JPH0343413A - 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
Landscapes
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、絶縁特性特に金属のマイグレーションの抑制
に優れたエポキシ樹脂組成物に関する。
に優れたエポキシ樹脂組成物に関する。
電子機器の小型化3高性能化に伴い、その中に搭載され
る印刷配線板は高多層化、スルーホールの小径化及び穴
間隔の減少などによる高密度化が進行している。このた
め、これまであまり問題とならなかった印刷配線板の電
気絶縁特性に対する要求は厳しくなっている。
る印刷配線板は高多層化、スルーホールの小径化及び穴
間隔の減少などによる高密度化が進行している。このた
め、これまであまり問題とならなかった印刷配線板の電
気絶縁特性に対する要求は厳しくなっている。
エポキシ樹脂は、印刷配vA板の絶縁材料として従来か
ら広く使用されてきた。しかしながら、この高密度化に
伴い、エポキシ樹脂を用いた印刷配線板は金属マイグレ
ーションによる絶縁不良や導通破壊が発生しやすいと言
う問題が生してきた。
ら広く使用されてきた。しかしながら、この高密度化に
伴い、エポキシ樹脂を用いた印刷配線板は金属マイグレ
ーションによる絶縁不良や導通破壊が発生しやすいと言
う問題が生してきた。
金属マイグレーションとは、絶縁材料上または絶縁材料
内の配線や回路パターンあるいは電極などを構成する金
属が、高湿度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上
または絶縁材料内を移行する現象である。
内の配線や回路パターンあるいは電極などを構成する金
属が、高湿度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上
または絶縁材料内を移行する現象である。
また、エポキシ樹脂の硬化剤として従来から用いられて
いるジシアンジアミドはエポキシ樹脂との相溶性が悪く
プリプレグとした場合乙こ、ジシアンジアミドが析出す
る可能性が高く、しかもこの硬化系による印刷配線板は
軟化温度が低いなどの理由により、ドリル加工時に内層
回路銅に樹脂が付着するスミアが発生し易く、気中での
長期耐熱性にも劣る。
いるジシアンジアミドはエポキシ樹脂との相溶性が悪く
プリプレグとした場合乙こ、ジシアンジアミドが析出す
る可能性が高く、しかもこの硬化系による印刷配線板は
軟化温度が低いなどの理由により、ドリル加工時に内層
回路銅に樹脂が付着するスミアが発生し易く、気中での
長期耐熱性にも劣る。
これらの問題を解決する樹脂系として多官能性フェノー
ル樹脂で硬化させたエポキシ樹脂がある。
ル樹脂で硬化させたエポキシ樹脂がある。
この硬化系による印刷配線板は、ジシアンジアミド硬化
系に比べてスミアの発生が半分以下となり気中での長期
耐熱性も2倍以上に向上する。
系に比べてスミアの発生が半分以下となり気中での長期
耐熱性も2倍以上に向上する。
しかしながら、いずれの硬化系でも金属マイグレーショ
ンの発生が懸念されており、特にジシアンジアミド硬化
系では吸湿性が高いため金属マイグレーションが発生し
易い。
ンの発生が懸念されており、特にジシアンジアミド硬化
系では吸湿性が高いため金属マイグレーションが発生し
易い。
マイグレーション防止に優れた樹脂としては、トリアジ
ン樹脂が挙げられるが、成形時の硬化収縮が大きいこと
、接着性が低いこと、硬くもろいことなどの欠点を有し
ている。また、特開昭63−54300号公報に示され
るようなエポキシ樹脂にマイグレーション防止剤として
トリアジン化金物を添加する方法では、トリアジン化合
物を均一に分散させることが難しく、特性に大きなばら
つきが生じる。
ン樹脂が挙げられるが、成形時の硬化収縮が大きいこと
、接着性が低いこと、硬くもろいことなどの欠点を有し
ている。また、特開昭63−54300号公報に示され
るようなエポキシ樹脂にマイグレーション防止剤として
トリアジン化金物を添加する方法では、トリアジン化合
物を均一に分散させることが難しく、特性に大きなばら
つきが生じる。
本発明は、かかる状況に鑑みなされたもので、印刷配線
板の材料に適用した場合に、相溶性がよく、金属との接
着性も良好で優れた電気絶縁特性を与えるエポキシ樹脂
組成物を提供するものである。
板の材料に適用した場合に、相溶性がよく、金属との接
着性も良好で優れた電気絶縁特性を与えるエポキシ樹脂
組成物を提供するものである。
すなわち、本発明のエポキシ樹脂組成物は、(a)エポ
キシ樹脂 (b)多官能性フェノール樹脂 (c)硬化促進剤 (d)還元剤および (e)尿素化合物 を必須成分として配合することを特長とする。
キシ樹脂 (b)多官能性フェノール樹脂 (c)硬化促進剤 (d)還元剤および (e)尿素化合物 を必須成分として配合することを特長とする。
以下本発明の詳細な説明する。
(a)のエポキシ樹脂としては、多官能であればどのよ
うなものでもよく、例えばビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、タレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールAノボラック型エポキシ樹脂、ピスフ占ノールF
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、グリシシルア旦ン型エ
ポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌ
レート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂および
それらのハロゲン化物、水素添加物などがあり、分子量
はどのようなものでもよく、また何種類かを併用するこ
ともできる。
うなものでもよく、例えばビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、タレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールAノボラック型エポキシ樹脂、ピスフ占ノールF
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、グリシシルア旦ン型エ
ポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌ
レート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂および
それらのハロゲン化物、水素添加物などがあり、分子量
はどのようなものでもよく、また何種類かを併用するこ
ともできる。
(b)の多官能性フェノール樹脂としては、1分子中に
官能基が2個以上ありエポキシ樹脂と反応するものであ
れば特に制約はなく、例えばビスフェノールA1ビスフ
エノールF2ポリビニルフエノール、またはフェノール
、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビス
フェノールA1ビスフエノールFなどのノボラック樹脂
およびこれらのフェノール樹脂のハロゲン化物などがあ
る。
官能基が2個以上ありエポキシ樹脂と反応するものであ
れば特に制約はなく、例えばビスフェノールA1ビスフ
エノールF2ポリビニルフエノール、またはフェノール
、クレゾール、アルキルフェノール、カテコール、ビス
フェノールA1ビスフエノールFなどのノボラック樹脂
およびこれらのフェノール樹脂のハロゲン化物などがあ
る。
これらフェノール樹脂は何種類かを併用することもでき
る。配合量は、エポキシ基に対してフェノール性水酸基
が0.5〜1.5当量の範囲であることがドリル加工性
の点から好ましい。
る。配合量は、エポキシ基に対してフェノール性水酸基
が0.5〜1.5当量の範囲であることがドリル加工性
の点から好ましい。
(C)の硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、有
機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩な
どが用いられるが、イミノ基をアクリロニトリル、イソ
シアネート、メラミンアクリレートなどでマスク化され
たイミダゾール化合物を用いると、従来の2倍以上の保
存安定性を持つプリプレグを得ることができる。
機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩な
どが用いられるが、イミノ基をアクリロニトリル、イソ
シアネート、メラミンアクリレートなどでマスク化され
たイミダゾール化合物を用いると、従来の2倍以上の保
存安定性を持つプリプレグを得ることができる。
ここで用いられるイミダゾール化合物としては、イミダ
ゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウ
ンデシルイミ・ダゾール、l−ベンジル−2−メチルイ
ごダゾール、2−ヘブタデシルイξダゾール、4.5−
ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2
−フェニルイミダシリン、2−ウンデシルイミダシリン
、2〜ヘプタデシルイミダシリン、2−イソプロピルイ
ミダゾール、2.4−ジメチルイミダゾール、2−フェ
ニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダプリ
ン、2−イソプロピルイ旦ダブリン、2.4−ジメチル
イ砧ダブリン、2−フェニル−4−メチルイミダプリン
などがあり、マスク化剤としては、アクリロニトリル、
フェニレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネー
ト、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメメチレンジ
イソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート
、メラミンアクリレートなどがある。
ゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウ
ンデシルイミ・ダゾール、l−ベンジル−2−メチルイ
ごダゾール、2−ヘブタデシルイξダゾール、4.5−
ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2
−フェニルイミダシリン、2−ウンデシルイミダシリン
、2〜ヘプタデシルイミダシリン、2−イソプロピルイ
ミダゾール、2.4−ジメチルイミダゾール、2−フェ
ニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダプリ
ン、2−イソプロピルイ旦ダブリン、2.4−ジメチル
イ砧ダブリン、2−フェニル−4−メチルイミダプリン
などがあり、マスク化剤としては、アクリロニトリル、
フェニレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネー
ト、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメメチレンジ
イソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート
、メラミンアクリレートなどがある。
これらの硬化促進剤は何種類かを併用してもよく、配合
量はエポキシ樹a= t o o重量部に対して0.0
1〜5重量部が好ましい、0.01重量部より少ないと
促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定性が悪
くなる。
量はエポキシ樹a= t o o重量部に対して0.0
1〜5重量部が好ましい、0.01重量部より少ないと
促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定性が悪
くなる。
(d)の還元剤としては、フェノール系、硫黄系、リン
系還元剤などが用いられるが、フェノール系還元剤を用
いると、ドリル加工性などの他の特性を低下させること
なく電気絶縁特性を向上させることができる。フェノー
ル系還元剤としては、1゜2.3−)リヒドロキシベン
ゼン、ブチル化ヒドロキシアニソール、24−ジ−セー
ブチル−4エチルフエノールなどのモノフェノール系や
22′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−第三ブチ
ルフェノール)、4.4’ −チオビス−(3−メチル
−6−第三−ブチルフェノール)などのビスフェノール
系及び1,3.5−トリメチル−2,4,6−)リス(
3,5−ジー第三−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、テトラキス−〔メチレン−3−(3’、5’
−ジー第三−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネートコメタンなどの高分子型フェノール系があ
る。硫黄系還元剤としては、ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジステアリルチオジプロピネートなどがある。
系還元剤などが用いられるが、フェノール系還元剤を用
いると、ドリル加工性などの他の特性を低下させること
なく電気絶縁特性を向上させることができる。フェノー
ル系還元剤としては、1゜2.3−)リヒドロキシベン
ゼン、ブチル化ヒドロキシアニソール、24−ジ−セー
ブチル−4エチルフエノールなどのモノフェノール系や
22′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−第三ブチ
ルフェノール)、4.4’ −チオビス−(3−メチル
−6−第三−ブチルフェノール)などのビスフェノール
系及び1,3.5−トリメチル−2,4,6−)リス(
3,5−ジー第三−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、テトラキス−〔メチレン−3−(3’、5’
−ジー第三−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネートコメタンなどの高分子型フェノール系があ
る。硫黄系還元剤としては、ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジステアリルチオジプロピネートなどがある。
リン系還元剤としては、トリフェニルホスファイト、ジ
フェニルイソデシルホスファイトなどがある。これらの
還元剤は何種類かを併用してもよく、配合量はエポキシ
樹脂100重量部に対して0.1〜20重量部が好まし
い。0.1重量部以下では絶縁特性の向上はみられず、
20重量部以上では逆に絶縁特性は低下する傾向を示す
。
フェニルイソデシルホスファイトなどがある。これらの
還元剤は何種類かを併用してもよく、配合量はエポキシ
樹脂100重量部に対して0.1〜20重量部が好まし
い。0.1重量部以下では絶縁特性の向上はみられず、
20重量部以上では逆に絶縁特性は低下する傾向を示す
。
(e)の尿素化合物としては
R’OR”
(ここでR,R’ 、R’ 、R”は水素、アルキル基
、アルカンを含む置換基、アルケンを含む置換基、シア
ノ基、ニトロ基、フェニル基などの芳香環を含む置換基
、イミダゾールなどの複素環を含む置換基)の構造をも
つもので、具体的には尿素、N−モノアルキル尿素、N
、N−ジアルキル尿素、N N’−ジアルキル尿素、
N−アリル尿素、ジアセチル尿素、ジベンゾイル尿素、
ヘンゼンスルホニル尿素、P−トルエンスルホニル尿素
、トリアルキル尿素、テトラアルキル尿素、フェニル尿
素、ジフェニル尿素、N−P−エトキシフェニル−N’
−ビニル尿素、ニトロソ尿素、ビラレア、ビウレット、
グアニル尿素、ヒダントイン、r −カルバミルプロピ
ルトリエトキシシラン、その化ウレイド化合物、イソ尿
素化合物、セミカルバジド化合物などがの鎖状、環状化
合物がある。
、アルカンを含む置換基、アルケンを含む置換基、シア
ノ基、ニトロ基、フェニル基などの芳香環を含む置換基
、イミダゾールなどの複素環を含む置換基)の構造をも
つもので、具体的には尿素、N−モノアルキル尿素、N
、N−ジアルキル尿素、N N’−ジアルキル尿素、
N−アリル尿素、ジアセチル尿素、ジベンゾイル尿素、
ヘンゼンスルホニル尿素、P−トルエンスルホニル尿素
、トリアルキル尿素、テトラアルキル尿素、フェニル尿
素、ジフェニル尿素、N−P−エトキシフェニル−N’
−ビニル尿素、ニトロソ尿素、ビラレア、ビウレット、
グアニル尿素、ヒダントイン、r −カルバミルプロピ
ルトリエトキシシラン、その化ウレイド化合物、イソ尿
素化合物、セミカルバジド化合物などがの鎖状、環状化
合物がある。
これら尿素化合物は2種以上併用してもよい。
配合量はエポキシ樹脂100重量部に対し0.1〜10
重量部である。0.1重量部よりすくないと銅箔引き剥
がし強さなどの接着力が十分でなく、10重量部を越え
るとドリル加工性等の耐熱性性が低下する。
重量部である。0.1重量部よりすくないと銅箔引き剥
がし強さなどの接着力が十分でなく、10重量部を越え
るとドリル加工性等の耐熱性性が低下する。
本発明に係るエポキシ樹脂組成物は各種の形態で利用に
供されるが基材に塗布、含浸する際にはしばしば溶剤が
用いられる。それらの溶剤としては、アセトン、メチル
エチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、N、 N−ジメチルボルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、メタノール、エタノールなどがあ
り、これらは何種類かを混合して用いてもよい。
供されるが基材に塗布、含浸する際にはしばしば溶剤が
用いられる。それらの溶剤としては、アセトン、メチル
エチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、N、 N−ジメチルボルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、メタノール、エタノールなどがあ
り、これらは何種類かを混合して用いてもよい。
前記(a)〜(e)を配合して得たワニスはガラス布、
ガラス不織布または紙、ガラス以外を成分とする布等の
基材に含有機、乾燥炉中で80〜200 ’Cの範囲で
乾燥させることにより、印刷配線板用プリプレグを得る
。プリプレグは150〜190’C,20〜80kgf
/CJの範囲で加熱加圧して印刷配線板または金属張積
層板(以下MCLと称する)を製造することに用いられ
る。
ガラス不織布または紙、ガラス以外を成分とする布等の
基材に含有機、乾燥炉中で80〜200 ’Cの範囲で
乾燥させることにより、印刷配線板用プリプレグを得る
。プリプレグは150〜190’C,20〜80kgf
/CJの範囲で加熱加圧して印刷配線板または金属張積
層板(以下MCLと称する)を製造することに用いられ
る。
ここでの乾燥とは、溶剤を使用した場合には溶剤を除去
すること、溶剤を使用しない場合には室温で流動性がな
くなるようにすることをいう。
すること、溶剤を使用しない場合には室温で流動性がな
くなるようにすることをいう。
以下、実施例に基づき更に本発明を説明する。
実施例1
臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂100重量部
(エポキシ当量530)
フェノールノボラック樹脂 20重量部(水酸基当
量106) ヘキサメチレンジイソシアネートでマスクした2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール 0.5重量部 ピロガロール 0.5重量部尿素
2重量部上記化合物をメチルエ
チルケトンに溶解し、不揮発分70%のワニスを作製し
た。
量106) ヘキサメチレンジイソシアネートでマスクした2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール 0.5重量部 ピロガロール 0.5重量部尿素
2重量部上記化合物をメチルエ
チルケトンに溶解し、不揮発分70%のワニスを作製し
た。
実施例2
実施例1におけるフェノールノボラック樹脂のかわりに
ビスフェノールAノボラック樹脂(水酸基当量114)
を22重量部配合した。
ビスフェノールAノボラック樹脂(水酸基当量114)
を22重量部配合した。
実施例3
実施例1におけるヘキサメチレンジイソシアネートでマ
スクした、2−エチル−4−メチルイミダゾールのかわ
りにマスクされていない2−エチル−4メチルイミダゾ
ールを0.2重量部配合した。
スクした、2−エチル−4−メチルイミダゾールのかわ
りにマスクされていない2−エチル−4メチルイミダゾ
ールを0.2重量部配合した。
実施例4
実施例1におけるピロガロールのかわりに4゜4′−ブ
チリデンビス(3−メチル−6−ターシャリブチルフェ
ノール)を0.5重量部配合した。
チリデンビス(3−メチル−6−ターシャリブチルフェ
ノール)を0.5重量部配合した。
実施例5
実施例1におけるピロガロールのかわりに、l。
1.3−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t
−ブチルフェニル)ブタンを0.5重量部配合した。
−ブチルフェニル)ブタンを0.5重量部配合した。
実施例6
実施例1におけるピロガロールのかわりに、テトラキス
〔メチレン−3−(3’ 、5’−ジ−t−ブチル−4
′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタンを0
.5重量部配合した。
〔メチレン−3−(3’ 、5’−ジ−t−ブチル−4
′−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタンを0
.5重量部配合した。
実施例7
実施例1におけるピロガロールのかわりに、ジラウリル
チオプロピオネートを0.5重量部配合した。
チオプロピオネートを0.5重量部配合した。
実施例8
実施例1におけるピロガロールのかわりに、トリフェニ
ルホスファイトを0.5重量部配合した。
ルホスファイトを0.5重量部配合した。
実施例9
実施例1におけるピロガロールのかわりに、4゜4′−
ブチリデンビス(3−メチル−6−ターシャリブチルフ
ェノール)を0.25重量部と、ジラウリルチオプロピ
オネートを0.25重量部配合した。
ブチリデンビス(3−メチル−6−ターシャリブチルフ
ェノール)を0.25重量部と、ジラウリルチオプロピ
オネートを0.25重量部配合した。
実施例10
実施例1における尿素にかえてN、 N−ジメチル尿素
を5重量部配合した。
を5重量部配合した。
実施例11
実施例1における尿素にかえてビウレットを2重量部配
合した。
合した。
実施例12
実施例1における尿素にかえてγ−カルバξルトリエト
キシシランを2重量部配合した。
キシシランを2重量部配合した。
実施例13
実施例1における尿素にかえて5.5−、ジメチルヒダ
ントインを3重量部配合した。
ントインを3重量部配合した。
比較例1
実施例1においてピロガロールを配合しなかった。
比較例2
実施例1において尿素を配合しなかった。
比較例3
比較例1におけるフェノールノボラック樹脂のかわりに
ジシアンシアミドを4重量部配合し、溶剤としてエチレ
ングリコールモノメチルエーテルを更に加えた。
ジシアンシアミドを4重量部配合し、溶剤としてエチレ
ングリコールモノメチルエーテルを更に加えた。
実施例1〜13.比較例1〜3で得たワニスを0.2閣
厚のガラス布に含浸後、140°Cで5〜IO分間加熱
してプリプレグを得た。
厚のガラス布に含浸後、140°Cで5〜IO分間加熱
してプリプレグを得た。
このようにして得られたプリプレグ8枚の両側に18μ
m厚の銅箔を配置し、170″C190分50kg/c
fflのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。この
MCLに回路加工を施し、マイグレーション試験を行っ
た。スルーホール穴あけは0.9■径のドリルを用いて
回転数60.00Orpm、送り速度1. 800am
/m i nの条件で行った。
m厚の銅箔を配置し、170″C190分50kg/c
fflのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。この
MCLに回路加工を施し、マイグレーション試験を行っ
た。スルーホール穴あけは0.9■径のドリルを用いて
回転数60.00Orpm、送り速度1. 800am
/m i nの条件で行った。
穴壁間隔は350μmとじ、各試料について400穴(
スルーホール/スルーホール間200ケ所)の絶縁抵抗
を経時的に測定した。試験条件は、85°C/90%R
H雰囲気中toov印加して行い、スルーホール/スル
ーホール間に導通破壊が発生するまでの日数を測定した
。また、絶縁抵抗の測定は100V/1m1nで行った
。
スルーホール/スルーホール間200ケ所)の絶縁抵抗
を経時的に測定した。試験条件は、85°C/90%R
H雰囲気中toov印加して行い、スルーホール/スル
ーホール間に導通破壊が発生するまでの日数を測定した
。また、絶縁抵抗の測定は100V/1m1nで行った
。
はんだ耐熱試験は、両面エツチングを施したMCLを2
60°Cのはんだに20秒間浸漬後、外観を目視により
評価し、ふくれのないものをOK、ふくれのあるものを
NGとした。
60°Cのはんだに20秒間浸漬後、外観を目視により
評価し、ふくれのないものをOK、ふくれのあるものを
NGとした。
プリプレグのゲルタイムは160 ”Cで測定し、塗工
直後のプリプレグと、20’C/40%RHで60日間
保管後のプリプレグのゲルタイムを測定することにより
プリプレグの保存安定性を評価した。結果を表1に示す
。
直後のプリプレグと、20’C/40%RHで60日間
保管後のプリプレグのゲルタイムを測定することにより
プリプレグの保存安定性を評価した。結果を表1に示す
。
外層銅箔の引き剥がし強さは、外層UAIvt3上に1
−幅のラインを形成し、そのラインの90”方向の引き
剥がし強さを50mm/分の引き剥がし速度で測定した
。
−幅のラインを形成し、そのラインの90”方向の引き
剥がし強さを50mm/分の引き剥がし速度で測定した
。
また内N銅箔引き剥がし強さは、内層銅箔の光沢面に粗
化処理を行い、その酸化銅処理面とプリプレグ層との引
き剥がし強さを同様の条件で測定した。
化処理を行い、その酸化銅処理面とプリプレグ層との引
き剥がし強さを同様の条件で測定した。
耐塩酸試験は1m幅のラインを形成した配線基板を35
°Cの18%塩酸に60分間浸漬したものの引き剥がし
強さを測定した。
°Cの18%塩酸に60分間浸漬したものの引き剥がし
強さを測定した。
還元剤を配合した実施例1〜13は60日を過ぎても導
通破壊せず、比較例1,2に比べて高い絶縁特性を示し
た。特にフェノール系の還元剤を用いた系は60日口の
絶縁抵抗値も高い値を示した。また尿素化合物をした系
では銅箔引き剥がし強さも良好であった。
通破壊せず、比較例1,2に比べて高い絶縁特性を示し
た。特にフェノール系の還元剤を用いた系は60日口の
絶縁抵抗値も高い値を示した。また尿素化合物をした系
では銅箔引き剥がし強さも良好であった。
以上の説明から明らかなように本発明のエポキシ樹脂組
成物は、従来技術に比べて印刷配線板の材料に応用した
場合、金属マイグレーションの発生を抑え、電気絶縁特
性を向上させるものである。
成物は、従来技術に比べて印刷配線板の材料に応用した
場合、金属マイグレーションの発生を抑え、電気絶縁特
性を向上させるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)エポキシ樹脂 (b)多官能性フェノール樹脂 (c)硬化促進剤 (d)還元剤および (e)尿素化合物 を必須成分とするエポキシ樹脂組成物 2、還元剤がフェノール系還元剤である請求項1に記載
のエポキシ樹脂組成物。 3、硬化促進剤がイミノ基をマスクしたイミダゾール化
合物である請求項1または2に記載のエポキシ樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1179482A JPH0759626B2 (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1179482A JPH0759626B2 (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0343413A true JPH0343413A (ja) | 1991-02-25 |
JPH0759626B2 JPH0759626B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=16066609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1179482A Expired - Fee Related JPH0759626B2 (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0759626B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06345883A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-20 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用プリプレグの製造方法 |
EP0870805A3 (en) * | 1997-04-07 | 2000-02-09 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Epoxy composition for printed circuit boards |
US7758951B2 (en) | 2004-03-04 | 2010-07-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Prepreg, metal-clad laminate and printed circuit board using same |
WO2013001726A1 (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-03 | 住友ベークライト株式会社 | プリプレグ、積層板、半導体パッケージおよび積層板の製造方法 |
JP2015524865A (ja) * | 2012-08-02 | 2015-08-27 | アルツケム アクチエンゲゼルシャフトAlzChem AG | エポキシ樹脂を硬化させるための液状硬化剤(ii) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200156A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-04 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JPS62161817A (ja) * | 1986-01-10 | 1987-07-17 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
-
1989
- 1989-07-12 JP JP1179482A patent/JPH0759626B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7871694B2 (en) | 2004-03-04 | 2011-01-18 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Prepreg, metal-clad laminate and printed circuit board using same |
WO2013001726A1 (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-03 | 住友ベークライト株式会社 | プリプレグ、積層板、半導体パッケージおよび積層板の製造方法 |
JPWO2013001726A1 (ja) * | 2011-06-28 | 2015-02-23 | 住友ベークライト株式会社 | プリプレグ、積層板、半導体パッケージおよび積層板の製造方法 |
JP2015524865A (ja) * | 2012-08-02 | 2015-08-27 | アルツケム アクチエンゲゼルシャフトAlzChem AG | エポキシ樹脂を硬化させるための液状硬化剤(ii) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0759626B2 (ja) | 1995-06-28 |
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