
ように作製した実施例及び比較例に係る各感光体に対し
以下に説明するような評価試験を行なった。なお、比較
例5に係る感光体の評価は感光体が作製出来なかったた
め行なっていない。
■・・・先ず、コロトロン型の帯電器を用い感光体を帯
電させその時の感光体の表面電位(初期電位と称する。
電させその時の感光体の表面電位(初期電位と称する。
)を測定した。なお、コロトロンの電圧は、どの感光体
の試験の場合も−5,5に■とした。
の試験の場合も−5,5に■とした。
■・・・次に、波長が780nmの半導体レーザ光をレ
ンズにより拡げ、帯電している感光体に2uJ/cm2
の露光量で露光し、露光後0.5秒経過後に感光体の表
面電位(残留電位と称する。)を測定した。
ンズにより拡げ、帯電している感光体に2uJ/cm2
の露光量で露光し、露光後0.5秒経過後に感光体の表
面電位(残留電位と称する。)を測定した。
■・・・また、コロトロンによる帯電と、レーザ光によ
る露光と、露光後の感光体の表面電位の測定とを、露光
量を変えて行ない、露光後の感光体の表面電位が上述の
初期電位に対し半分の電位になる露光M(半減露光量。
る露光と、露光後の感光体の表面電位の測定とを、露光
量を変えて行ない、露光後の感光体の表面電位が上述の
初期電位に対し半分の電位になる露光M(半減露光量。
以下、これを感度と称する。)を求めた。
■・・・コロトロンによる帯電後10秒間経過後の感光
体め表面電位を測定し、初期電位/10秒後の電位の比
(暗減衰と称する。)を求めた。
体め表面電位を測定し、初期電位/10秒後の電位の比
(暗減衰と称する。)を求めた。
各感光体につき、作製直後の上記0〜0項で規定する特
性(初期特性と称する。)と、帯電−露光を10,00
0回繰り返し行なった後の上記0〜0項で規定する特性
(繰り返し特性と称する。)を別表1にまとめで示した
。
性(初期特性と称する。)と、帯電−露光を10,00
0回繰り返し行なった後の上記0〜0項で規定する特性
(繰り返し特性と称する。)を別表1にまとめで示した
。
別表1からも明らかなように、実施例1の基材を用いた
感光体及び実施例2の基材を用いた感光体は、いずれの
ものも、初期特性及び繰り返し特性共に、実用に充分耐
え得るものであることが分った。また、比較例の感光体
の中では、アルミニウム基材に下引き層を設けた比較例
4に係る感光体が、感度が高く優れたものであることが
分った。
感光体及び実施例2の基材を用いた感光体は、いずれの
ものも、初期特性及び繰り返し特性共に、実用に充分耐
え得るものであることが分った。また、比較例の感光体
の中では、アルミニウム基材に下引き層を設けた比較例
4に係る感光体が、感度が高く優れたものであることが
分った。
次に、各感光体をそれぞれレーザビームプリンタに組み
込み、実際に印刷を繰り返し行ない、印刷枚数の増加に
対する画像の鮮明度の変化具合を調べた(以下、画像評
価と称する。)、これは、A−4サイズの紙を用い所定
の画像を印刷し、印刷枚数か4.000枚のところで一
度画像の鮮明度を評価し、その時点でまだ良好な画像が
得られている感光体についでは印刷枚数が10.000
枚になるまで印刷をしその後鮮明度を評価する、という
方法で行なった。
込み、実際に印刷を繰り返し行ない、印刷枚数の増加に
対する画像の鮮明度の変化具合を調べた(以下、画像評
価と称する。)、これは、A−4サイズの紙を用い所定
の画像を印刷し、印刷枚数か4.000枚のところで一
度画像の鮮明度を評価し、その時点でまだ良好な画像が
得られている感光体についでは印刷枚数が10.000
枚になるまで印刷をしその後鮮明度を評価する、という
方法で行なった。
初期の画像の様子と、4,000枚印刷後の画像の様子
と、10.000枚印刷後の画像の様子とを別表2にま
とめて示した。
と、10.000枚印刷後の画像の様子とを別表2にま
とめて示した。
別表2からも明らかなように、実施例1の基材を用いた
感光体及び実施例2の基材を用いた感光体は、いずれの
ものも、印刷枚数がto、ooo枚を越えた猾も鮮明な
画像が得られることが分った。
感光体及び実施例2の基材を用いた感光体は、いずれの
ものも、印刷枚数がto、ooo枚を越えた猾も鮮明な
画像が得られることが分った。
これに対し、アルミニウム基材に下引き層を設けた比較
例4に係る感光体は、初期は鮮明な画像が得られるが、
印刷枚数が4,000枚を越えるとわずかに地汚れが見
られ、印刷枚数が+o、ooo枚を越えた時は明瞭な地
汚れが見られた。
例4に係る感光体は、初期は鮮明な画像が得られるが、
印刷枚数が4,000枚を越えるとわずかに地汚れが見
られ、印刷枚数が+o、ooo枚を越えた時は明瞭な地
汚れが見られた。
また、実施例1に係る感光体に下引き層を加えた構成の
比較例7に係る感光体、及び、実施例2に係る感光体に
下引き層を加えた構成の比較例8に係る感光体は、いず
れのものも、印刷枚数が10、000枚を越えるとわず
かな地汚れが見られた。
比較例7に係る感光体、及び、実施例2に係る感光体に
下引き層を加えた構成の比較例8に係る感光体は、いず
れのものも、印刷枚数が10、000枚を越えるとわず
かな地汚れが見られた。
この理由は、下引き層の影響で表面電位が上昇したため
であろうと考えられる。
であろうと考えられる。
また、実施例1の基材はその電気抵抗が3×10♂Ω・
Cmであり、実施例20基材はその電気抵抗が9 X
10gΩ・cmであり、このような電気抵抗を有する基
材であると下引き層無しでの感光体形成が可能であると
云える。しかし、発明者の詳細な実験によれば、電気抵
抗が1011Ω・cmまでの基材であっても同様な効果
が得られることが分った。
Cmであり、実施例20基材はその電気抵抗が9 X
10gΩ・cmであり、このような電気抵抗を有する基
材であると下引き層無しでの感光体形成が可能であると
云える。しかし、発明者の詳細な実験によれば、電気抵
抗が1011Ω・cmまでの基材であっても同様な効果
が得られることが分った。
以上がこの発明の詳細な説明である。しかし、この発明
は上述の実施例に限られるものではなく例えば以下に説
明するような種々の変更を加えることが出来る。
は上述の実施例に限られるものではなく例えば以下に説
明するような種々の変更を加えることが出来る。
上述の実施例では、導電性粉体をカーボンブラックパウ
ダーとしでいる。しかし、導電性粉体はこれに限られる
ものではなく、他の好適なものでも良い。具体例を挙げ
れば、金属粉、カーボンファイバー等がある。また、樹
脂に混入させる導電゛性粉体は、1f!類に限られず2
種類以上、であっても良い。
ダーとしでいる。しかし、導電性粉体はこれに限られる
ものではなく、他の好適なものでも良い。具体例を挙げ
れば、金属粉、カーボンファイバー等がある。また、樹
脂に混入させる導電゛性粉体は、1f!類に限られず2
種類以上、であっても良い。
また、上述の実施例では、非晶性ポリマーとしで、PE
Eに450という商品名で呼ばれでいるポリエーテルエ
ーテルケトン或いはTORLON5030という商品名
で呼ばれているポリアミドイミドを用いている。しかし
、非晶性ポリマーはこれらに限られるものではなく、こ
の発明の目的の範囲内であれば他のものでも良い。
Eに450という商品名で呼ばれでいるポリエーテルエ
ーテルケトン或いはTORLON5030という商品名
で呼ばれているポリアミドイミドを用いている。しかし
、非晶性ポリマーはこれらに限られるものではなく、こ
の発明の目的の範囲内であれば他のものでも良い。
また、上述の実施例はマイナス帯電型で機能分離型の感
光体を例に挙げて説明している。しかし、第一発明の基
材と、この基材上側に電荷輸送層、電荷発生層をこの順
で具える感光層とを少なくとも有するいわゆるプラス帯
電型の機能分離型の感光体もこの発明の範囲に含まれる
。さらに、第一発明の基材と、この基材上側に電荷輸送
・電荷輸送を行なう単一の感光層とを少なくとも有する
感光体もこの発明の範囲に含まれる。
光体を例に挙げて説明している。しかし、第一発明の基
材と、この基材上側に電荷輸送層、電荷発生層をこの順
で具える感光層とを少なくとも有するいわゆるプラス帯
電型の機能分離型の感光体もこの発明の範囲に含まれる
。さらに、第一発明の基材と、この基材上側に電荷輸送
・電荷輸送を行なう単一の感光層とを少なくとも有する
感光体もこの発明の範囲に含まれる。
(発明の効果)
上述した説明からも明らかなようにこの発明の電子写真
用感光体の基材は、対溶剤性に優れ、耐熱性にも優れ、
射出成形により容易に作製出来、然も下引き層を不要と
するような適正な電気抵抗を示すものである。従って、
電気的特性に優れ、かつ画像特性に優れ然も低価格な電
子写真用感光別表2 (画像評価結果)
用感光体の基材は、対溶剤性に優れ、耐熱性にも優れ、
射出成形により容易に作製出来、然も下引き層を不要と
するような適正な電気抵抗を示すものである。従って、
電気的特性に優れ、かつ画像特性に優れ然も低価格な電
子写真用感光別表2 (画像評価結果)
第1図は、電子写真用感光体の一例を示す図、第2図は
、電子写真用感光体の伯の例を示す図、 第3図は、実施例及び比較例の基材の成形に用いた金型
を示す図である。 11・・・基材、 13・・・電荷発生層
15・・・電荷輸送層、 17・・・感光層19
・・・下引き層、 21・・・金型。 特 許 出 願 人 沖電気工業株式会社 電子写真用感光体の一例を示す図 第1図 19、下引き層 電子写真用感光体の他の例を示T図 第2図 界施例及び比較例の基材の成形に用いた金型を示す図第
3 図
、電子写真用感光体の伯の例を示す図、 第3図は、実施例及び比較例の基材の成形に用いた金型
を示す図である。 11・・・基材、 13・・・電荷発生層
15・・・電荷輸送層、 17・・・感光層19
・・・下引き層、 21・・・金型。 特 許 出 願 人 沖電気工業株式会社 電子写真用感光体の一例を示す図 第1図 19、下引き層 電子写真用感光体の他の例を示T図 第2図 界施例及び比較例の基材の成形に用いた金型を示す図第
3 図
Claims (3)
- (1)耐溶剤性を有する非晶性ポリマーに導電性粉体を
含有させた材料から成りかつ当該基材の電気抵抗が10
^8〜10^1^0Ω・cmの範囲内の値であることを
特徴とする電子写真用感光体の基材。 - (2)前記非晶性ポリマーをポリエーテルエーテルケト
ン又はポリアミドイミドとしたことを特徴とする請求項
1に記載の電子写真用感光体の基材。 - (3)請求項1又は2に記載の基材と、該基材上側に形
成された感光層とを具えて成ること を特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18495589A JP2846350B2 (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 電子写真用感光体の基材及びこれを用いた電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18495589A JP2846350B2 (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 電子写真用感光体の基材及びこれを用いた電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0348858A true JPH0348858A (ja) | 1991-03-01 |
JP2846350B2 JP2846350B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=16162275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18495589A Expired - Fee Related JP2846350B2 (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 | 電子写真用感光体の基材及びこれを用いた電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2846350B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8283031B2 (en) | 2003-10-06 | 2012-10-09 | Kureha Corporation | Semiconductive film, electric charge control member and process for producing the semiconductive film |
-
1989
- 1989-07-18 JP JP18495589A patent/JP2846350B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8283031B2 (en) | 2003-10-06 | 2012-10-09 | Kureha Corporation | Semiconductive film, electric charge control member and process for producing the semiconductive film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2846350B2 (ja) | 1999-01-13 |
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