JPH0344454A - 電子部品および機器用リード線の製造方法 - Google Patents
電子部品および機器用リード線の製造方法Info
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- JPH0344454A JPH0344454A JP18004089A JP18004089A JPH0344454A JP H0344454 A JPH0344454 A JP H0344454A JP 18004089 A JP18004089 A JP 18004089A JP 18004089 A JP18004089 A JP 18004089A JP H0344454 A JPH0344454 A JP H0344454A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 40
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N silver zinc Chemical group [Zn].[Ag] BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000971 Silver steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Sn] Chemical group [Ag].[Sn] QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N indium silver Chemical group [Ag].[In] YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical group [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 17
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 229910000851 Alloy steel Chemical group 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 description 4
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
- Metal Extraction Processes (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、銅または鋼合金心線の外周に銀または銀合金
被覆層を有する電子部品や電子機器用のリード線に係り
、さらに詳しくは半田付は性および変色性を改善したリ
ード線に関するものである。
被覆層を有する電子部品や電子機器用のリード線に係り
、さらに詳しくは半田付は性および変色性を改善したリ
ード線に関するものである。
銅または鋼合金心線の外周に銀または銀合金被覆層を有
する線材は、心線の特性に加えて根特有の優れた半田付
は性と耐食性を有するため、電子部品や電子機器のリー
ド線として広く使用されている。このようなリード線の
場合、銅または銅合全心線上に直接、銀または銀合金を
被覆したものは、加熱処理されると、心線の銅の拡散に
より外観が変色し、半田付は性が著しく劣化する。この
ため従来は銅または鋼合金心線と娘または銀合金被覆層
の間にニッケルまたはニッケル合金層を設けたものが実
用化されている。このニッケルまたはニッケル合金層は
拡散バリアーとなって、心線の銅が銀または銀合金層へ
拡散するのを抑制するもので、銀または銀合金被覆層の
厚さを薄くしても表面品質の低下が起こらず、経済的で
あるとされている。
する線材は、心線の特性に加えて根特有の優れた半田付
は性と耐食性を有するため、電子部品や電子機器のリー
ド線として広く使用されている。このようなリード線の
場合、銅または銅合全心線上に直接、銀または銀合金を
被覆したものは、加熱処理されると、心線の銅の拡散に
より外観が変色し、半田付は性が著しく劣化する。この
ため従来は銅または鋼合金心線と娘または銀合金被覆層
の間にニッケルまたはニッケル合金層を設けたものが実
用化されている。このニッケルまたはニッケル合金層は
拡散バリアーとなって、心線の銅が銀または銀合金層へ
拡散するのを抑制するもので、銀または銀合金被覆層の
厚さを薄くしても表面品質の低下が起こらず、経済的で
あるとされている。
しかしながらこのようなリード線は、半田付は等のため
高温環境におくと大気中の酸素が銀または銀合金被覆層
内に活発に浸透し、その結果ニッケルまたはニッケル合
金層の表面が酸化して銀または銀合金被覆層が剥離しや
すくなり、リード線としての信頼性が低下し、また半田
付は強度が低下するという問題がある。
高温環境におくと大気中の酸素が銀または銀合金被覆層
内に活発に浸透し、その結果ニッケルまたはニッケル合
金層の表面が酸化して銀または銀合金被覆層が剥離しや
すくなり、リード線としての信頼性が低下し、また半田
付は強度が低下するという問題がある。
これを改善した耐熱性リード線としては、ニッケルまた
はニッケル合金の下地層と銀または銀合金被覆層との間
に、厚さ0.05〜3−の銅、インジウム、亜鉛などの
中間層を設けたものが提案されている(特開昭57−1
62207号公報)。しかし上記のような中間層を設け
たリード線では、高温加熱により中間層を構成する元素
が銀または銀合金被覆層中に大量に拡散し、その酸化物
が銀または銀合金被覆層を変色させるという問題のある
ことが判明した0例えば上記金属の中間層を0.05〜
3−の厚さに設けた場合、加熱処理による中間層金属の
銀被覆層への拡散量は非常に大きく、表面濃度は元素比
で著しい場合には数10%にも達し、リード線表面に厚
い酸化物層が生じて顕著な変色が現れ、商品価値を著し
く低下させる結果となる。
はニッケル合金の下地層と銀または銀合金被覆層との間
に、厚さ0.05〜3−の銅、インジウム、亜鉛などの
中間層を設けたものが提案されている(特開昭57−1
62207号公報)。しかし上記のような中間層を設け
たリード線では、高温加熱により中間層を構成する元素
が銀または銀合金被覆層中に大量に拡散し、その酸化物
が銀または銀合金被覆層を変色させるという問題のある
ことが判明した0例えば上記金属の中間層を0.05〜
3−の厚さに設けた場合、加熱処理による中間層金属の
銀被覆層への拡散量は非常に大きく、表面濃度は元素比
で著しい場合には数10%にも達し、リード線表面に厚
い酸化物層が生じて顕著な変色が現れ、商品価値を著し
く低下させる結果となる。
本発明の目的は、上記のような従来技術の問題点を解決
した電子部品および電子機器用リード線を提供すること
にある。
した電子部品および電子機器用リード線を提供すること
にある。
即ち本発明は表面がCuまたはCu合金からなる心材に
、Ni、Co、Feまたはそれらの合金からなる下地層
を設け、その上に銀合金よりなる中間層を設け、更にそ
の上に銀または銀合金被覆層を設ける工程(以下第1工
程という)と得られた銀被覆線材に30%以上の加工率
で伸線加工を施す工程(以下第2工程という)と熱処理
を施す工程(以下第3工程という)と得られた熱処理銀
被覆線材に15%以下の加工率で伸線加工を施す工程(
以下第4工程という)とからなることを特徴とする電子
部品および機器用リード線の製造方法である。
、Ni、Co、Feまたはそれらの合金からなる下地層
を設け、その上に銀合金よりなる中間層を設け、更にそ
の上に銀または銀合金被覆層を設ける工程(以下第1工
程という)と得られた銀被覆線材に30%以上の加工率
で伸線加工を施す工程(以下第2工程という)と熱処理
を施す工程(以下第3工程という)と得られた熱処理銀
被覆線材に15%以下の加工率で伸線加工を施す工程(
以下第4工程という)とからなることを特徴とする電子
部品および機器用リード線の製造方法である。
ここにおいて中間層の銀合金としては銀−インジウム合
金、銀−錫合金、銀−亜鉛合金、銀−鋼合金及び銀−パ
ラジウム合金などが用いられる。
金、銀−錫合金、銀−亜鉛合金、銀−鋼合金及び銀−パ
ラジウム合金などが用いられる。
(作用〕
第1の工程である表面が銅または鋼合金からなる心材に
、メツキ処理を施して銀被覆線材を得る工程について述
べると、心材を構成する素材としては、表面が銅または
鋼合金からなり、従来から使用されているものであれば
何であっても良く、格別限定されるものではない、Ni
、、C01Feもしくはそれらの合金よりなる下地層の
厚さは最終的に(第4工程を経た後)0.1〜2.OI
Mとなる程度で、通常のメツキ法で形成される。中間層
のAg層のAg合金は、銀が70〜98%程度、望まし
くは80%程度で、他に合金成分としてインジウム、錫
、亜鉛、銅、パラジウムを1種または2種以上含むもの
が用いられる。又前記中間層のAg層の厚さは最終的に
0.01〜0604−となる程度で、ストライクメツキ
法により安定に形成される。
、メツキ処理を施して銀被覆線材を得る工程について述
べると、心材を構成する素材としては、表面が銅または
鋼合金からなり、従来から使用されているものであれば
何であっても良く、格別限定されるものではない、Ni
、、C01Feもしくはそれらの合金よりなる下地層の
厚さは最終的に(第4工程を経た後)0.1〜2.OI
Mとなる程度で、通常のメツキ法で形成される。中間層
のAg層のAg合金は、銀が70〜98%程度、望まし
くは80%程度で、他に合金成分としてインジウム、錫
、亜鉛、銅、パラジウムを1種または2種以上含むもの
が用いられる。又前記中間層のAg層の厚さは最終的に
0.01〜0604−となる程度で、ストライクメツキ
法により安定に形成される。
この層が大気中の酸素による下地層の表面酸化を防止し
、半田付は性に優れた特性を示すようになる。
、半田付は性に優れた特性を示すようになる。
最外層である表面の娘または銀被覆層の厚さは、目的と
する用途によって変えればよいが通常のリード線の場合
には最終的に0.5〜5−程度になる様に設定される。
する用途によって変えればよいが通常のリード線の場合
には最終的に0.5〜5−程度になる様に設定される。
第1工程を経過後、得られた線材は充分に洗浄されて第
2工程に移送される。
2工程に移送される。
第2工程は、第1工程で得られた線材に仲線加工処理を
施して細径化すると同時に、表面被覆層の銀または銀合
金に加工歪みを付与する工程である。
施して細径化すると同時に、表面被覆層の銀または銀合
金に加工歪みを付与する工程である。
このとき、加工率、すなわち、伸線前の線材断面積と伸
線後の線材断面積との差を伸線前の線材断面積で除した
値の百分率(%)は30%以上の値に設定される。この
ときの加工率が30%より小さい場合は、後述する第3
工程において、銀または銀合金の再結晶組織が緻密で均
一なものへと成長することがなく、その結果、半田付は
性の低下や耐食性の低下を招くからである。しかし、加
工率を過度に大きくすると、伸線時の線材の切断、被覆
層の損傷、などの問題が無視し得なくなるので、加工率
は30〜90%程度に管理することが好ましい。
線後の線材断面積との差を伸線前の線材断面積で除した
値の百分率(%)は30%以上の値に設定される。この
ときの加工率が30%より小さい場合は、後述する第3
工程において、銀または銀合金の再結晶組織が緻密で均
一なものへと成長することがなく、その結果、半田付は
性の低下や耐食性の低下を招くからである。しかし、加
工率を過度に大きくすると、伸線時の線材の切断、被覆
層の損傷、などの問題が無視し得なくなるので、加工率
は30〜90%程度に管理することが好ましい。
なお、伸線加工は1段で行ってもよいし、また多段で行
ってもよいが、いずれの場合においても、この工程にお
いて付与される線材の加工率は上記の値に設定される。
ってもよいが、いずれの場合においても、この工程にお
いて付与される線材の加工率は上記の値に設定される。
第3工程は、第2工程で得られた線材に熱処理を施して
銀または銀合金の再結晶組織を成長させる工程である。
銀または銀合金の再結晶組織を成長させる工程である。
この工程を経ることにより、表面被覆層を形成する銀ま
たは銀合金は、それまでの微細かつ不均一な結晶組織か
ら均一かつ粗大で結晶欠陥が少ない再結晶組織に変化す
る。その結果、線材の表面は、半田付は時における半田
溶解速度が小さくなり、半田が酸化した下地層と接触し
ないようになるため、半田付は性に優れた特性を示すよ
うになる。
たは銀合金は、それまでの微細かつ不均一な結晶組織か
ら均一かつ粗大で結晶欠陥が少ない再結晶組織に変化す
る。その結果、線材の表面は、半田付は時における半田
溶解速度が小さくなり、半田が酸化した下地層と接触し
ないようになるため、半田付は性に優れた特性を示すよ
うになる。
熱処理は、500〜800℃の温度域で行うのが望まし
い、処理温度が500°C未満の場合は上記した銀また
は銀合金の再結晶組織が充分かつ迅速に成長することが
なく、またsoo’ct−超える場合は、下地層中への
銅の拡散が著しく進行し、銅の拡散により、銀または銀
合金の表面被覆層中のms度が高まって変色を招き、商
品価値の減退を引き起こすからである。また、熱処理時
間は、0.5〜10秒程度でよい。
い、処理温度が500°C未満の場合は上記した銀また
は銀合金の再結晶組織が充分かつ迅速に成長することが
なく、またsoo’ct−超える場合は、下地層中への
銅の拡散が著しく進行し、銅の拡散により、銀または銀
合金の表面被覆層中のms度が高まって変色を招き、商
品価値の減退を引き起こすからである。また、熱処理時
間は、0.5〜10秒程度でよい。
この熱処理は、大気のような酸化性雰囲気、水素のよう
な還元性雰囲気または窒素、アルボケのような不活性雰
囲気のいずれかの環境下で行えばよい。
な還元性雰囲気または窒素、アルボケのような不活性雰
囲気のいずれかの環境下で行えばよい。
第4工程は、第3工程で得られた処理線材に再び伸線加
工を施す工程である。
工を施す工程である。
この工程を経ることにより、銀または銀合金の被覆層は
加工硬化されてその機械的特性が向上する。
加工硬化されてその機械的特性が向上する。
この場合、加工率は15%以下に設定される。
このときの加工率が15%を超える場合は、表面被覆層
の銀または銀合金の再結晶Mi織は細かくなりすぎて表
面硬化が過度に進み、柔軟性が消失しはじめるからであ
る。しかし、加工率が過度に小さいと、表面硬化が不充
分になるので、加工率は5〜10%に管理することが好
ましい。
の銀または銀合金の再結晶Mi織は細かくなりすぎて表
面硬化が過度に進み、柔軟性が消失しはじめるからであ
る。しかし、加工率が過度に小さいと、表面硬化が不充
分になるので、加工率は5〜10%に管理することが好
ましい。
(実施例1)
線径0.8 wmの銅線に、スルファミン酸浴から下地
層としてNiを0.8R1、シアン−ストライク浴から
Ag−Inを中間層として0.05s、シアン厚メツキ
浴から被覆層としてAgを4.8−1順次連続的に電気
メツキした。(第1工程)この線材を伸線加工して線径
0.53mmにした。
層としてNiを0.8R1、シアン−ストライク浴から
Ag−Inを中間層として0.05s、シアン厚メツキ
浴から被覆層としてAgを4.8−1順次連続的に電気
メツキした。(第1工程)この線材を伸線加工して線径
0.53mmにした。
(第2工程)このときの加工率は55%である。
ついで、この線材を連続的に温度600°Cの窒素雰囲
気炉中に5秒間通して熱処理した(第3工程)のち、加
工率10%で伸線加工を行った。
気炉中に5秒間通して熱処理した(第3工程)のち、加
工率10%で伸線加工を行った。
(第4工程)
銀メツキ層の厚さ3μ、Ag In層の厚さ0.03
tna、Ni層の厚さ0.5μ、線径0.5 amの銀
被覆線材が得られた。
tna、Ni層の厚さ0.5μ、線径0.5 amの銀
被覆線材が得られた。
(実施例2)
中間層として、シアン−ストライク浴からAg−5μ合
金メツキを0.05Irm形威すること以外は実施例1
と同じ製造方法でリード線を製造した。
金メツキを0.05Irm形威すること以外は実施例1
と同じ製造方法でリード線を製造した。
(実施例3)
中間層として、シアン−ストライク浴からAg−Zn合
金メツキを0.05μ形戒すること以外は実施例1と同
じ製造方法でリード線を製造した。
金メツキを0.05μ形戒すること以外は実施例1と同
じ製造方法でリード線を製造した。
(実施例4)
中間層として、シアン、ストライク浴からAg−Cu合
金メツキを0.05x形戒すること以外は実施例1と同
じ製造方法でリード線を製造した。
金メツキを0.05x形戒すること以外は実施例1と同
じ製造方法でリード線を製造した。
(実施例5)
線径0.65 mrsの銅線に、下地層としてスルファ
ミン酸浴からNiを0.6 pva、中間層としてシア
ンストライク浴からAg−In合金を0.04m、被覆
層としてシアン−厚メンキ浴からAgを3.8−1順次
連続的に電気メツキした。この線材を伸線加工して、線
径0.53mにした。このときの加工率は34%である
。この線材に実施例1と同し第3.4工程を行った。
ミン酸浴からNiを0.6 pva、中間層としてシア
ンストライク浴からAg−In合金を0.04m、被覆
層としてシアン−厚メンキ浴からAgを3.8−1順次
連続的に電気メツキした。この線材を伸線加工して、線
径0.53mにした。このときの加工率は34%である
。この線材に実施例1と同し第3.4工程を行った。
銀メツキ層の厚さ3−1A3−1A層の厚さ0.03m
5Ni層の厚さ0.5m、線径0.5 tmの銀メンキ
線材が得られた。
5Ni層の厚さ0.5m、線径0.5 tmの銀メンキ
線材が得られた。
(実施例6)
中間層としてシアンストライク溶からAg−Pd合金メ
ツキを0.05n形戒すること以外は実施例1と同し製
造方法でリード線を製造した。
ツキを0.05n形戒すること以外は実施例1と同し製
造方法でリード線を製造した。
(比較例1)
線径0.53mmの銅線に、下地層としてスルファミン
酸浴からNiを0.5μ、中間層としてシアン−ストラ
イク浴からAg−Inを0.03m、被覆層としてシア
ン−厚メツキ浴からAgを3.2−1順次、連続的に電
気メツキした。この線材に実施例1と同じ第3,4の工
程を行った。
酸浴からNiを0.5μ、中間層としてシアン−ストラ
イク浴からAg−Inを0.03m、被覆層としてシア
ン−厚メツキ浴からAgを3.2−1順次、連続的に電
気メツキした。この線材に実施例1と同じ第3,4の工
程を行った。
銀メツキ層の厚さ3−1A3−1A層の厚さ0.03n
、Ni層の厚さ0.5−1線径0.5閣の銀被覆線材が
得られた。
、Ni層の厚さ0.5−1線径0.5閣の銀被覆線材が
得られた。
(比較例2)
熱処理を行わないこと以外は、実施例1と同じ製造方法
でリード線を製造した。
でリード線を製造した。
実施例1〜6、比較例1〜2で得られた線材につき、下
記仕様で、銀メツキ層の半田浴中への溶解速度および半
田付け90%以上の限界曲線を求め、それぞれの結果を
第1図、第2図に示した。
記仕様で、銀メツキ層の半田浴中への溶解速度および半
田付け90%以上の限界曲線を求め、それぞれの結果を
第1図、第2図に示した。
銀メツキ層のハンダ浴中への溶解速度:線材を溶解ハン
ダ(温度250°C)の中に2秒間浸漬し、そのときの
銀メツキ層のハンダへの溶解量(#)を測定して、浸漬
時間(分)で除して算出した。
ダ(温度250°C)の中に2秒間浸漬し、そのときの
銀メツキ層のハンダへの溶解量(#)を測定して、浸漬
時間(分)で除して算出した。
この値が小さいはど銀メツキ層のハンダ溶解性が小さい
、つまり、ハンダ濡れ状態が良いことを示す。
、つまり、ハンダ濡れ状態が良いことを示す。
半田付け90%以上の限界曲線:大気中において、線材
に各種の高温下で各種時間の熱劣化処理を施し、ついで
半田付けを行い、このときの半田濡れ面積比が90%以
上を示す場合における前記温度と時間の関係として示し
た。このときの加熱温度が高い線材は半田付は性に優れ
ている。
に各種の高温下で各種時間の熱劣化処理を施し、ついで
半田付けを行い、このときの半田濡れ面積比が90%以
上を示す場合における前記温度と時間の関係として示し
た。このときの加熱温度が高い線材は半田付は性に優れ
ている。
第1図、第2図から明らかなように本発明方法により得
た実施例1〜6の線材は半田浴中への銀層の溶解速度が
10■/分と小さくハンダ濡れ状態が良好であることを
示し、また半田付90%以上の限界曲線かられかるよう
に比較測高1〜2に比べて長時間高い温度で加熱しても
半田付濡れ面積比が90%以上であり半田付は性が優れ
ていることがわかる。
た実施例1〜6の線材は半田浴中への銀層の溶解速度が
10■/分と小さくハンダ濡れ状態が良好であることを
示し、また半田付90%以上の限界曲線かられかるよう
に比較測高1〜2に比べて長時間高い温度で加熱しても
半田付濡れ面積比が90%以上であり半田付は性が優れ
ていることがわかる。
以上述べた如く、本発明製造方法により得られた電子部
品および機器用リード線は、ハンダ濡れ性、半田付は性
に優れており、電子部品および機器用として優れた性能
を示し工業上顕著な効果を奏するものである。
品および機器用リード線は、ハンダ濡れ性、半田付は性
に優れており、電子部品および機器用として優れた性能
を示し工業上顕著な効果を奏するものである。
第1図は各実施例、比較例のハンダ浴中への銀層の溶解
速度を示す図であり、第2図は半田濡れ面積比90%以
上を示す限界曲線図である。
速度を示す図であり、第2図は半田濡れ面積比90%以
上を示す限界曲線図である。
Claims (6)
- (1) 表面がCuまたはCu合金からなる心材に、N
i、Co、Feまたはそれらの合金からなる下地層を設
け、その上に銀合金よりなる中間層を設け、更にその上
に銀又は銀合金被覆層を設ける工程と、得られた銀被覆
線材に30%以上の加工率で伸線加工を施す工程と、熱
処理を施す工程と、得られた熱処理銀被覆線材に15%
以下の加工率で伸線加工を施す工程とからなることを特
徴とする電子部品および機器用リード線の製造方法。 - (2) 中間層の銀合金が銀−インジウム合金であるこ
とを特徴とする請求項1記載の電子部品および機器用リ
ード線の製造方法。 - (3) 中間層の銀合金が銀−錫合金であることを特徴
とする請求項1記載の電子部品および機器用リード線の
製造方法。 - (4) 中間層の銀合金が銀−亜鉛合金であることを特
徴とする請求項1記載の電子部品および機器用リード線
の製造方法。 - (5) 中間層の銀合金が銀−鋼合金であることを特徴
とする請求項1記載の電子部品および機器用リード線の
製造方法。 - (6) 中間層の銀合金が銀−パラジウム合金であるこ
とを特徴とする請求項1記載の電子部品及び機器用リー
ド線の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18004089A JPH0344454A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 電子部品および機器用リード線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18004089A JPH0344454A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 電子部品および機器用リード線の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0344454A true JPH0344454A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16076433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18004089A Pending JPH0344454A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 電子部品および機器用リード線の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0344454A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005531911A (ja) * | 2002-07-02 | 2005-10-20 | マイクロセル コーポレーション | 耐食電流コレクタ付きのマイクロセル電気化学装置およびアセンブリ、ならびにその製造方法 |
US7491449B2 (en) * | 2006-02-24 | 2009-02-17 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Copper-silver alloy wire and method for manufacturing the same |
US8048584B2 (en) | 2003-03-07 | 2011-11-01 | Microcell Corporation | Fuel cell structures and assemblies |
US8168350B1 (en) | 2002-07-02 | 2012-05-01 | Microcell Corporation | Fuel cell structures and assemblies with channeled current collectors, and method of making the same |
-
1989
- 1989-07-12 JP JP18004089A patent/JPH0344454A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005531911A (ja) * | 2002-07-02 | 2005-10-20 | マイクロセル コーポレーション | 耐食電流コレクタ付きのマイクロセル電気化学装置およびアセンブリ、ならびにその製造方法 |
JP4783570B2 (ja) * | 2002-07-02 | 2011-09-28 | マイクロセル コーポレーション | 耐食電流コレクタ付きのマイクロセル電気化学装置およびアセンブリ、ならびにその製造方法 |
US8168350B1 (en) | 2002-07-02 | 2012-05-01 | Microcell Corporation | Fuel cell structures and assemblies with channeled current collectors, and method of making the same |
US8048584B2 (en) | 2003-03-07 | 2011-11-01 | Microcell Corporation | Fuel cell structures and assemblies |
US7491449B2 (en) * | 2006-02-24 | 2009-02-17 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Copper-silver alloy wire and method for manufacturing the same |
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