JPH0343415A - 硫黄含有ポリエステル樹脂 - Google Patents

硫黄含有ポリエステル樹脂

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JPH0343415A
JPH0343415A JP17993289A JP17993289A JPH0343415A JP H0343415 A JPH0343415 A JP H0343415A JP 17993289 A JP17993289 A JP 17993289A JP 17993289 A JP17993289 A JP 17993289A JP H0343415 A JPH0343415 A JP H0343415A
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JP
Japan
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dithiol
sulfur
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JP17993289A
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English (en)
Inventor
Masayasu Ohashi
大橋 昌康
Tadanori Fukuda
福田 忠則
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、硫黄含有ポリエステル樹脂に関し、耐熱性、
成形性ならびに機械的強度、特に高屈折率で耐光性に優
れているので、光学材料用樹脂として好適に用いられる
[従来の技術] 従来、透明で耐熱性に優れたポリエステル樹脂として、
テレフタル酸、イソフタル酸などのジカルボン酸ユニッ
トと、ビスフェノールA等のビスフェノールユニットか
らなる樹脂(ボリアリレート樹脂)は、特公昭40−1
959号公報などで古くから周知であり、これを光学部
材として用いることも特開昭54−110853号など
で知られている。一方、前記ジカルボン酸ユニットと、
芳香環を含むジチオールユニットからなるポリチオエス
テル樹脂についても周知である [Jou+nal of Polymer 5cien
ce : PolymerChemistry Edi
tion、 Vol、I4.p655(1976)参照
コ。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら特公昭40−1959などのポリエステル
樹脂はポリマは、ポリマの溶融温度が300℃に近い高
温であり、成形においては、さらに溶融高温を越えた高
温が要求され、光学部材等に要求される精密成形が困難
であった。一方、ジチオールユニットに芳香環を含有す
る従来公知のチオエステルにおいては、耐光性が極めて
悪いという光学部材として致命的な欠点があった。
本発明は、かかる従来技術の欠点を解消しようとするも
のであり、ボリアリレート樹脂の長所である優れた耐熱
性9機械的強度、およびポリチオエステル樹脂の長所で
ある高い屈折率を維持したままで、成形性を改善し、か
つ、耐光性にも優れた樹脂を提供することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本発明は、上記目的を達成するために下記の構成を有す
る。
「下記一般式(I)で示される化合物を主成分とするジ
カルボン酸成分と、下記一般式(II)で示される化合
物からなるジチオール成分との反応構成単位、および、 下記一般式(I)で示される化合物を主成分とするジカ
ルボン酸成分と、下記一般式(III)で示される化合
物を主成分としてなるジオール成分との反応構成単位 を主な構成単位としてなる硫黄含有ポリエステル樹脂で
あって、 該一般式(I)で示される化合物と反応する、一般式(
II)で示される化合物が、該ジチオール成分とジオー
ル酸分との合計成分中、20モル%以上、80モル%以
下を占めることを特徴とする硫黄含有ポリエステル樹脂
R35−Y−8R4 (II) (式中、Yは炭素数2〜12の脂肪族あるいは脂環族有
機基であって、Y中に−S−−5S−0−を含んでいて
もよい。Xは、01S1SO2、CO1アルキレン基お
よびアルキリデン基よりなる群から選ばれ、XI、I2
は、ハロゲンおよび炭素数1〜4の炭化水素基からなる
群から選ばれる。RI、R2は、ハロゲン、水酸基、炭
素数1〜4のアルコキシ基、フェノキシ基よりなる群か
ら選ばれ、R3、R4、R5、R6は、水素原子または
アセチル基を示す。mXnは、O〜4の整数を示す。)
」 すなわち、本発明の樹脂は、一般式(I)RICO−o
−、COR2(1) で示される化合物を主成分としてなるジカルボン酸成分
に対して、 一般式(II) R35−Y−8R4(II) で示されるジチオール化合物からなるジチオール成分を
反応させることにより得られる反応構成単位、すなわち
、下記式(IV)で示される構成単位−+c o −@
−c o −s −y −s +−(rv )および、 上記一般式(I)で示される化合物を主成分としてなる
ジカルボン酸成分に対して、 一般式(II[) で示される化合物を主成分とするジオール成分を反応さ
せることによって得られる反応構成単位、とを主な構成
単位としてなる樹脂であって、かつ、 上記式(I)の化合物と反応して、上記式(IV)の構
成単位を形成する上記(II)のチオール化合物が、ジ
チオール成分およびジオール成分の合計成分中、20モ
ル%以上、80モル%以下を占めていることが必要であ
る。
一般式(I)で示されるジカルボン酸化合物において、
R1、R2としては、C1l、メトキシ基、エトキシ基
、フェノキシ基などがあり、具体的な化合物としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸およびそれらの
ハロゲン化誘導体、メチルエステル等のアルキルエステ
ル誘導体、フェニルエステル等のアリールエステル誘導
体などが挙げられ、これらは単独でも2種以上を併用し
てもよい。
上記のジカルボン酸化合物以外のジカルボン酸成分とし
ては、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン
酸などの芳香族ジカルボン酸や、アジピン酸、セバシン
酸などの脂肪族ジカルボン酸およびそれらの反応性誘導
体などが挙げられる。
これらの一般式(I)以外のジカルボン酸は、全ジカル
ボン酸成分中30モル%以下、特に20モル%以下の割
合で含有されていることが、耐熱性と成形性のバランス
の点で好ましい。
一般式(II)において、Yは炭素数2〜12の脂肪族
有機基あるいは炭素数2〜12の脂環族有機基あって、
Y中に−S−−5S−または−〇−を含んでいてもよい
。R3、R4は、水素またはアセチル基である。具体的
化合物としては、1゜2−エタンジチオール、13−プ
ロパンジチオール、1.6−ヘキサンジチオール、1.
12−ドデカンジチオール、メルカプトメチルスルフィ
ド、2−メルカプトエチルスルフィド、3−メルカプト
プロピルスルフィド、6−メルカプトへキシルスルフィ
ド、2−メルカプトエチルジスルフィド、3−メルカプ
トプロピルジスルフィド、6−メルカプトへキシルジス
ルフィド、2−メルカプトエチルエーテル、3〜メルカ
プトプロピルエーテル、6−メルカプトヘキシルエーテ
ル、1.4−シクロヘキサンジチオールなどの脂肪族や
脂環族ジチオール化合物が挙げられる。
また、一般式(III)において、Xは、O,S。
SO2、CO1アルキレン基およびアルキリデン基より
なる群から選ばれ、XI、X2は、ハロゲンおよび炭化
水素基からなる群から選ばれる。m1nは0〜4の整数
を示す。ここで好ましいハロゲンとしては、塩素、臭素
等が挙げられ、好ましい炭化水素基の例としては、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基などの低級アルキル基
が挙げられる。また、R5、R6は、水素原子またはア
セチル基である。
一般式[III]で表されるビスフェノールの具体例と
しては、4.4’−ジヒドロキシ−ジフェノニルエーテ
ル、ビス(4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−エ
ーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)
−エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−サルフ
ァイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−スルホン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−メタン、ビス(4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)−メタン、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジクロロフェニル)−メタン、ビス(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)メタン、ビス(
4−ヒドロキシ−3,5ジフルオロフエニル)−メタン
、1,1−ビス(4ヒドロキシフエニル)−エタン、2
,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−
プロパン、2.2ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフ
ェニル)−プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジクロロフェニル)プロパン、1,1−ビス(
4−ヒドロキシフエニルー〇−ブタン、2,2−ビス(
4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン
、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−フェニルメタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−ジフェニルメタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−ジフェニルメタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル−4′−メチルフェニル
メタン、1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2
,2,2トリクロロエタン、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)4′−クロロフェニルメタン、1.1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキシルメタン、2.2
ビス(4−ヒドロキシナフチル)−プロパンなどおよび
以上の化合物のアセチル化物などが挙げられるが、もっ
とも−船釣に製造され代表的なものとしては、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンすなわちビス
フェノールAが挙げられる。これらのビスフェノール類
は2種類以上の混合物として用いてもよい。これらの一
般式(III)で示される化合物以外に、用いられるジ
オール成分としては、2価の化合物、例えば2,6−ジ
ヒドロキシナフタレンのごときジヒドロキシナフタレン
、ヒドロキノン、レゾルシノール、2,6−シヒドロキ
シトルエン、2.6−シヒドロキシクロロベンゼン、3
.6−シヒドロキシトルエンなどを使用することができ
る。さらには、下記一般式(VI)で示される脂肪族ジ
オールを用いることができる。
HO−X’ −OH(VI) (X゛は、炭素数2〜12で2価の脂肪族炭化水素基ま
たは脂環族炭化水素基である) 具体的化合物としては、例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール、トリメチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキ
サメチレングリコール、クロヘキサンジメチロールなど
を挙げることができる。
以上の一般式(III)以外のジオール成分としては、
全ジオール酸成分中、30モル%以下、特に20モル%
以下とすることが耐熱性と成形性の点で好ましい。
本発明の樹脂においては、一般式(I)で示される化合
物と反応する、一般式(II)で示されるジチオール化
合物が、一般式(II)で示される化合物からなるジチ
オール成分と、一般式(III)で示される化合物を主
成分としてなるジオール成分との同成分の合計中、20
モル%以上、80モル%以下を占めていることが必要で
ある。20モル%未満では成形加工性が不良であり、8
0モル%を越えると、耐熱性が低下する。
本発明の硫黄含有ポリエステルの製造方法としては、特
に制限を受けることなく種々の方法が採用できる。
例えば水と相溶性のない有機溶剤に溶解せしめたジカル
ボン酸クロライドとアルカリ水溶液に溶解せしめたジチ
オールおよびビスフェノール化合物とを混合反応せしめ
る界面重合法、ジカルボン酸クロライドとジチオールお
よびビスフェノール化合物とを有機溶媒中で反応せしめ
る溶液重合法、ジカルボン酸フェニルエステルとジチオ
ールおよびビスフェノール化合物を溶融状態で重合せし
める方性、ジカルボン酸とジチオールおよびビスフェノ
ール化合物のアセテートを溶融状態で重合せしめる方法
などの方法を挙げることができも。
この際通常の触媒、亜リン酸、リン酸またはこれらの誘
導体、離型剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤
などの無機及び有機化合物の添加剤を必要に応じて使用
することができる。
本発明の樹脂は、特定のジチオール化合物をボリアリレ
ート樹脂に共重合することによって、高い屈折率と優れ
た耐光性を同時に満足するうえに、汎用プラスチックな
みの5成形加工性とエンジニアリングプラスチックなみ
の耐熱性、耐薬品性、優れた機械的強度等を兼ね備えて
いる。そのため本発明の樹脂は、特に光学レンズ等の光
学材料として好適であるほか、包装材料、透明ボトル、
ケース、カバー類等広い分野で用いられる。
[実施例] 以下実施例をあげて本発明を説明する。
実施例中のガラス転移温度は、Dupont−990D
SCを用い、10’C/分の昇温速度で加熱することに
よって測定した値であり、屈折率はプルリッヒ屈折計を
用いて測定した。機械的強度は厚さ2 mmの成形板に
高さ127印より直径15.9mm、重さ16.2gの
鋼球を落下し、破損しなかったものを○、それ以外のも
のを×とした。
耐光性はフェードメータにて100時間暴露した後の黄
色度(YI)をカラーコンピューターを用いて、厚さ2
 mmの試験片について測定した。暴露前のYIから上
昇分(ΔYI)が5未満の場合を○、5以上の場合を×
とした。
実施例1 47g (0,5モル)の1,2−エタンジチオールと
114g (0,5モル)のビスフェノールA180g
の水酸化ナトリウム、0.8gのトリエチルベンジルア
ンモニウムクロライドを61の水に溶解した。
一方、101.5g (0,5モル)ずつのテレフタル
酸クロライドとイソフタル酸クロライドを31の塩化メ
チレンに溶解した。
前記ジチオールとビスフェノールのアルカリ水溶液を1
0℃に冷却し、ホモミキサーで激しく撹拌しながら、前
記酸クロライドの塩化メチレン溶液を滴下した。反応混
合物をひきつづき10°Cに保って1時間撹拌したとこ
ろポリマは粘稠物として析出した。上部水性層を除き、
下記塩化メチレン層を強く撹拌しながら、IOA’の水
で5回洗浄し、その後ポリマ溶液を塩化メチレン3Iで
希釈し濾過した。
この溶液をメタノール中に注入してポリマを分離し、こ
れを120’C12時間真空乾燥した。
かくして得られた硫黄含有ポリエステルについて、赤外
吸収特性を調べたところ、ビスフェノールAユニットと
結合したカルボニル基、およびジチオールユニットと結
合したカルボニル基の赤外吸収が、それぞれ1740 
cm−’および1660cm1に見られた。
得られた硫黄含有ポリエステルを280’Cで射出成形
し、厚み2mm、130mφの無色透明の成形板を得た
性能の測定結果を表1に示す。
実施例2 実施例1において、0.5モルの1.2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、ジチオ
ール酸分に46.2g (0,3モル)の2−メルカプ
トエチルスルフィドと、159.6g (0,7モル)
のビスフェノールAを用いた以外は実施例1と同様にし
て硫黄含有ポリエステルの無色透明の円板を得た。性能
の測定結果を表1に示す。
また、得られたポリマについての赤外吸収スペクトルを
第1図に示した。
実施例3 実施例1において、0.5モルの1.2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、77g
 (0,5モル)の2−メルカプトエチルスルフィドと
、114g (0,5モル)のビスフェノールAを用い
、射出成形温度を240°Cとした以外は、実施例1と
同様にして硫黄含有ポリエステルの無色透明の円板を得
た。性能の測定結果を表1に示す。
また、赤外吸収特性を調べたところ、実施例1と同様の
位置に吸収が見られた。
実施例4 実施例1において、0.5モルの1,2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、107
.8g (0,7モル)の2−メルカプトエチルスルフ
ィドと、68.4g (0,3モル)のビスフェノール
Aを用い、射出成形温度を220℃とした以外は、実施
例1と同様にして硫黄含有ポリエステルの無色透明の円
板を得た。性能の測定結果を表工に示す。
実施例5 実施例1において、0.5モルの1,2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、77g
 (0,5モル)の2−メルカプトエチルスルフィドと
、272g (0,5モル)のテトラブロモビスフェノ
ールAを用い、射出成形温度を290’Cとした以外は
、実施例1と同様にして硫黄含有ポリエステルの無色透
明の円板を得た。性能の測定結果を表1に示す。
また、このポリマの赤外吸収スペクトルを第2図に示し
た。
実施例6 実施例↓において、0.5モルの1,2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、77g
 (0,5モル)の2−メルカプトエチルスルフィドと
、153g (0,5モル)のビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)スルホンを用い、射出成形
温度を300°Cとした以外は、実施例1と同様にして
硫黄含有ポリエステルの無色透明の円板を得た。
性能の測定結果を表1に示す。
また、赤外吸収特性を調べたところ、実施例↓と同様の
位置に吸収が見られた。
実施例7 実施例1において、0.5モルの1.2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、74g
(0,5モル)の1.4−シクロヘキサンジチオールと
、114g (0,5モル)のビスフェノールAを用い
、射出成形温度を290°Cとした以外は、実施例1と
同様にして硫黄含有ポリエステルの無色透明の円板を得
た。性能の測定結果を表1に示す。
実施例1〜7で得られた成形品は、いずれも高い屈折率
と優れた耐光性を有し、耐熱性や耐衝撃性についても十
分なレベルであった。
また、赤外吸収特性を調べたところ、実施例↑と同様の
位置に吸収が見られた。
比較例↓ 実施例1において、0,5モルの1,2−エタンジチオ
ールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、71g
(0,5モル)の1,4−ベンゼンジチオールと114
g (0,5モル)のビスフェノールAを用い、射出成
形温度を320°Cとした以外は、実施例1と同様にし
て硫黄含有ポリエステルの黄色透明の円板を得た。
この円板は1.67と高屈折率を有し、耐熱性、耐衝撃
性にも優れているが、ポリマ自体が成形時の高熱によっ
て着色しやすいうえに、フェードメーターによる黄変が
著しいという欠点があった。
比較例2 実施例1において、0. 5モルの1,2−エタンジチ
オールと0.5モルのビスフェノールAに代えて、1.
0モルのビスフェノール八を用い、射出成形温度を36
0’Cとした以外は、実施例1と同様にして淡黄色透明
の円板を得た。
この円板は、1.61の屈折率を示したが、耐熱性が極
めて高いために、成形温度を360°Cまで上げなけれ
ば射出成形できず、高熱のため色調が低下するという問
題があった。
[発明の効果] 本発明の硫黄含有ポリエステル樹脂は、高い屈折率と優
れた耐光性を兼ね備え、軽量で耐熱性、耐衝撃性、機械
的強度にも優れている。そのため、光学レンズ等の光学
材料として特に好適であるほか、包装材料、透明ボトル
、ケース・カバー類等広い分野で用いられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明実施例3により得られた硫黄含有ポリ
エステル樹脂の赤外吸収スペクトルを示す。 第2図は、本発明実施例5により得られた硫黄含有ポリ
エステル樹脂の赤外吸収スペクトルを示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記一般式( I )で示される化合物を主成分と
    するジカルボン酸成分と、下記一般式(II)で示される
    化合物からなるジチオール成分との反応構成単位、およ
    び、 下記一般式( I )で示される化合物を主成分とするジ
    カルボン酸成分と、下記一般式(III)で示される化合
    物を主成分としてなるジオール成分との反応構成単位 を主な構成単位としてなる硫黄含有ポリエステル樹脂で
    あって、 該一般式( I )で示される化合物と反応する、一般式
    (II)で示される化合物が、該ジチオール成分とジオー
    ル成分との合計成分中、20モル%以上、80モル%以
    下を占めることを特徴とする硫黄含有ポリエステル樹脂
    。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Yは炭素数2〜12の脂肪族あるいは脂環族有
    機基であって、Y中に−S−、−SS−、−O−を含ん
    でいてもよい。Xは、O、S、SO_2、CO、アルキ
    レン基およびアルキリデン基よりなる群から選ばれ、X
    _1、X_2は、ハロゲンおよび炭素数1〜4の炭化水
    素基からなる群から選ばれる。R^1、R^2は、ハロ
    ゲン、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェノキ
    シ基よりなる群から選ばれ、R^3、R^4、R^5、
    R^6は、水素原子またはアセチル基を示す。m、nは
    、0〜4の整数を示す。)
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201276A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Mitsui Chemicals Inc ポリエステル樹脂、及びそれを含んで構成される光学部品
WO2002072670A1 (fr) * 2001-03-09 2002-09-19 Mitsui Chemicals, Inc. Elements optiques et (co)polymere poly(thio)ester contenant du soufre
KR20200087615A (ko) * 2019-01-11 2020-07-21 주식회사 엘지화학 폴리에스테르계 공중합체 및 이를 포함하는 광학 부재

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