JPH0346249A - Ｌｃｄ基板の真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、基板処理装置に関する。

（従来の技術） 一般に基板処理装置は、基板例えばＬＣＤ基板あるいは
半導体基板（半導体ウェハ）等に所定の処理を施すため
の処理室と、この処理室内に基板をロード・アンロード
するための移送機構とを備えだものが多い。

例えば、プラズマエツチング装置では、内部を真空引き
可能に構成された真空処理室内に、電極例えば平行平板
電極が設けられており、この平行平板電極の間に被処理
基板例えば表面にレジスト薄膜を形成されたＬＣＤ基板
あるいは半導体ウェハ等を配置する。そして、真空処理
室内を真空引きするとともに、この真空処理室内に所定
のエツチングガスを導入し、平行平板電極間に高周波電
圧を印加してプラズマを発生させ、このプラズマにより
上記被処理基板のレジスト薄膜をエツチングするよう構
成されている。

また、このようなプラズマエツチング装置では、処理工
程の自動化およびスループットの向上を図るため、ロー
ドロック室を介して真空処理室内に被処理基板をロード
・アンロードするための移送機構を備えたものが多い。

（発明が解決しようとする課８） ところで、近年の半導体製造技術の進歩に伴い、上述し
たような基板処理装置においても処理工程数が増加する
傾向に有り、例えばエツチング処理に係る工程において
も、処理条件を変えて複数回のエツチング処理を行った
り、エツチング処理とアッシング処理を続けて行ったり
する工程が採用されつつある。したがって、このような
工程に対して高効率で対処可能な基板処理装置の開発が
望まれていた。

本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、条件の異なる複数種の処理に対しても、高効率で対処
可能な基板処理装置を提供しようとするものである。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち、本発明の基板処理装置は、被処理基板に所定
の処理施すための複数の真空処理室と、これらの真空処
理室間に設けられた真空移送室と、前記真空処理室と前
記真空移送室との間に設けられたゲートバルブと、前記
真空移送室内に設けられ前記被処理基板を所定位置に位
置決めして前記真空処理室間を移送する移送手段とを備
えたことを特徴とする。

（作　用） 上記構成の本発明の基板処理装置では、複数の真空処理
室の間にゲートバルブを介して真空移送室が設けられて
おり、この真空移送室内に設けられた移送手段により、
被処理基板を所定位置に位置決めして真空処理室間を移
送するよう構成されている。

したがって、被処理基板を順次真空処理室に移送し、条
件の異なる複数種の処理に対しても高効率で対処するこ
とができる。

（実施例） 以下、本発明を、ＬＣＤ基板のアッシング処理およびエ
ツチング処理を行う基板処理装置に適用した実施例を図
面を参照して説明する。

移送手段としての搬送アーム１は、回転軸により枢動可
能とされた２つの間接部で連結された３つのアームｌａ
、ｌｂｓ　ｌｃからなり、第１アーム１ａの基端部は後
述する真空移載室１１の中央に突設された図示しない２
重回転軸の外軸に固定され、先端の第３アーム１ｃには
矩形のＬＣＤ基板２を搭載可能とされた基板搭載部が設
けられている。

すなわち、この基板搭載部には、例えばＬＣＤ基板２の
長手方向に沿ってその略中央下面を保持する中央部保持
部材３とＬＣＤ基板２の第３アームＩＣ側の両側側部下
面を保持する側部保持部材４　ａ　ｓ　４　ｂとが設け
られている。そして、これらの中央部保持部材３および
側部保持部材４ａ１４ｂには、第２図にも示すように、
先端部に円錐状のテーバ部を形成され、このテーバ面に
よってＬＣＤ基板２が所定位置にａ置されるようガイド
する位置決め用突起５が、複数例えば合計８つ設けられ
ている。なお、これらの位置決め用突起５は、ガラス製
のＬＣＤ基板２が摺動する如く接触するので、硬質な部
材例えばステンレス等の金属により構成することが好ま
しい。

また、２ｍ回転軸および搬送アーム１の各間接部の回転
軸には図示しないプーリーが軸装され、各プーリー間に
は複数のガイドローラーを介してベルトが掛は渡されて
、２重回転軸の内袖の回転により各間接部が回転するよ
うに構成されている。

そして２重回転軸の外輪と内袖とは各アームｌａ。

１　ｂ　ｓ　１　ｃが後述する第４図に示す動きをする
よう別々にその回転が制御される。

上記構成の搬送アーム１は、第３図に示すように構成さ
れた基板処理装置１０の真空移送室１１内に設けられて
いる。なお、この真空移送室１１の両側にはゲートバル
ブ１２を介してアッシング用真空処理室１３およびエツ
チング用真空処理室１４が設けられており、これらの真
空処理室１３．１４には、それぞれセンダ１５およびレ
シバ１６を連設されたロードロック室１７．１８がゲー
トバルブ１２を介して接続されている。

そして、搬送アーム１は、第４図に示すようにして例え
ばＬＣＤ基板２をアッシング用真空処理室１３からエツ
チング用真空処理室１４に移送する。

すなわち、２重回転軸の回転により最大伸長位置でＬＣ
Ｄ基板２を搭載した状態から第１アーム１ａは図示矢印
の如く反時計方向に等速度で回転し、第２アーム１ｂは
時計方向に第１アーム１ａの２倍の角速度で回転し、第
３アーム１ｃは第１アーム１ａと同方向に同一角速度で
回転する。したがって、搬送アーム１は、同図（ａ）の
状態から同図（ｂ）　　　（ｃ）に示すように、第１ア
ーム１ａと第２アーム１ｂの間接部が屈曲しつつ第３ア
ーム１ｃが同一直線上を後退する。

このようにして第１アーム１ａの回転軸から第３アーム
１ｃの先端までの距離がほぼ第１アーム１ａの長さと等
しくなったところで、内袖の回転が一旦停止し、同図（
ｄ）、（ｅ）に示すように、この状態を維持したまま　
１８０°回転する。

しかる後、２重回転軸の外軸と内袖がこれまでと反対側
に回転され、同図（ｆ）に示すように第３アーム１ｃが
伸び出していき、ＬＣＤ１板２が真空状態の真空処理室
１３．１４間で移送される。

なお、上記搬送アーム１によるＬＣＤ基板２の移送の際
に、搬送アーム１に設けられた位置決め用突起５により
ＬＣＤ基板２は、搬送アーム１上の所定位置に載置され
、また、この搬送アーム１上から真空処理室１４内の所
定位置に載置することができるが、こ、のようなＬＣＤ
基板２の載置が正確に行われたか否かを確認するため、
例えば発光素子と受光素子等からなるＬＣＤ基板２のボ
ジショニングセンサを設けてもよい。

すなわち、この実施例の基板処理装置１０では、まず、
ロードロック室１７を介してセンダ１５からアッシング
用真空処理室１３内にＬＣＤ基板２が搬入され、ここで
周知のようなＬＣＤ基板２のアッシング処理が行われる
。そして、アッシング処理が終了すると、真空雰囲気と
された真空移載室１１を介して前述したような搬送アー
ム１によるＬＣＤ基板２の移送か行われ、ＬＣＤ基板２
がエツチング用真空処理室１４に移送される。そして、
ここで周知のエツチング処理例えば高周波電力によるプ
ラズマエツチング処理が行われ、この後ＬＣＤ基板２は
、ロードロック室１８を介してレシーバ１６に搬出され
る。なお、同様にして搬送方向を逆にし、エツチング処
理後にアッシング処理を行うこともできる。

したがって、異なる条件で行われるアッシング処理とエ
ツチング処理を連続して効率的に実施することができる
。また、同時に例えば２台の装置を用いる場合に較べて
装置の設置スペースを低減することができ、特に単位床
面積当りの建設コストの高いクリーンルーム内等におけ
る作業スペースの有効利用も図ることができる。

なお、以上の実施例では、本発明をアッシング処理の後
にエツチング処理を行う場合に適用した例について説明
したが、本発明はかかる実施例に限定されるものではな
く、他の処理を行う場合であっでも同様にして適用する
ことができることはもちろんである。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の基板処理装置によれば、
条件の異なる複数種の処理に対しても、高効率で対処す
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の基板処理装置の搬送アーム
を示す平面図、第２図は第１図の搬送アームの要部を示
す側面図、第３図は本発明の一実施例の基板処理装置の
全体構成を示す図、第４図は第１図の搬送アームの動作
を説明するための図である。 １・・・・・・搬送アーム、１ａ・・・・・・第１アー
ム、１ｂ・・・・・・第２アーム、１ｃ・・・・・・第
３アーム、２・・・・・・ＬＣＤ基板、３・・・・・・
中央部保持部材、４ａ、４ｂ・・・・・・側部保持部材
、５・・・・・・位置決め用突起。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）被処理基板に所定の処理施すための複数の真空処
   理室と、これらの真空処理室間に設けられた真空移送室
   と、前記真空処理室と前記真空移送室との間に設けられ
   たゲートバルブと、前記真空移送室内に設けられ前記被
   処理基板を所定位置に位置決めして前記真空処理室間を
   移送する移送手段とを備えたことを特徴とする基板処理
   装置。
2. （２）移送手段が、先端部に被処理基板の搭載部を有す
   る屈伸および回転可能な搬送アームである請求項１記載
   の基板処理装置。
3. （３）被処理基板を所定位置に位置決めする機構が、搬
   送アームの被処理基板の搭載部に形成された突起部から
   なる請求項２記載の基板処理装置。
4. （４）突起部が金属からなる請求項３記載の基板処理装
   置。